[發(fā)明專利]靜電吸盤系統(tǒng)、成膜裝置、被吸附體分離方法、成膜方法及電子器件的制造方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910896704.4
• 申請日: 2019-09-23
• 公開（公告）號: CN110938806A
• 公開（公告）日: 2020-03-31
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 柏倉一史;石井博
• 申請（專利權(quán)）人: 佳能特機(jī)株式會社
• 主分類號: C23C14/50
• 分類號: C23C14/50;C23C14/24;C23C14/04;H01L51/56;H01L21/683
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進(jìn)委員會專利商標(biāo)事務(wù)所 11038
• 代理人: 劉楊

1.一種靜電吸盤系統(tǒng)，其特征在于，

該靜電吸盤系統(tǒng)包括：

靜電吸盤，包括多個電極部；

電壓施加部，用于對所述靜電吸盤的所述電極部施加電壓；以及

電壓控制部，用于控制基于所述電壓施加部的電壓施加，

所述電壓控制部對所述電壓施加部進(jìn)行控制，以對吸附有第1被吸附體并隔著所述第1被吸附體吸附有第2被吸附體的所述靜電吸盤的所述多個電極部分別獨(dú)立地施加用于使所述第2被吸附體從所述第1被吸附體分離的第1分離電壓。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的靜電吸盤系統(tǒng)，其特征在于，

所述電壓控制部對所述電壓施加部進(jìn)行控制，以在通過施加所述第1分離電壓而使所述第2被吸附體分離之后，對所述多個電極部分別獨(dú)立地施加使所述第1被吸附體從所述靜電吸盤分離的第2分離電壓。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的靜電吸盤系統(tǒng)，其特征在于，

所述第1分離電壓是在維持第1被吸附體吸附于所述靜電吸盤的狀態(tài)下僅使所述第2被吸附體從所述第1被吸附體分離的電壓。

4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的靜電吸盤系統(tǒng)，其特征在于，

所述第1分離電壓的絕對值大于所述第2分離電壓的絕對值。

5.根據(jù)權(quán)利要求2～4中任一項(xiàng)所述的靜電吸盤系統(tǒng)，其特征在于，

所述第2分離電壓是電壓值為零或者與使所述第1被吸附體以及所述第2被吸附體吸附于所述靜電吸盤時的吸附電壓相反極性的電壓。

6.根據(jù)權(quán)利要求2～5中任一項(xiàng)所述的靜電吸盤系統(tǒng)，其特征在于，

在對所述多個電極部分別獨(dú)立地施加所述第1分離電壓時，進(jìn)行控制，以使所述第1分離電壓分別向所述多個電極部施加的施加時期不同。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的靜電吸盤系統(tǒng)，其特征在于，

所述第1分離電壓分別向所述多個電極部施加的施加時期的控制為，進(jìn)行控制，以與對所述多個電極部分別施加使所述第2被吸附體隔著所述第1被吸附體吸附時的吸附電壓的順序相同的順序，對所述多個電極部分別施加所述第1分離電壓。

8.根據(jù)權(quán)利要求2～7中任一項(xiàng)所述的靜電吸盤系統(tǒng)，其特征在于，

在對所述多個電極部分別獨(dú)立地施加所述第1分離電壓時，進(jìn)行控制，以使對所述多個電極部分別施加的所述第1分離電壓的大小不同。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的靜電吸盤系統(tǒng)，其特征在于，

對所述多個電極部分別施加的第1分離電壓的大小的控制為，進(jìn)行控制，以在所述第1分離電壓為與所述吸附電壓相同極性的電壓的情況下，按照對所述多個電極部分別施加使所述第2被吸附體隔著所述第1被吸附體吸附時的吸附電壓的順序，對所述多個電極部中的先被施加了使所述第2被吸附體隔著所述第1被吸附體吸附時的吸附電壓的電極部，施加絕對值較小的電壓。

10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的靜電吸盤系統(tǒng)，其特征在于，

對所述多個電極部分別施加的第1分離電壓的大小的控制為，進(jìn)行控制，以在所述第1分離電壓相對于所述吸附電壓為相反極性的電壓的情況下，按照對所述多個電極部分別施加使所述第2被吸附體隔著所述第1被吸附體吸附時的吸附電壓的順序，對所述多個電極部中的先被施加了使所述第2被吸附體隔著所述第1被吸附體吸附時的吸附電壓的電極部，施加絕對值較大的電壓。

11.根據(jù)權(quán)利要求2～10中任一項(xiàng)所述的靜電吸盤系統(tǒng)，其特征在于，

在對所述多個電極部分別獨(dú)立地施加所述第2分離電壓時，進(jìn)行控制，以使所述第2分離電壓向所述多個電極部分別施加的施加時期不同。