[發(fā)明專利]電磁波屏蔽膜及其制造方法、以及帶有電磁波屏蔽膜的印刷線路板及其制造方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910604802.6 | 申請日: | 2019-07-05 |
| 公開(公告)號: | CN110708941A | 公開(公告)日: | 2020-01-17 |
| 發(fā)明(設計)人: | 吉田一義;權田貴司 | 申請(專利權)人: | 信越聚合物株式會社 |
| 主分類號: | H05K9/00 | 分類號: | H05K9/00;C08J5/18;C08J7/06;C08L79/08 |
| 代理公司: | 11444 北京匯思誠業(yè)知識產(chǎn)權代理有限公司 | 代理人: | 龔敏;王剛 |
| 地址: | 日本國東京都*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 式( 1 ) 重復結構單元 式( 2 ) 絕緣樹脂層 電磁波屏蔽膜 聚酰亞胺 導電層 脂肪族基團 鄰接 含量比 粘接力 鏈狀 碳數(shù) 金屬 制造 | ||
1.一種電磁波屏蔽膜,其具有絕緣樹脂層、和與所述絕緣樹脂層鄰接的包含金屬的導電層,
所述絕緣樹脂層含有聚酰亞胺,
所述聚酰亞胺包含下述式(1)所示的重復結構單元和下述式(2)所示的重復結構單元,下述式(1)的重復結構單元相對于下述式(1)的重復結構單元與下述式(2)的重復結構單元的合計的含量比為20~70摩爾%,并且在末端具有碳數(shù)5~14的鏈狀脂肪族基團,
R1為包含至少1個脂環(huán)式烴結構的碳數(shù)6~22的2價基團,R2為碳數(shù)5~16的2價的鏈狀脂肪族基團,X1和X2分別獨立地為包含至少1個芳香環(huán)的碳數(shù)6~22的4價基團。
2.根據(jù)權利要求1所述的電磁波屏蔽膜,其中,所述式(1)的R1為下述式(R1-1)或(R1-2)所示的2價基團,
m11和m12分別獨立地為0~2的整數(shù),m13~m15分別獨立地為0~2的整數(shù)。
3.根據(jù)權利要求1或2所述的電磁波屏蔽膜,其中,所述式(1)的R1為下述式(R1-3)所示的2價基團,
4.根據(jù)權利要求1~3中任一項所述的電磁波屏蔽膜,其中,所述式(2)的R2為碳數(shù)5~12的亞烷基。
5.根據(jù)權利要求1~4中任一項所述的電磁波屏蔽膜,其中,所述式(1)的X1和所述式(2)的X2分別獨立地為下述式(X-1)~(X-4)中的任一者所述的4價基團,
R11~R18分別獨立地為碳數(shù)1~4的烷基,p11~p13分別獨立地為0~2的整數(shù),p14、p15、p16和p18分別獨立地為0~3的整數(shù),p17為0~4的整數(shù),L11~L13分別獨立地為單鍵、醚基、羰基或碳數(shù)1~4的亞烷基。
6.根據(jù)權利要求1~5中任一項所述的電磁波屏蔽膜,其中,所述聚酰亞胺還包含下述式(3)所示的重復結構單元,下述式(3)的重復結構單元相對于所述式(1)的重復結構單元與所述式(2)的重復結構單元的合計的含量比為25摩爾%以下,
R3為包含至少1個芳香環(huán)的碳數(shù)6~22的2價基團,X3為包含至少1個芳香環(huán)的碳數(shù)6~22的4價基團。
7.根據(jù)權利要求1~6中任一項所述的電磁波屏蔽膜,其中,所述碳數(shù)5~14的鏈狀脂肪族基團的含量相對于所述聚酰亞胺中的全部重復結構單元的合計100摩爾%為0.01摩爾%以上且10摩爾%以下。
8.根據(jù)權利要求1~7中任一項所述的電磁波屏蔽膜,其中,所述絕緣樹脂層的厚度為3μm以上且10μm以下。
9.根據(jù)權利要求1~8中任一項所述的電磁波屏蔽膜,其中,所述導電層為金屬蒸鍍層。
10.根據(jù)權利要求9所述的電磁波屏蔽膜,其中,所述金屬蒸鍍層為銀蒸鍍層或銅蒸鍍層。
11.根據(jù)權利要求1~10中任一項所述的電磁波屏蔽膜,其中,在所述絕緣樹脂層的與所述導電層相反一面?zhèn)冗€具有載體膜。
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