[發明專利]一種去除污水中抗生素抗性基因和抗性菌的氧化方法

在審

• 申請號: 201910694816.1
• 申請日: 2019-07-30
• 公開（公告）號: CN111792719A
• 公開（公告）日: 2020-10-20
• 發明（設計）人: 曹廣麗;周春爽;武繼文;劉冰峰;武秀坤;王琪
• 申請（專利權）人: 哈爾濱工業大學
• 主分類號: C02F1/72
• 分類號: C02F1/72;C02F1/32;C02F101/30
• 代理公司: 哈爾濱市陽光惠遠知識產權代理有限公司 23211
• 代理人: 田鴻儒

本發明公開了一種去除污水中抗生素抗性基因和抗性菌的氧化方法，涉及污水深度處理技術領域，技術方案為：取污水，加入氧化劑，紫外線照射處理。本發明采用一種新型的高級氧化工藝，利用UV激活過一硫酸鹽/過二硫酸鹽產生硫酸根自由基(SO₄^·–)和羥基自由基(^·OH)，再通過具有強氧化能力的自由基以及UV對細菌的損傷來去除ARGs和ARB。該高級氧化工藝對環境友好、氧化能力強、不會產生中間污染物，且對ARB和ARGs有較好的去除效果。

技術領域

本發明涉及污水深度處理技術領域，具體涉及一種去除污水中抗生素抗性基因和抗性菌的方法。

背景技術

污水的深度處理工藝作為保障污水安全排放的重要環節,研究不同的深度處理工藝對污染物去除的影響具有重要意義。在深度處理工藝中,消毒技術氯化、UV、臭氧有損傷細菌細胞和細胞內DNA的能力，具有殺滅抗生素抗性菌(antibiotic resistant bacteria,ARB)和破壞抗生素抗性基因(antibiotic resistant genes,ARGs)的潛力，但所需劑量高于常規污水處理廠使用劑量，由于ARB的耐受能力比較強，現行的消毒方法所用的劑量不能有效的去除ARB和ARGs，使得抗性細菌及抗性基因隨出水進入到下游河流、湖泊當中，反而促進了ARGs的擴散。而且現行的消毒技術易產生有害的消毒副產物及其他的有毒中間產物等，會對環境造成進一步污染。現有關于消毒技術紫外、氯化等對ARGs和ARB影響的報道,集中于對污水處理廠的監測或對實驗室配制水樣的處理，而具體消毒工藝操作參數對實際污水中的影響尚無系統的研究，現有的處理方法及研究不具代表性，并且沒有取得較好的效果。

發明內容

為解決上述問題，本發明提供一種去除污水中抗生素抗性基因和抗性菌的氧化方法，具體為：取污水，加入氧化劑，紫外線照射處理。

所述污水為污水處理廠的二級出水。

優選地，所述氧化劑能被紫外線激活產生具有強氧化能力的自由基。

進一步優選地，所述氧化劑過二硫酸鹽(PDS)為過二硫酸鉀。

進一步優選地，所述氧化劑過一硫酸鹽(PMS)為過一硫酸氫鉀。

優選地，所述PDS作為氧化劑，加入量為使其在所述污水中的最終濃度為0.1～2mmol/L。

優選地，所述PMS作為氧化劑，加入量為使其在所述污水中的最終濃度為0.1～2mmol/L。

所述紫外線照射處理，使用裝置為波長為254nm的紫外燈。

所述紫外線照射處理，UV強度為16～36μw/cm²。

所述照射處理，處理時間為1～60min。

優選地，上述所有操作均在無菌條件下進行。

有益效果

本發明采用一種新型的高級氧化工藝，利用UV激活產生硫酸根自由基(SO₄^·–)和羥基自由基(^·OH)，通過自由基的強氧化能力和UV對細菌的損傷來去除ARB和ARGs。該高級氧化工藝對環境友好、氧化能力強不會產生中間污染物，且對ARB和ARGs有較好的去除效果。

附圖說明