[發明專利]一種不銹鋼高反射率的反射片及其加工工藝

在審

• 申請號: 201910829905.2
• 申請日: 2019-09-04
• 公開（公告）號: CN110488403A
• 公開（公告）日: 2019-11-22
• 發明（設計）人: 曾忠國
• 申請（專利權）人: 東莞市利錦電子有限公司
• 主分類號: G02B5/08
• 分類號: G02B5/08;C23C14/35;C23C14/16;C21D1/18
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種不銹鋼高反射率的反射片，包括不銹鋼基材（1），其特征在于，所述不銹鋼基材（1）的頂端為不銹鋼拋光表面（2），所述不銹鋼拋光表面（2）的頂部設有光學反射層（3），所述不銹鋼基材（1）的底端設有高散熱、高磁屏蔽、低電阻層（4）。

2.根據權利要求1所述的一種不銹鋼高反射率的反射片，其特征在于：所述光學反射層（3）從內向外依次通過設有的第一真空鍍鈦膜（5）、第一真空鍍銀膜（6）和真空光學多層鍍膜（7）組成，所述真第一空鍍鈦膜（5）、第一真空鍍銀膜（6）和真空光學多層鍍膜（7）的厚度分別為：0.003-0.005μm、0.003-0.005μm和1-2μm。

3.根據權利要求1所述的一種不銹鋼高反射率的反射片，所述高散熱、高磁屏蔽、低電阻層（4）從內向外依次通過設有的第二真空鍍鈦膜（8）、第二真空鍍銀膜（9）、真空鍍銅膜（10）和真空鍍鎳膜（11）組成，所述第二真空鍍鈦膜（8）、第二真空鍍銀膜（9）、真空鍍銅膜（10）和真空鍍鎳膜（11）的厚度分別為：0.003-0.005μm、0.003-0.005μm、1-3μm和0.003-0.005μm。

4.一種用于權利要求1所述的不銹鋼高反射率的反射片的加工工藝，其特征在于，具體步驟如下：

S1：取出雜質等影響反射物質；

S2：熱處理取出材料內應力，首先將材料在450～650℃的溫度下預熱0.5～2小時，再加熱到950～1050℃后，淬火處理，隨后以500～650℃的溫度，回火1～3小時；

S3：卷材平面連續拋光平面連續拋光：利用自由散粒磨料在反射片被加工面及磨盤基面上相對運動，使反射片表面變得非常高的平整度及光滑度；

S4：真空鍍銀

磁控濺射方式鍍銀，將膜材涂層材料做為靶陰極，利用氬離子轟擊銀靶材，產生陰極濺射，把靶材原子濺射到工件上形成銀沉積層；

S5：真空鍍多層光學膜

在高真空的條件下加熱反射片，使光學材料蒸發并凝結于反射片表面。