[發(fā)明專利]一種藍色絕緣聚酯薄膜及其加工方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910762415.5
• 申請日: 2019-08-19
• 公開（公告）號: CN110370762B
• 公開（公告）日: 2021-04-20
• 發(fā)明（設計）人: 彭齊飛
• 申請（專利權(quán)）人: 福建百宏高新材料實業(yè)有限公司
• 主分類號: B32B27/06
• 分類號: B32B27/06;B32B27/36;B32B27/20;B32B33/00;B29D7/01;C08G63/183;C08G63/86
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本發(fā)明涉及一種藍色絕緣聚酯薄膜及其加工方法，將表層，中間層以及底層的原料通過三層共擠雙向拉伸工藝制備出藍色絕緣聚酯薄膜；所述的表層，中間層與底層的原料均為藍色聚酯切片，絕緣聚酯切片以及PET切片的混合物，三者的質(zhì)量比為1:1:2。本申請藍色絕緣聚酯薄膜通過采用三層復合膜結(jié)構(gòu)，利用不同膜材料中薄膜的不同特性，實現(xiàn)其有色和絕緣的設置；利用納米無機材料本身優(yōu)異的顯色效果，通過納米材料的納米結(jié)構(gòu)效應，使納米材料在聚酯薄膜中具有優(yōu)異的淡藍色效果。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及聚酯薄膜生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，具體的說，是一種藍色絕緣聚酯薄膜及其加工方法。

背景技術(shù)

當前，國內(nèi)的廣大薄膜生產(chǎn)企業(yè)，主要以生產(chǎn)低檔BOPET聚酯薄膜材料為主，產(chǎn)品技術(shù)含量低，創(chuàng)新性不強，與國外產(chǎn)品相比，市場競爭力顯然不夠。目前，國外在聚酯薄膜生產(chǎn)研發(fā)方面，技術(shù)較為成熟，產(chǎn)品檔次較高，像美國杜邦、英國ICI、日本三菱等幾家跨國公司生產(chǎn)的聚酯薄膜產(chǎn)品占到全球市場的50-60％，隨著外國先進薄膜產(chǎn)品進入中國市場，對國內(nèi)市場造成極大的沖擊，但目前國內(nèi)市場在PET薄膜研發(fā)方面，還較落后，產(chǎn)品技術(shù)不成熟，普遍還是以低技術(shù)含量的普通聚酯薄膜為主，產(chǎn)品創(chuàng)新性不強，極大限制了行業(yè)規(guī)模的擴大和市場占有率的提升，但另一方面，隨著社會經(jīng)濟的發(fā)展和人們生活水平的提高，對包裝材料的要求也會越來越高。本公司開發(fā)的耐高溫電子保護基膜產(chǎn)品，主要用途電子產(chǎn)品線路板及顯示屏等產(chǎn)品生產(chǎn)及使用過程中的保護，產(chǎn)品市場需求量非常巨大，前景十分看好，具備較好的產(chǎn)業(yè)化推廣應用價值。

中國專利申請?zhí)?019100103829涉及一種含磷阻燃聚酯及其制備方法和應用，該阻燃聚酯主要由對苯二甲酸和異丙醇混合，并添加助劑及阻燃劑進行聚合制成；所述阻燃劑為烷基取代的磷酸二異丙醇酯與2-(叔丁醇環(huán)三磷腈基)1,3-苯二酚二縮水甘油醚(BCP)復配的阻燃劑。本技術(shù)制備的阻燃聚酯縮聚時間短，產(chǎn)品色相好，阻燃性能好，制得的聚酯L值達到85，b值在3以內(nèi)，樣品的阻燃性能LOI≥29％；所得聚酯廣泛應用于纖維和薄膜領(lǐng)域，該聚酯可作為母粒添加或直接用于制備纖維和薄膜。該聚酯制備的纖維應用于產(chǎn)業(yè)紡織品、建筑內(nèi)裝飾材料、交通工具內(nèi)裝飾材料、防護服、地毯等；用該聚酯制得的薄膜，與常規(guī)同類聚酯薄膜相比，具有較低的霧度和較好的阻燃性能。

中國專利申請?zhí)?018115786176涉及一種Pd-MOF金屬有機框架薄膜及其制備方法,包括下述步驟：1)Pd-MOF金屬有機框架的制備；1.1)將氯化鈀以及2，5-二羥基對苯二甲酸加入混合液中；1.2)將步驟1.1)得到的分散液于100-150℃條件下水熱；1.3)用甲醇置換反應溶液；1.4)將步驟1.3)置換完后的樣品真空干燥制得Pd-MOF金屬有機框架材料；2)Pd-MOF金屬有機框架薄膜的制備；本技術(shù)將Pd-MOF金屬有機框摻雜入聚對苯二甲酸乙二酯制備了具有高化學穩(wěn)定性和CO吸附能力的特種聚酯薄膜并增強了薄膜的化學穩(wěn)定性,且其制備方法操作可控性好、工藝簡單、成本低易于產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)。

中國專利申請?zhí)?017800503981涉及一種聚酯薄膜及其制造方法，該聚酯薄膜具有基材薄膜及配置于基材薄膜的至少一側(cè)的面的至少1層圖像接受層，基材薄膜包含聚酯和氧化鈦粒子，將基材薄膜的厚度設為T微米時，基材薄膜中的氧化鈦粒子的質(zhì)量基準的含量為滿足下述式1的量，表面粗糙度標準偏差Rq為0.01微米～0.12微米，且在與基材薄膜的面方向正交的厚度方向的截面中，具有每一個的平均面積為0.01微米²/個～0.10微米²/個的孔隙，圖像接受層的最外表面的表面粗糙度標準偏差Rq為0.01微米～0.1微米。