[發(fā)明專利]一種高阻隔耐刮擦雙向拉伸聚酰胺薄膜及其制備方法

有效

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• 申請日: 2019-10-17
• 公開（公告）號: CN110641118B
• 公開（公告）日: 2021-07-27
• 發(fā)明（設計）人: 林新土;陳曦;賈露;李智堯;劉運錦;鄭偉;廖貴何
• 申請（專利權）人: 廈門長塑實業(yè)有限公司
• 主分類號: B32B27/34
• 分類號: B32B27/34;B32B27/08;B32B27/18;B32B33/00;B32B37/00;B32B38/00;C08L77/02;C08L77/00;C08K9/06;C08K3/22;C08K3/36;C08K7/00;C08K3/34;C08L77/06
• 代理公司: 廈門加減專利代理事務所(普通合伙) 35234
• 代理人: 楊澤奇

本發(fā)明涉及軟包裝材料技術領域，特別涉及一種高阻隔耐刮擦雙向拉伸聚酰胺薄膜及其制備方法。其中，高阻隔耐刮擦雙向拉伸聚酰胺薄膜包括阻隔涂層和基材層，阻隔涂層與基材之間設置有底涂層；基材層包括由上至下依次為A、B、C三層共擠雙向拉伸聚酰胺薄膜組成。本發(fā)明提供的高阻隔耐刮擦雙向拉伸聚酰胺薄膜，具有優(yōu)異的氧氣阻隔性能，且抗劃傷性能良好，特別適用于高阻隔氧氣要求的產品包裝，可以進一步擴大聚酰胺薄膜的應用領域，具有重要的實際應用價值。

技術領域

本發(fā)明涉及軟包裝材料技術領域，特別涉及一種高阻隔耐刮擦雙向拉伸聚酰胺薄膜及其制備方法。

背景技術

聚酰胺薄膜是一種非常堅韌的薄膜，具有拉伸強度大、阻隔性高、耐穿刺性優(yōu)良及耐熱性和耐寒性好等優(yōu)點，因此被廣泛應用于食品包裝、電子包裝、醫(yī)藥包裝等眾多行業(yè)和領域。

隨著人們對包裝要求的不斷提高，不斷減少防腐劑等的添加，對薄膜阻隔性能的要求越來越高。但是聚酰胺薄膜的阻隔性能在所有阻隔材料中屬于中等水平，在一些要求較高的特殊領域依然無法滿足實際的需要。另外，聚酰胺薄膜的制造及下游加工應用過程中不可避免的存在反復收卷、放卷、分切、搬運等過程及人工操作等，易造成劃痕刮痕等損傷，從而影響薄膜的外觀，也有可能影響薄膜的性能。

專利CN 103350545A，公開日為2013年10月16日，公布了一種五層共擠EVOH高阻隔尼龍復合薄膜，該復合膜雖有高的阻氧性能，但是使用的EVOH樹脂全部依賴進口，不僅價格昂貴，且復合膜的整體加工難度較大。而在尼龍中添加填料雖然可以在一定程度上提高阻氧性能，但是也存在填料在尼龍基體中較難分散的問題。

發(fā)明內容

為解決上述背景技術中提到的問題，本發(fā)明提供一種高阻隔耐刮擦雙向拉伸聚酰胺薄膜，包括阻隔涂層和基材層；

所述阻隔涂層與基材之間設置有底涂層；

所述基材層包括由上至下依次為A、B、C三層共擠雙向拉伸聚酰胺薄膜組成；

所述A層和C層均由37％～84.5％尼龍，10％～30％無定型尼龍，5％～30％納米粘土改性尼龍母粒，0.5％～3％防粘母料；

所述B層包括40％～75％的尼龍6和尼龍66組成的共聚物，20％～30％的MXD6和5％～30％納米粘土改性MXD6母粒；

所述阻隔涂層包含92％～98.55％聚乙烯醇乳液，0.05％～1％的分散劑，0.5％～3％的改性層狀雙氫氧化物，0.5％～1.5％的納米二氧化硅，0.3％～1.5％的有機微球和0.1％～1％的引發(fā)劑。

在上述技術方案的基礎上，進一步地，所述底涂層中由10％～30％的可聚合單體，0.5％～3％的可溶性金屬鹽，0.5％～1％的引發(fā)劑和66％～89％的溶劑組成；所述可聚合單體為丙烯酸酯單體和丙烯酸的混合物。

具體地，所述丙烯酸酯單體為甲基丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二甲基丙烯酸酯、三甘醇二甲基丙烯酸酯、二甲基丙烯酸酯、丙烯酸酯中的至少一種。

具體地，所述所溶性金屬鹽為可溶性鎂鹽、可溶性鈣鹽、可溶性鐵鹽、可溶性鋅鹽、可溶性銅鹽和可溶性銀鹽的至少一種。

在上述技術方案的基礎上，進一步地，所述基材層的厚度為12～25μm，所述A層和C層厚度均為2～4μm，所述A和C層至少一面進行電暈處理后，其電暈值＞50dyn；所述的底涂層厚度為0.5～2μm，所述的阻隔涂層厚度為1～3μm。

在上述技術方案的基礎上，進一步地，所述防粘母料為含有開口劑、爽滑劑和分散劑的改性尼龍母粒。

在上述技術方案的基礎上，進一步地，所述納米粘土改性尼龍母粒為無機納米粒子和未改性的層狀親水納米粘土復合改性尼龍；所述納米粘土改性MXD6母粒為無機納米粒子和未改性的層狀親水納米粘土復合改性MXD6。