[發明專利]真空閥監控系統以及方法

有效

• 申請號: 201910691330.2
• 申請日: 2019-07-29
• 公開（公告）號: CN110778783B
• 公開（公告）日: 2022-04-05
• 發明（設計）人: 邱培誠
• 申請（專利權）人: 臺灣積體電路制造股份有限公司
• 主分類號: F16K37/00
• 分類號: F16K37/00
• 代理公司: 隆天知識產權代理有限公司 72003
• 代理人: 李琛;黃艷

1.一種真空閥監控系統，包括：

一真空閥，包括至少一個密封O形環；以及

一壓力監控帶，位在一真空處理腔室的一配合表面上，其中該壓力監控帶配置以在該真空處理腔室的該配合表面以及該真空閥上的該至少一個密封O形環的一表面之間進行一壓力分布對映，以決定該真空閥的一關閉條件，并且該壓力監控帶直接接觸該至少一個密封O形環的該表面，其中該壓力監控帶包括：

復數個壓力感測元件；以及

一保護涂層，接觸該復數個壓力感測元件，并隔開該復數個壓力感測元件以及該至少一個密封O形環。

2.如權利要求1所述的真空閥監控系統，其中該真空閥還包括一機構，用于打開和關閉該真空閥。

3.如權利要求1所述的真空閥監控系統，其中該壓力監控帶是可撓的。

4.如權利要求1所述的真空閥監控系統，其中該等壓力感測元件的每一者包括電容式感測器、壓阻式感測器、以及壓電式感測器的至少一者。

5.如權利要求1所述的真空閥監控系統，其中該壓力監控帶在該真空處理腔室上的該配合表面的位置是根據在該真空閥上的該至少一個密封O形環的位置來配置。

6.如權利要求1所述的真空閥監控系統，還包括：

一數據獲取單元，用以分別從該壓力監控帶的復數個壓力感測元件收集復數個信號；

一數據處理單元，用以處理該等信號，從而分別決定復數個壓力值；以及

一本地電腦，用以決定該壓力分布對映。

7.如權利要求6所述的真空閥監控系統，其中該本地電腦是進一步配置以：

比較該等壓力值與復數個預定的壓力閾值；以及

決定該真空閥的該關閉條件。

8.一種真空閥監控方法，包括：

關閉一真空處理腔室上的一真空閥，其中該真空閥包括至少一個密封O形環；以及

使用一壓力監控帶決定該真空閥的一關閉條件，其中該壓力監控帶配置在該真空處理腔室上的一配合表面上，并且該壓力監控帶直接接觸該至少一個密封O形環的一表面，以在該真空處理腔室上的該配合表面以及該至少一個密封O形環的該表面之間進行一壓力分布對映，其中該壓力監控帶包括：

復數個壓力感測元件；以及

一保護涂層，接觸該復數個壓力感測元件，并隔開該復數個壓力感測元件以及該至少一個密封O形環。

9.如權利要求8所述的真空閥監控方法，其中是通過一機構進行關閉該真空閥的該操作。

10.如權利要求8所述的真空閥監控方法，其中該壓力監控帶是可撓的。

11.如權利要求8所述的真空閥監控方法，其中該等壓力感測元件的每一者包括電容式感測器、壓阻式感測器、以及壓電式感測器的至少一者。

12.如權利要求8所述的真空閥監控方法，其中是根據在該真空閥上的該至少一個密封O形環的位置以配置該壓力監控帶在該真空處理腔室上的該配合表面的位置。

13.如權利要求8所述的真空閥監控方法，其中該決定操作還包括：

分別從該壓力監控帶上的該等壓力感測元件收集復數個信號；

處理來自該等壓力感測元件的該等信號，以分別決定復數個壓力值；

基于該等壓力值決定該壓力分布對映；以及

比較該等壓力值以及復數個預定的壓力閾值。