[發(fā)明專利]一種用于表面三維形貌測量的白光干涉系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910698949.6 | 申請日: | 2019-07-31 |
| 公開(公告)號: | CN110307805B | 公開(公告)日: | 2020-11-03 |
| 發(fā)明(設計)人: | 李豪偉;李慧鵬;宋凝芳;張春熹 | 申請(專利權)人: | 北京航空航天大學 |
| 主分類號: | G01B11/24 | 分類號: | G01B11/24 |
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| 地址: | 100191*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 表面 三維 形貌 測量 白光 干涉 系統(tǒng) | ||
本發(fā)明公開了一種用于表面三維形貌測量的白光干涉系統(tǒng),可對精密元器件提供無損、快速、高精度、電動的表面三維形貌測量。照明模塊對光進行準直整形,成像模塊將準直整形后的光分為物光和參考光,兩束光的反射光合束后干涉,條紋調(diào)整和掃描模塊調(diào)整參考鏡的偏轉(zhuǎn)姿態(tài),在干涉條紋滿足掃描要求時進行掃描,成像模塊將干涉光放大成像后傳輸給處理模塊,處理模塊根據(jù)圖像重現(xiàn)被測樣品的表面三維形貌,被測樣品利用樣品夾持模塊固定且利用對焦模塊實現(xiàn)對焦,照明模塊、條紋調(diào)整和掃描模塊和成像模塊利用系統(tǒng)固定模塊固定,整個系統(tǒng)結(jié)構設計緊湊,具有體積小、便于集成、易于搬運、適合異地測試等優(yōu)勢,且參考鏡的偏轉(zhuǎn)角度可以實現(xiàn)電動精確調(diào)節(jié)。
技術領域
本發(fā)明涉及表面檢測技術領域,尤其涉及一種用于表面三維形貌測量的白光干涉系統(tǒng)。
背景技術
表面形貌是指表面的微觀幾何形態(tài),它是由于加工過程中刀具與零件之間的摩擦、切削分離時的塑性變形和金屬撕裂、加工系統(tǒng)的振動等原因在零件表面留下的各種不同形狀和尺寸的微觀結(jié)構。表面形貌對于加工過程中工藝過程的狀態(tài)變化十分敏感,因此,被認定為加工過程中控制、監(jiān)測和診斷的重要手段。隨著高科技的發(fā)展,諸多領域?qū)τ谠骷谋砻嫘蚊蔡岢隽嗽絹碓礁叩囊螅纾呻娐返墓杵琗射線儀及激光器的發(fā)射鏡窗片,同步輻射光學組件,激光陀螺和光纖陀螺的光學組件,以及納米技術和生物技術等前沿學科領域。
表面形貌的測量方法基本可以分為接觸式測量和非接觸式測量兩種。例如,機械探針式測量法和掃描探針式測量法屬于接觸式測量法,雖然具有較高的測量精度,但會損傷被測樣品的表面,測量結(jié)果的重復性低;光學探針式測量法、掃描電子顯微鏡和白光干涉測量法屬于非接觸式測量法,其中,光學探針式測量法和掃描電子顯微鏡雖然不會損傷被測樣品的表面,但存在測量范圍小、測量速度慢且易損傷探針等缺點,而白光干涉測量法的非接觸和快速測量特性,使得它在實際應用中得到飛速發(fā)展。
白光干涉測量法是利用白光的低相干特性,將物體表面三維形貌信息反映到干涉信號上,通過對干涉圖像進行分析,恢復出待測樣品的表面三維形貌。白光干涉測量法最大的優(yōu)點是測量精度高、速度快、無損傷。
目前,國內(nèi)的白光干涉系統(tǒng)一般為垂直光路型(即立式結(jié)構),且系統(tǒng)中的分部件多為標準件,因此,存在體積大、結(jié)構復雜的問題,例如,邁克爾遜型干涉儀一般以光學標準件搭建而成,特別是成像部分,以光學標準件搭建而成,或者采用尼康等公司的邁克爾遜型干涉微分鏡頭。現(xiàn)有的白光干涉系統(tǒng)的調(diào)節(jié)方式多為手動,很難精確控制定量的位移輸出,而白光干涉系統(tǒng)是一個精密測量系統(tǒng),不精確的手動調(diào)節(jié)會增加測量難度,引入測量誤差。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,本發(fā)明提供了一種用于表面三維形貌測量的白光干涉系統(tǒng),用以在保證高精度測量的前提下,解決系統(tǒng)體積大、調(diào)節(jié)非電動等問題。
因此,本發(fā)明提供了一種用于表面三維形貌測量的白光干涉系統(tǒng),包括:照明模塊、條紋調(diào)整和掃描模塊、成像模塊、處理模塊、樣品夾持模塊、對焦模塊以及系統(tǒng)固定模塊;其中,
所述照明模塊,用于對低相干光進行準直整形;
所述條紋調(diào)整和掃描模塊,用于調(diào)整參考鏡的偏轉(zhuǎn)姿態(tài),以調(diào)整干涉條紋的幅度和偏轉(zhuǎn)角度,待所述干涉條紋滿足掃描要求時進行掃描;
所述成像模塊,用于將準直整形后的光分為兩束光,一束為照射在被測樣品的物光,另一束為照射在所述參考鏡的參考光,并將由所述物光的反射光和所述參考光的反射光合束后產(chǎn)生的干涉光放大成像,再將圖像傳輸給所述處理模塊;
所述處理模塊,用于將接收的圖像轉(zhuǎn)化為數(shù)字數(shù)據(jù)并進行解算,重現(xiàn)所述被測樣品的表面三維形貌;
所述樣品夾持模塊,用于固定所述被測樣品,使所述被測樣品的表面與所述物光垂直;
所述對焦模塊,與所述樣品夾持模塊固定連接,用于調(diào)整所述被測樣品的位置,使所述成像模塊成像清晰;
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