[發明專利]一種芯片生產用離子注入設備有效
| 申請號: | 201910946233.3 | 申請日: | 2019-10-03 |
| 公開(公告)號: | CN110600354B | 公開(公告)日: | 2021-12-28 |
| 發明(設計)人: | 馮聰 | 申請(專利權)人: | 山東昆仲信息科技有限公司 |
| 主分類號: | H01J37/317 | 分類號: | H01J37/317;H01L21/67 |
| 代理公司: | 山東誠杰律師事務所 37265 | 代理人: | 王志強 |
| 地址: | 276000 山東*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 芯片 生產 離子 注入 設備 | ||
1.一種芯片生產用離子注入設備,包括:殼體(1),其特征在于:所述殼體(1)內部下端固定安裝有支撐架(2),支撐架(2)的上端固定安裝有固定殼(3),固定殼(3)內部的下端固定安裝有固定塊(4),固定塊(4)上表面的凸出處滑動連接有活動柱(5),所述固定殼(3)的內部固定安裝有刻度板(6),刻度板(6)的正面滑動搭接有活動桿(7),活動桿(7)的兩端固定安裝有兩個相對稱的卡球(8),所述活動桿(7)的上端固定安裝有離子發生器(9),離子發生器(9)的上端貫穿并延伸至固定殼(3)的外部,離子發生器(9)的上端固定安裝有固定板(10),固定板(10)的兩端通過密封球(11)螺紋連接有噴射殼(12),噴射殼(12)的兩端固定安裝有噴射頭(13),所述噴射殼(12)內腔的中部固定安裝有固定橫桿(14),所述殼體(1)的內壁固定安裝有兩個相對稱的噴氣管(15),所述固定橫桿(14)位于離子發生器(9)的正上方,且固定橫桿(14)的直徑小于離子發生器(9)的直徑,所述噴氣管(15)位于殼體(1)的內壁呈向下傾斜三十至四十五度,且噴氣管(15)內填充氮氣,所述殼體(1)的上端活動安裝有上蓋,上蓋的下端活動安裝有半導體,半導體位于離子發生器(9)的正上方,所述固定橫桿(14)的直徑與噴射殼(12)中部的內直徑相適配,所述噴射頭(13)位于噴射殼(12)上呈傾斜向固定橫桿(14)的一端傾斜,所述活動桿(7)下端的背面固定安裝有固定條,刻度板(6)的正面開有與活動桿(7)相適配的滑道。
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