[發明專利]一種基于垂直同步信號的圖像處理方法及電子設備在審
| 申請號: | 201910617101.6 | 申請日: | 2019-07-09 |
| 公開(公告)號: | CN110503708A | 公開(公告)日: | 2019-11-26 |
| 發明(設計)人: | 王亮;李煜;陳健;吉星春;郭一方 | 申請(專利權)人: | 華為技術有限公司 |
| 主分類號: | G06T15/00 | 分類號: | G06T15/00;G06T5/50;G06F9/451 |
| 代理公司: | 11274 北京中博世達專利商標代理有限公司 | 代理人: | 申健<國際申請>=<國際公布>=<進入國 |
| 地址: | 518129 廣東*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 電子設備 圖層 垂直同步信號 圖像處理 渲染 圖像幀 刷新顯示 圖層合成 響應延遲 響應 流暢性 繪制 申請 | ||
1.一種基于垂直同步信號的圖像處理方法,其特征在于,所述方法應用于包括顯示屏的電子設備,所述方法包括:
所述電子設備響應于第一垂直同步信號,繪制一個或多個第一圖層,并渲染所述一個或多個第一圖層,并在所述一個或多個第一圖層渲染完成后,對渲染的所述一個或多個第一圖層進行圖層合成,以得到第一圖像幀;
所述電子設備響應于第二垂直同步信號,刷新顯示所述第一圖像幀。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法還包括:
所述電子設備對所述電子設備的硬件資源進行正向調度,以縮短所述電子設備進行圖層繪制、圖層渲染和/或圖層合成所需的時長。
3.根據權利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述電子設備響應于第一垂直同步信號,繪制一個或多個第一圖層,并渲染所述一個或多個第一圖層,包括:
所述電子設備檢測到用戶操作或者所述電子設備發生用戶界面UI事件時,響應于所述第一垂直同步信號,繪制所述一個或多個第一圖層,并渲染所述一個或多個第一圖層。
4.根據權利要求1-3中任一項所述的方法,其特征在于,所述電子設備響應于第一垂直同步信號,繪制一個或多個第一圖層,并渲染所述一個或多個第一圖層,并在一個或多個第一圖層渲染完成后,對渲染的所述一個或多個第一圖層進行圖層合成,以得到第一圖像幀,包括:
如果第一統計周期的第一處理幀長小于或等于預設單幀幀長,所述電子設備則響應于所述第一垂直同步信號,繪制一個或多個第一圖層,并渲染所述一個或多個第一圖層,并在所述一個或多個第一圖層渲染完成后,對渲染的所述一個或多個第一圖層進行圖層合成,以得到所述第一圖像幀;
其中,所述第一處理幀長是第一渲染幀長和第一圖層合成SF幀長之和,所述第一渲染幀長是進行圖層繪制和對繪制的圖層進行渲染所需的時長,所述第一SF幀長是對渲染的圖層進行圖層合成所需的時長。
5.根據權利要求4所述的方法,其特征在于,所述預設單幀幀長小于或等于所述第二垂直同步信號的信號周期。
6.根據權利要求4或5所述的方法,其特征在于,所述方法還包括:
如果所述第一處理幀長大于所述預設單幀時長,所述電子設備則響應于所述第一垂直同步信號,繪制一個或多個第一圖層;響應于第三垂直同步信號,對渲染的所述一個或多個第一圖層進行圖層合成,以得到第一圖像幀。
7.根據權利要求4或5所述的方法,其特征在于,所述方法還包括:
如果所述第一處理幀長大于所述預設單幀幀長,所述電子設備對所述電子設備的硬件資源正向進行調度,以縮短所述電子設備進行圖層繪制、圖層渲染和/或圖層合成所需的時長。
8.根據權利要求4-7中任一項所述的方法,其特征在于,所述一個或多個第一圖層包括:所述電子設備執行一個或多個應用對應的繪制任務所繪制的圖層;所述一個或多個應用包括:一個或多個系統級應用,以及一個或多個用戶級應用中的至少一項;所述系統級應用包括:狀態欄、launcher、導航欄和壁紙。
9.根據權利要求8所述的方法,其特征在于,所述在所述一個或多個第一圖層渲染完成后,對渲染的所述一個或多個第一圖層進行圖層合成,以得到第一圖像幀,包括:
所述電子設備在所述一個或多個應用中的焦點應用、關鍵應用或者與所述電子設備的流暢性強相關的應用的一個或多個第一圖層渲染完成后,對所述電子設備針對所述一個或多個應用已渲染的第一圖層進行圖層合成,以得到所述第一圖像幀。
10.根據權利要求8所述的方法,其特征在于,所述在所述一個或多個第一圖層渲染完成后,對渲染的所述一個或多個第一圖層進行圖層合成,以得到第一圖像幀,包括:
所述電子設備在所述一個或多個第一圖層中的焦點圖層、關鍵圖層或者與所述電子設備的流暢性強相關的圖層渲染完成后,對所述電子設備針對所述一個或多個應用已渲染的第一圖層進行圖層合成,以得到所述第一圖像幀。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于華為技術有限公司,未經華為技術有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201910617101.6/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





