[發明專利]成像薄膜及電子設備殼體

在審

• 申請號: 201910791738.7
• 申請日: 2019-08-26
• 公開（公告）號: CN112505806A
• 公開（公告）日: 2021-03-16
• 發明（設計）人: 劉立冬;宋忠陽;包衛英;江州
• 申請（專利權）人: 昇印光電（昆山）股份有限公司
• 主分類號: G02B3/00
• 分類號: G02B3/00;G02B30/27
• 代理公司: 北京匯思誠業知識產權代理有限公司 11444
• 代理人: 王剛;龔敏

1.一種成像薄膜，其特征在于，包括本體，所述本體具有相背對的兩側，其中一側形成有聚焦層，另一側形成有圖文層；

所述圖文層存在漸變，所述圖文層與所述聚焦層相適配，以通過所述聚焦層形成影像，且所述影像具有漸變效果。

2.根據權利要求1所述的成像薄膜，其特征在于，所述圖文層具有多個微圖文，每個所述微圖文存在漸變和/或多個所述微圖文在所述圖文層中的分布存在漸變。

3.根據權利要求2所述的成像薄膜，其特征在于，所述微圖文包括凹槽結構和/或凸起結構，所述凹槽結構和/或所述凸起結構形成所述微圖文。

4.根據權利要求3所述的成像薄膜，其特征在于，所述凹槽結構填充有填充物，填充有填充物的所述凹槽結構形成所述微圖文。

5.根據權利要求4所述的成像薄膜，其特征在于，所述填充物的顏色存在漸變。

6.根據權利要求3所述的成像薄膜，其特征在于，多個所述微圖文中的所述凹槽結構在所述圖文層中的占空比、凹陷深度、凹陷開口大小、分布周期和分布密度中的一種或多種存在變化設置。

7.根據權利要求3所述的成像薄膜，其特征在于，多個所述微圖文中的所述凸起結構在所述圖文層中的凸出高度、凸出面積大小、分布周期和分布密度中的一種或多種存在變化設置。

8.根據權利要求3所述的成像薄膜，其特征在于，所述凹槽結構的內表面和/或所述凸起結構的外表面設置有鍍膜層。

9.根據權利要求4所述的成像薄膜，其特征在于，所述填充物的外表面和/或所述凸起結構的外表面設置有鍍膜層。

10.根據權利要求2所述的成像薄膜，其特征在于，所述微圖文通過鍍膜方式形成。

11.根據權利要求10所述的成像薄膜，其特征在于，所述微圖文包括凹槽結構，所述凹槽結構填充有填充物，所述填充物通過鍍膜方式填充于所述凹槽結構中。

12.根據權利要求10所述的成像薄膜，其特征在于，所述微圖文包括凸起結構，所述凸起結構通過鍍膜方式形成。

13.根據權利要求1-12中任一項所述的成像薄膜，其特征在于，所述聚焦層和所述圖文層分別采用一種或多種聚合物制成。

14.根據權利要求1-12中任一項所述的成像薄膜，其特征在于，所述本體還包括間隔層，所述聚焦層和所述圖文層分別設置于所述間隔層的兩側。

15.根據權利要求14所述的成像薄膜，其特征在于，所述間隔層和所述聚焦層分別采用一種或多種聚合物制成，所述間隔層和所述圖文層分別采用一種或多種聚合物制成。

16.根據權利要求1-12中任一項所述的成像薄膜，其特征在于，所述漸變的種類包括顏色的漸變、灰度的漸變、透過率的漸變、反射率的漸變和明暗的漸變中的一種或幾種。

17.根據權利要求2-12中任一項所述的成像薄膜，其特征在于，所述聚焦層具有多個聚焦單元，所述聚焦單元與所述微圖文相適配。

18.根據權利要求17所述的成像薄膜，其特征在于，所述聚焦單元為柱面鏡、微透鏡和菲涅爾透鏡中的一種或幾種。

19.根據權利要求17所述的成像薄膜，其特征在于，相鄰兩個所述聚焦單元之間為無間隔設置或有間隔設置。

20.一種電子設備殼體，其特征在于，包括基層和粘結于所述基層上的成像薄膜，所述成像薄膜為如權利要求1-19任一項所述的成像薄膜；

所述成像薄膜還包括設置于所述聚焦層上的反射層、設置于所述反射層上的著色層和設置于所述圖文層上的粘膠層；

所述成像薄膜通過所述粘膠層粘結于所述基層上。