[發明專利]具有透明電極的顯示基板及其制備方法

在審

• 申請號: 201910976234.2
• 申請日: 2019-10-15
• 公開（公告）號: CN110808266A
• 公開（公告）日: 2020-02-18
• 發明（設計）人: 張愉
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電技術有限公司
• 主分類號: H01L27/32
• 分類號: H01L27/32;H01L27/15
• 代理公司: 深圳翼盛智成知識產權事務所(普通合伙) 44300
• 代理人: 李漢亮

1.一種具有透明電極的顯示基板，其特征在于，包括：

透明基板，所述透明基板設置有圖案化的孔道；

透明電極，包括MXene材料和聚乙烯吡咯烷酮的復合材料，所述透明電極填充于所述圖案化的孔道內。

2.根據權利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述透明基板為柔性玻璃基板、可熔性聚四氟乙烯基板或柔性聚酰亞胺基板。

3.根據權利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述MXene材料為二維二碳化三鈦或者二維碳化鈦。

4.一種具有透明電極的顯示基板的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：

步驟1、提供刻蝕液，加入MAX材料至所述刻蝕液中，得到含有多層MXene材料的第一懸濁液；

步驟2、將二甲基亞砜加入所述第一懸濁液中，得到單層MXene材料；

步驟3、將所述單層MXene材料加入聚乙烯吡咯烷酮溶液中，得到第二懸濁液；

步驟4、在透明基板的圖案化的孔道內加入所述第二懸濁液，加熱固化，形成透明電極。

5.根據權利要求4所述的制備方法，其特征在于，所述步驟1中還包括加入MAX材料至所述刻蝕液中進行攪拌，然后對所述蝕刻后的MAX材料進行洗滌，所述刻蝕液為氫氟酸水溶液。

6.根據權利要求5所述的制備方法，其特征在于，所述刻蝕液的攪拌溫度為20～80℃，攪拌時間為6～20h。

7.根據權利要求5所述的制備方法，其特征在于，所述洗滌是用去除氧的去離子水將所述蝕刻后的MAX材料洗滌至pH值為6～7。

8.根據權利要求4所述的制備方法，其特征在于，所述步驟2中還包括對所述多層MXene材料進行單層剝離和洗滌。

9.根據權利要求4所述的制備方法，其特征在于，所述單層MXene材料的厚度為2nm。

10.根據權利要求4所述的制備方法，其特征在于，所述步驟4中所述孔道是通過利用光刻或者模板劑占位的方式制得。