[發(fā)明專利]慢提拉裝置及硅片清洗機(jī)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910571229.3 | 申請日: | 2019-06-28 |
| 公開(公告)號: | CN110211904A | 公開(公告)日: | 2019-09-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 黎彬 | 申請(專利權(quán))人: | 阜寧協(xié)鑫光伏科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67;H01L21/677 |
| 代理公司: | 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224 | 代理人: | 閆曉欣 |
| 地址: | 224400 江蘇省鹽*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 平衡板 側(cè)邊 提拉裝置 升降機(jī)構(gòu) 擋件 硅片清洗機(jī) 預(yù)設(shè) 花籃 機(jī)臺 阻擋 上升路徑 硅片 放平 升高 驅(qū)動 | ||
本發(fā)明涉及一種慢提拉裝置及硅片清洗機(jī)。慢提拉裝置包括機(jī)臺;平衡板,用以放置裝有硅片的花籃;平衡板具有相對的第一側(cè)邊和第二側(cè)邊;升降機(jī)構(gòu),位于平衡板的下側(cè);升降機(jī)構(gòu)可驅(qū)動平衡板升起并驅(qū)使平衡板的第一側(cè)邊高于平衡板的第二側(cè)邊;以及擋件,設(shè)于機(jī)臺上,并位于平衡板的第一側(cè)邊的上升路徑上的上方;擋件用以在平衡板的第一側(cè)邊上升至預(yù)設(shè)高度時,阻擋平衡板的第一側(cè)邊繼續(xù)上升,使得升降機(jī)構(gòu)可驅(qū)使平衡板的第二側(cè)邊上升。上述慢提拉裝置,通過升降機(jī)構(gòu)和擋件共同作用,即可實現(xiàn)花籃的放平操作。擋件的作用在于可在平衡板的第一側(cè)邊升高至預(yù)設(shè)高度時阻擋平衡板的第一側(cè)邊的上升即可,結(jié)構(gòu)簡單,即使得慢提拉裝置結(jié)構(gòu)簡單。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及硅片清洗領(lǐng)域,特別是涉及一種慢提拉裝置及硅片清洗機(jī)。
背景技術(shù)
一般地,硅料經(jīng)切割形成硅片后,硅片表面硅料碎屑或切割液等臟污,故需要通過硅片清洗機(jī)對切割后的硅片進(jìn)行清洗,然后進(jìn)行烘干處理。一般地,在通過硅片清洗機(jī)對硅片進(jìn)行清洗后,利用慢提拉裝置將裝有硅片的花籃提起進(jìn)行瀝水。
而為了降低花籃的瀝水時間,設(shè)置慢提拉結(jié)構(gòu)在將硅片的花籃提起時,還使得裝有硅片的花籃傾斜,及再將花籃重新放平。然而,傳統(tǒng)的方式是利用機(jī)械手將花籃提起,并向一側(cè)傾斜,且但通過機(jī)械手難以將花籃重新放平,以至需要另外設(shè)置可以將花籃放平的機(jī)構(gòu),導(dǎo)致慢提拉裝置結(jié)構(gòu)復(fù)雜。
發(fā)明內(nèi)容
基于此,有必要提供一種能實現(xiàn)花籃傾斜和放平,且結(jié)構(gòu)簡單的慢提拉裝置。
一種慢提拉裝置,包括:
機(jī)臺;
平衡板,用以放置裝有硅片的花籃;所述平衡板具有相對的第一側(cè)邊和第二側(cè)邊;
升降機(jī)構(gòu),位于所述平衡板的下側(cè);所述升降機(jī)構(gòu)可驅(qū)動所述平衡板升起并驅(qū)使所述平衡板的第一側(cè)邊高于所述平衡板的第二側(cè)邊;以及
擋件,設(shè)于所述機(jī)臺上,并位于所述平衡板的第一側(cè)邊的上升的路徑上的上方;所述擋件用以在所述平衡板的第一側(cè)邊上升至預(yù)設(shè)高度時,阻擋所述平衡板的第一側(cè)邊繼續(xù)上升,并與所述升降機(jī)構(gòu)共同驅(qū)使所述平衡板的第二側(cè)邊上升。
上述慢提拉裝置,通過設(shè)于平衡板底部的升降機(jī)構(gòu)實現(xiàn)平衡板的傾斜,進(jìn)而實現(xiàn)花籃的傾斜。然后通過增設(shè)一個擋件,通過升降機(jī)構(gòu)和擋件共同作用,即可實現(xiàn)花籃的放平操作。擋件的作用在于可在平衡板的第一側(cè)邊升高至預(yù)設(shè)高度時阻擋平衡板的第一側(cè)邊的上升即可,結(jié)構(gòu)簡單,即使得慢提拉裝置結(jié)構(gòu)簡單。
在其中一個實施例中,所述升降機(jī)構(gòu)的頂端設(shè)有頂桿,所述頂桿沿平行于所述平衡板的第一側(cè)邊的方向延伸。
在其中一個實施例中,沿所述頂桿的延伸方向,所述頂桿的長度大于等于所述平衡板的寬度。
在其中一個實施例中,所述擋件的下表面設(shè)有緩沖墊。
在其中一個實施例中,所述擋件上設(shè)有一端開口的滑槽,所述滑槽的開口端位于所述擋件的下表面;所述平衡板的上表面設(shè)有可插入所述凹陷的凸起;所述凸起可在所述凹陷內(nèi)沿垂直于所述平衡板的第一側(cè)邊的方向移動。
在其中一個實施例中,所述平衡板下表面設(shè)有限位部,以限制所述升降機(jī)構(gòu)的頂端相對所述平衡板沿垂直于所述第一側(cè)邊的方向移動。
在其中一個實施例中,所述平衡板具有相對的第三側(cè)邊和第四側(cè)邊;所述升降機(jī)構(gòu)上升可將所述平衡板頂起并驅(qū)使所述平衡板的第三側(cè)邊高于所述平衡板的第四側(cè)邊。
在其中一個實施例中,所述升降機(jī)構(gòu)包括可沿豎直方向伸縮的氣缸。
在其中一個實施例中,所述升降機(jī)構(gòu)包括電機(jī)、升降桿以及用以限制所述升降桿轉(zhuǎn)動的限位件;所述升降桿具有沿軸向延伸的圓孔;所述電機(jī)的輸出軸插設(shè)于所述升降桿的圓孔內(nèi),并與所述升降桿螺紋連接。
本發(fā)明還提供一種硅片清洗機(jī)。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





