[發(fā)明專利]基于光熱電效應(yīng)的圓偏振光的探測器、系統(tǒng)及制備方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910974043.2
• 申請日: 2019-10-14
• 公開（公告）號: CN110646093B
• 公開（公告）日: 2021-06-29
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 楊培志;馬春陽;楊雯;杜凱翔;楊德威;鄧書康;吳紹華
• 申請（專利權(quán)）人: 云南師范大學(xué)
• 主分類號: G01J4/04
• 分類號: G01J4/04
• 代理公司: 重慶萃智邦成專利代理事務(wù)所(普通合伙) 50231
• 代理人: 舒夢來

本發(fā)明涉及一種基于光熱電效應(yīng)的圓偏振光的探測器、系統(tǒng)及制備方法，具體而言涉及圓偏振光測量領(lǐng)域，當(dāng)光照射到該接電帶表面時，由于該接電帶一端設(shè)置有金屬膜，另一端未設(shè)置金屬膜，則該接電帶兩端會產(chǎn)生溫度差，又由于該金屬膜與電極電連接，從而該接電帶兩端會形成電流，并且，由于該多個相互平行的孔洞與接電帶的夾角小于90度，則左旋圓偏振光和右旋圓偏振光與該接電帶產(chǎn)生的共振情況不同，即當(dāng)左旋圓偏振光和右旋圓偏振光照射到該接電帶上，該接電帶產(chǎn)生的電信號不同，通過電信號就可以簡單的區(qū)分出照射帶該接電帶上的光是左旋圓偏振光或右旋圓偏振光。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及圓偏振光測量領(lǐng)域，具體而言，涉及一種基于光熱電效應(yīng)的圓偏振光的探測器、系統(tǒng)及制備方法。

背景技術(shù)

圓偏振光是光矢量端點的軌跡為一圓，即光矢量不斷旋轉(zhuǎn)，其大小不變，但方向隨時間有規(guī)律地變化的光，圓偏振光分為左圓偏振光和右圓偏振光。

現(xiàn)有技術(shù)對判斷圓偏振光屬于左圓偏振光或者右圓偏振光的方法是通過-電矢量的旋轉(zhuǎn)方向來進(jìn)行判斷的，其中，電矢量順時針旋轉(zhuǎn)的稱右旋橢圓偏振光，凡逆時針旋轉(zhuǎn)的稱左旋橢圓偏振光。

但是，現(xiàn)有技術(shù)中，需要通過精密的光學(xué)儀器獲取圓偏振光的電矢量的旋轉(zhuǎn)方向，進(jìn)而判斷圓偏振光屬于左圓偏振光或者右圓偏振光，此方法因為需要用到精密的光學(xué)儀器，成本較高。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于，針對上述現(xiàn)有技術(shù)中的不足，提供一種基于光熱電效應(yīng)的圓偏振光的探測器、系統(tǒng)及制備方法，以解決現(xiàn)有技術(shù)中，需要通過精密的光學(xué)儀器獲取圓偏振光的電矢量的旋轉(zhuǎn)方向，進(jìn)而判斷圓偏振光屬于左圓偏振光或者右圓偏振光，因為需要用到精密的光學(xué)儀器，成本較高的問題。

為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明實施例采用的技術(shù)方案如下：

第一方面，本發(fā)明實施例提供了一種基于光熱電效應(yīng)的圓偏振光的探測器，探測器包括：接電帶、金屬膜和電極；

接電帶的一端挖設(shè)多個相互平行的孔洞和一個貫穿所有相互平行的孔洞的槽，多個相互平行的孔洞與接電帶的夾角小于90度，槽與接電帶的上下平面均平行，接電帶挖設(shè)孔洞和槽的一端上還覆蓋一層金屬膜，接電帶的另一端設(shè)置有電極，金屬膜與電極電連接。

可選地，該探測器還包括擋光層，擋光層設(shè)置在接電帶未設(shè)置金屬膜的一端。

可選地，該擋光層的材料為氧化鈦和炭黑中任意一種。

可選地，該金屬膜的材料包括：金、銀和鉬中至少一種。

可選地，該接電帶的材料為絕緣材料。

可選地，該探測器還包括金屬顆粒層，金屬顆粒層設(shè)置在孔洞和槽的底部。

第二方面，本發(fā)明實施例提供了另一種基于光熱電效應(yīng)的圓偏振光的探測器系統(tǒng)，系統(tǒng)包括：電流測量裝置和權(quán)利要求1-6任意一項的基于光熱電效應(yīng)的圓偏振光的探測器，電流測量裝置的正極和負(fù)極分別與接電帶兩端的金屬膜和電極電連接。

可選地，該電流測量裝置包括：電流表、電壓表和電能表中任意一種。

第三方面，本發(fā)明實施例提供了另一種基于光熱電效應(yīng)的圓偏振光的探測器制備方法，制備方法包括：

使用離子束刻蝕法在接電帶上刻蝕多個相互平行的孔洞和一個貫穿所有孔洞的槽；

使用電子束蒸發(fā)鍍膜法在接電帶上具有槽和孔洞的一端鍍金屬膜；

使用電子束蒸發(fā)鍍膜法在接電帶的另一端鍍金屬節(jié)，將金屬節(jié)作為電極。

可選地，該使用電子束蒸發(fā)鍍膜法在接電帶上具有槽和孔洞的一端鍍金屬膜的步驟，包括：

使用電子束蒸發(fā)鍍膜法垂直于接電帶，對接電帶具有槽和孔洞的一端鍍金屬膜；