[發(fā)明專利]超聲設(shè)備、產(chǎn)生超聲波的方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910650077.6 | 申請日: | 2019-07-18 |
| 公開(公告)號: | CN112238042A | 公開(公告)日: | 2021-01-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 何敏;孫偲能;宋丹;王智彪 | 申請(專利權(quán))人: | 重慶融海超聲醫(yī)學(xué)工程研究中心有限公司 |
| 主分類號: | B06B3/00 | 分類號: | B06B3/00;B06B3/02 |
| 代理公司: | 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112 | 代理人: | 柴亮;張?zhí)焓?/td> |
| 地址: | 401121 重*** | 國省代碼: | 重慶;50 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 超聲 設(shè)備 產(chǎn)生 超聲波 方法 | ||
1.一種超聲設(shè)備,其特征在于,包括:
邊界單元,用于盛裝超聲介質(zhì),所述邊界單元的用于接觸超聲介質(zhì)的表面為能反射超聲波的反射面;
超聲發(fā)射單元,用于通過驅(qū)動所述反射面振動向所述邊界單元內(nèi)的超聲介質(zhì)發(fā)射超聲波,且至少部分所述超聲波被所述反射面反射后能達(dá)到其它反射面;
控制單元,用于確定振動系統(tǒng)的共振頻率,并控制所述超聲發(fā)射單元發(fā)射包括所述共振頻率的成分的超聲波,其中,所述振動系統(tǒng)包括所述超聲介質(zhì)、所述邊界單元。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超聲設(shè)備,其特征在于,
所述反射面為具有焦點(diǎn)的弧面。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的超聲設(shè)備,其特征在于,
所述反射面為球面,或包括球心的球面的一部分。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的超聲設(shè)備,其特征在于,
所述球面的直徑為具有所述共振頻率的超聲波的波長的整數(shù)倍。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超聲設(shè)備,其特征在于,
所述超聲介質(zhì)包括水、體模、生物體組織中的任意一種。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超聲設(shè)備,其特征在于,
所述共振頻率在20kHz至10MHz之間。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超聲設(shè)備,其特征在于,
所述反射面的體模量不超過所述超聲介質(zhì)的體模量的10倍。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的超聲設(shè)備,其特征在于,
所述反射面的體模量超過所述超聲介質(zhì)的體模量的10倍;
所述控制單元用于控制所述超聲發(fā)射單元發(fā)射頻率等于所述共振頻率的超聲波。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的超聲設(shè)備,其特征在于,
所述超聲發(fā)射單元包括用于發(fā)射超聲波的發(fā)射面;
所述發(fā)射面為所述反射面;
所述振動系統(tǒng)包括超聲發(fā)射單元。
10.一種產(chǎn)生超聲波的方法,其特征在于,采用權(quán)利要求1至9中任意一項(xiàng)所述的超聲設(shè)備實(shí)現(xiàn),所述方法包括:
所述控制單元確定所述振動系統(tǒng)的共振頻率;
所述控制單元控制所述超聲發(fā)射單元發(fā)射包括所述共振頻率的成分的超聲波。
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