[發(fā)明專利]一種足底壓力測量鞋墊適用鞋和足部形態(tài)檢測方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910656591.0
• 申請日: 2019-07-19
• 公開（公告）號: CN110326841A
• 公開（公告）日: 2019-10-15
• 發(fā)明（設計）人: 樊瑜波;肖琰秋;姚杰;閔苑文;馮文韜
• 申請（專利權）人: 北京航空航天大學
• 主分類號: A43B3/00
• 分類號: A43B3/00;A43B17/00;A43B23/02
• 代理公司: 北京睿派知識產權代理事務所(普通合伙) 11597
• 代理人: 劉鋒

1.一種足底壓力測量鞋墊適用鞋，其特征在于：

所述足底壓力測量鞋墊適用鞋的前部設置第一魔術貼(1)，足跟部設置第二魔術貼(2)；

所述足部壓力測量鞋墊適用鞋內設置足底壓力測量鞋墊(3)；

其中，所述第一魔術貼(1)被配置為打開時使人體足趾前端暴露在外；

所述第二魔術貼(2)被配置為打開時使人體足跟暴露在外。

2.根據權利要求1所述的足底壓力測量鞋墊適用鞋，其特征在于，所述足底壓力測量鞋墊適用鞋的內部尺寸與所述足底壓力測量鞋墊(3)的尺寸相配合。

3.一種基于足底壓力測量鞋墊適用鞋的足部形態(tài)檢測方法，其特征在于，所述足底壓力測量鞋墊適用鞋的前部設置第一魔術貼(1)，足跟部設置第二魔術貼(2)；所述足部壓力測量鞋墊適用鞋內設置足底壓力測量鞋墊(3)；其中，所述第一魔術貼(1)打開時能夠使人體足趾前端暴露在外；所述第二魔術貼(2)打開時能夠使人體足跟暴露在外；

所述方法包括：

受試者穿戴所述足底壓力測量鞋墊適用鞋；

打開第一魔術貼(1)和第二魔術貼(2)，暴露受試者足趾和足跟；

按壓足底壓力測量鞋墊(3)上對應第二趾和足跟尖的位置，在足底壓力測量鞋墊(3)的對應系統(tǒng)上記錄所出現的兩個壓力點；

根據所述兩個壓力點確定受試者的第一足部參考數據；

采集受試者足部壓力數據；

根據足部壓力數據和第一足部參考數據確定受試者的足部形態(tài)。

4.根據權利要求3所述的足部形態(tài)檢測方法，其特征在于，所述第一足部參考數據為所述兩個壓力點的連線。

5.根據權利要求3所述的足部形態(tài)檢測方法，其特征在于，所述根據足部壓力數據和第一足部參考數據確定受試者足部形態(tài)的方法具體為根據所述足部壓力數據和所述第一足部參考數據進行足底壓力中心軌跡分析的方法。