[發(fā)明專利]版圖修正方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910809085.0
• 申請(qǐng)日: 2019-08-29
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN110515267B
• 公開(kāi)（公告）日: 2023-08-18
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉洋;劉建忠;顧曉敏
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海華力微電子有限公司
• 主分類號(hào): G03F1/72
• 分類號(hào): G03F1/72;G03F1/36
• 代理公司: 上海思微知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 31237
• 代理人: 曹廷廷

本發(fā)明提供了一種版圖修正方法，包括：獲取原始版圖，原始版圖中包括至少兩個(gè)目標(biāo)圖案，目標(biāo)圖案中包括有第一圖形和第二圖形，第一圖形為條形結(jié)構(gòu)，第一圖形和第二圖形連接，目標(biāo)圖案的第一圖形的一側(cè)或兩側(cè)設(shè)置有另一目標(biāo)圖案的第二圖形，并且，目標(biāo)圖案的第二圖形與另一目標(biāo)圖案的第二圖形間隔設(shè)置；在目標(biāo)圖案第一圖形靠近第二圖形的側(cè)邊上添加至少一個(gè)修正圖形，或者，在另一目標(biāo)圖案中與目標(biāo)圖案第一圖形所緊鄰的邊緣處，挖除至少一個(gè)圖形。采用本發(fā)明提供的版圖修正方法修正完成后，所制作出的掩膜版可以增加曝光的工藝窗口，有效地避免了斷線或粘連等工藝缺陷，從而確保了最終形成在基底上的實(shí)際圖案不會(huì)失真。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種版圖修正方法。

背景技術(shù)

在半導(dǎo)體器件的制造過(guò)程中，通常會(huì)基于掩膜版對(duì)半導(dǎo)體基底進(jìn)行曝?光處理，從而將掩膜版上的圖案轉(zhuǎn)移到半導(dǎo)體基底上，以便后續(xù)通過(guò)對(duì)半?導(dǎo)體基底執(zhí)行顯影、刻蝕等步驟。

但是相關(guān)技術(shù)中，掩膜版上一般包括有多個(gè)目標(biāo)圖案，每個(gè)目標(biāo)圖案?具體包括兩個(gè)圖形，例如參考圖1中的目標(biāo)圖案A，包括有第一圖形A1?和第二圖形A2，所述第一圖形A1為長(zhǎng)條形，以及，所述第一圖形A1與?第二圖形A2連接，并且，第二圖形A2與第一圖形A1兩者的寬度相差較?大。與此同時(shí)，所述目標(biāo)圖案A的第一圖形A1的一側(cè)相鄰設(shè)置有另一目?標(biāo)圖案B，并且，相鄰目標(biāo)圖案之間的間距較小，例如圖1中目標(biāo)圖案A?的第一圖形A1與相鄰的另一目標(biāo)圖案B的第二圖形B2相距較近。

則在此基礎(chǔ)上，基于所述掩膜版上的圖案對(duì)半導(dǎo)體基底進(jìn)行曝光時(shí)，?由于每個(gè)目標(biāo)圖案的第一圖形的寬度較小，且與第二圖形的寬度相差較大，?則光線在第二圖形與第一圖形的連接處極易發(fā)生光學(xué)鄰近效應(yīng)(Optical?Proximity?Effect，OPE)而導(dǎo)致的光能分配不均的問(wèn)題，從而造成最終在基?底上形成的實(shí)際圖案中的第一圖形與第二圖形的連接處出現(xiàn)斷線現(xiàn)象；同?時(shí)，由于目標(biāo)圖案A的第一圖形A1與另一目標(biāo)圖案B的第二圖形B2相距較近，則會(huì)導(dǎo)致最終形成在半導(dǎo)體基底上的實(shí)際圖案中第一圖形A1與?第二圖形B2黏連在一起，從而使得最終形成在半導(dǎo)體基底上的實(shí)際圖形嚴(yán)?重失真。

因此，亟需一種合適的版圖修正方法來(lái)對(duì)原始版圖進(jìn)行修正，補(bǔ)償失?真圖形的光強(qiáng)，以便基于修正后的版圖曝光后可以有效避免斷線或粘連等?工藝問(wèn)題，同時(shí)改善目標(biāo)圖案的工藝窗口。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的在于提供一種版圖修正方法，以制造出可以補(bǔ)償失真圖?形的掩膜版。

為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種版圖修正方法，所述方法包括：

獲取原始版圖，所述原始版圖中包括至少兩個(gè)目標(biāo)圖案，所述目標(biāo)圖?案中包括有第一圖形和第二圖形，第一圖形為條形結(jié)構(gòu)，所述第一圖形和?所述第二圖形連接，所述目標(biāo)圖案的第一圖形的一側(cè)或兩側(cè)設(shè)置有另一目?標(biāo)圖案的第二圖形，并且，所述目標(biāo)圖案的第二圖形與所述另一目標(biāo)圖案?的第二圖形間隔設(shè)置；

在所述目標(biāo)圖案第一圖形靠近第二圖形的側(cè)邊上添加至少一個(gè)修正圖?形，以增加所述目標(biāo)圖案中第一圖形靠近所述第二圖形部分的寬度尺寸，?或者，在所述另一目標(biāo)圖案中與所述目標(biāo)圖案第一圖形所緊鄰的邊緣處，?挖除至少一個(gè)圖形，以增加所述另一目標(biāo)圖案與所述目標(biāo)圖案之間的間距。

可選的，所述第一圖形與所述第二圖形的連接處位于所述第二圖形的?邊緣部位，或者，位于所述第二圖形的非邊緣部位。

可選的，將所述第一圖形遠(yuǎn)離所述第二圖形一側(cè)的邊長(zhǎng)的延伸方向定?義為第一方向，以及，所述第二圖形在第一方向上的寬度尺寸與所述第一?圖形在第一方向上的寬度尺寸之比小于等于10，大于等于5。

可選的，將所述第一圖形遠(yuǎn)離所述第二圖形一側(cè)的邊長(zhǎng)的延伸方向定?義為第一方向，將所述第一圖形側(cè)邊的延伸方向定義為第二方向；

以及，在所述目標(biāo)圖案第一圖形靠近第二圖形的側(cè)邊上添加至少一個(gè)?修正圖形的方法包括：