[發明專利]一種氟硼吡咯光敏劑及其制備方法和應用有效
| 申請號: | 201910708408.7 | 申請日: | 2019-08-01 |
| 公開(公告)號: | CN110511236B | 公開(公告)日: | 2022-02-22 |
| 發明(設計)人: | 籍少敏;劉文超;梁輝;賀佳;霍延平 | 申請(專利權)人: | 廣東工業大學 |
| 主分類號: | C07F5/02 | 分類號: | C07F5/02;C09K11/06;A61K41/00;A61P35/00 |
| 代理公司: | 廣州粵高專利商標代理有限公司 44102 | 代理人: | 姚招泉 |
| 地址: | 510006 廣東省*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 吡咯 光敏劑 及其 制備 方法 應用 | ||
本發明公開了一種氟硼吡咯光敏劑及其制備方法和應用。氟硼吡咯光敏劑為具有式(I)所示結構的化合物。其制備方法包括:S1.對羥基苯甲醛與1,6?二溴己烷發生反應;S2.保護氣氛條件下,將具有式(IV)結構的化合物與2,4?二甲基吡咯發生反應;S3.具有式(III)結構的化合物與I2/HIO3發生碘代反應;S4.具有式(II)所示結構的化合物與2?噻吩甲醛發生Knoevenagel縮合反應,得到式(I)結構的化合物。該化合物具有在光動力治療藥物上的應用。本發明單線態氧量子產率達到了為78%,其在低功率光源激發下,能夠高效敏化空氣中的三線態氧原子產生大量單線態氧。其中,式(I)、(II)、(III)和(IV)的化合物結構如下:
技術領域
本發明涉及光敏劑制備,更具體地,涉及一種氟硼吡咯光敏劑及其制備方法和應用。
背景技術
光敏劑是一類可吸收光子并將能量傳遞給那些不能吸收光子的分子,傳統的光敏劑主要為釕、鉑、銥、餓等過渡金屬配合物,過渡金屬配合物普遍存在吸收波長短,摩爾消光系數低,價格昂貴等缺點,很大程度上限制了它們的應用。緊接著一系列如苝、蒽、二苯甲酮等有機三重態光敏劑開始逐漸浮現,然而此類化合物同樣存在著摩爾消光系數低,吸收波長短等缺點。
氟硼吡咯分子具有合成與修飾容易,摩爾消光系數高,激發態性能可調等優點,可作為一類性能優良的三重態光敏劑。近年來氟硼吡咯光敏劑廣泛應用于光子上轉換領域,例如發明專利文獻CN 108148086A,其公開了一種帶有主客體識別基團的有機三重態光敏劑及其制備方法。但是,目前氟硼吡咯光敏劑應用在光治療領域的研究較少,也缺少一種有效的、治療效果好的光敏劑。
發明內容
本發明首要解決的技術問題是針對現有技術中缺少有效的、治療效果好的光敏劑,尤其是在單線態氧的產率上有改進的光敏劑,提供一種基于在氟硼吡咯分子的3位分別引入噻吩乙烯基來增加分子的共軛性的氟硼吡咯光敏劑。
本發明要解決的另一個技術問題是,提供一種氟硼吡咯光敏劑的制備方法。
本發明要解決的再一個技術問題是,提供一種氟硼吡咯光敏劑在光動力治療藥物上的應用。
為了解決上述技術問題,本發明采用的具體技術方案如下:
一種氟硼吡咯光敏劑,為具有式(I)所示結構的化合物:
為了得到上述化合物,本發明還提供:
一種氟硼吡咯光敏劑的制備方法,包括以下步驟:
S1.將對羥基苯甲醛與1,6-二溴己烷在有機溶劑中發生反應,得到具有式(IV)所示結構的化合物。
S2.在保護氣氛條件下,將具有所述式(IV)結構的化合物與2,4-二甲基吡咯發生反應,得到具有式(III)所示結構的化合物。
S3.將具有所述式(III)結構的化合物與I2/HIO3發生碘代反應,得到具有式(II)所示結構的化合物。
S4.具有所述式(II)所示結構的化合物與2-噻吩甲醛發生Knoevenagel縮合反應,得到具有所述式(I)所示結構的光敏劑。
其中,式(II)、(III)和(IV)的化合物結構分別如下:
優選的,步驟S1中,所述反應溶劑為丙酮或乙腈。在本發明中,以丙酮作為有機溶劑是更好的選擇。
優選的,步驟S1中所述對羥基苯甲醛與所述1,6-二溴己烷的摩爾比為1:2~1:6;所述S1的反應溫度為80℃;所述S1反應時間為20~24h。該步驟最好在保護氣氛條件下進行。
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