[發(fā)明專利]諧振器及其制造方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910851524.4
• 申請(qǐng)日: 2019-09-10
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN110635775B
• 公開(kāi)（公告）日: 2023-09-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 唐濱;王家友;王友良;賴志國(guó);唐兆云;楊清華
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 蘇州漢天下電子有限公司
• 主分類號(hào): H03H3/02
• 分類號(hào): H03H3/02;H03H9/02;H03H9/17
• 代理公司: 北京藍(lán)智輝煌知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11345
• 代理人: 陳紅

1.一種諧振器，包括：

第一電極，位于基板上；

壓電層，位于第一電極上；

第二電極，位于壓電層上；

框架，位于第二電極上方，框架的厚度沿垂直方向漸變，框架具有采用熱退火、氧化/氮化、或各向同性蝕刻形成的圓化側(cè)壁或橢圓化側(cè)壁、且曲率從下至上依次增大，框架與第二電極材料相同且一體形成。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的諧振器，其中，基板中具有空腔。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的諧振器，其中，框架內(nèi)邊界沿水平方向向內(nèi)延伸超過(guò)空腔邊界。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的諧振器，其中，框架內(nèi)邊界與空腔邊界水平距離為0.1～10微米。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的諧振器，其中，框架外邊界與內(nèi)邊界之間的寬度為0.2～20微米。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的諧振器，其中，框架厚度為10～500nm。

7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的諧振器，其中，空腔內(nèi)填充保護(hù)性氣體或惰性氣體或?yàn)檎婵铡?/p>

8.根據(jù)權(quán)利要求2所述的諧振器，其中，基板頂部具有凹凸結(jié)構(gòu)并填充與空腔內(nèi)相同的氣體或?yàn)檎婵铡?/p>

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的諧振器，其中，第一電極及第二電極材質(zhì)為同種或不同種的難熔導(dǎo)電金屬。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的諧振器，其中，第一電極或第二電極為單種金屬或者多層金屬組合。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的諧振器，其中，框架的材質(zhì)為導(dǎo)電材料。

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的諧振器，其中，框架與第一或第二電極的夾角為15～60度。

13.一種諧振器制造方法，包括步驟：

在基板上形成第一電極；

在第一電極上形成壓電層；

在壓電層上形成第二電極；

其中，在形成第二電極之后在第二電極上形成框架，框架的厚度沿垂直方向漸變，框架具有采用熱退火、氧化/氮化、或各向同性蝕刻形成的圓化側(cè)壁或橢圓化側(cè)壁、且曲率從下至上依次增大，框架與第二電極材料相同且一體形成。

14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的諧振器制造方法，其中，調(diào)節(jié)光刻膠形貌，使得框架與第一或第二電極之間的夾角為15～60度。