[發(fā)明專利]慢提拉裝置及硅片清洗機(jī)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910571229.3
• 申請日: 2019-06-28
• 公開（公告）號: CN110211904A
• 公開（公告）日: 2019-09-06
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 黎彬
• 申請（專利權(quán)）人: 阜寧協(xié)鑫光伏科技有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L21/677
• 代理公司: 廣州華進(jìn)聯(lián)合專利商標(biāo)代理有限公司 44224
• 代理人: 閆曉欣

1.一種慢提拉裝置，其特征在于，包括：

機(jī)臺；

平衡板，用以放置裝有硅片的花籃；所述平衡板具有相對的第一側(cè)邊和第二側(cè)邊；

升降機(jī)構(gòu)，位于所述平衡板的下側(cè)；所述升降機(jī)構(gòu)可驅(qū)動所述平衡板升起并驅(qū)使所述平衡板的第一側(cè)邊高于所述平衡板的第二側(cè)邊；以及

擋件，設(shè)于所述機(jī)臺上，并位于所述平衡板的第一側(cè)邊的上升路徑上的上方；所述擋件用以在所述平衡板的第一側(cè)邊上升至預(yù)設(shè)高度時，阻擋所述平衡板的第一側(cè)邊繼續(xù)上升，使得所述升降機(jī)構(gòu)可驅(qū)使所述平衡板的第二側(cè)邊上升。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的慢提拉裝置，其特征在于，所述升降機(jī)構(gòu)的頂端設(shè)有頂桿，所述頂桿沿平行于所述平衡板的第一側(cè)邊的方向延伸。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的慢提拉裝置，其特征在于，沿所述頂桿的延伸方向，所述頂桿的長度大于等于所述平衡板的寬度。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的慢提拉裝置，其特征在于，所述擋件的下表面設(shè)有緩沖墊。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的慢提拉裝置，其特征在于，所述擋件上設(shè)有一端開口的滑槽，所述滑槽的開口端位于所述擋件的下表面；所述平衡板的上表面設(shè)有可插入所述凹陷的凸起；所述凸起可在所述凹陷內(nèi)沿垂直于所述平衡板的第一側(cè)邊的方向移動。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的慢提拉裝置，其特征在于，所述平衡板下表面設(shè)有限位部，以限制所述升降機(jī)構(gòu)的頂端相對所述平衡板沿垂直于所述第一側(cè)邊的方向移動。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的慢提拉裝置，其特征在于，所述平衡板具有相對的第三側(cè)邊和第四側(cè)邊；所述升降機(jī)構(gòu)上升可將所述平衡板頂起并驅(qū)使所述平衡板的第三側(cè)邊高于所述平衡板的第四側(cè)邊。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的慢提拉裝置，其特征在于，所述升降機(jī)構(gòu)包括可沿豎直方向伸縮的氣缸。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的慢提拉裝置，其特征在于，所述升降機(jī)構(gòu)包括電機(jī)、升降桿以及用以限制所述升降桿轉(zhuǎn)動的限位件；所述升降桿具有沿軸向延伸的圓孔；所述電機(jī)的輸出軸插設(shè)于所述升降桿的圓孔內(nèi)，并與所述升降桿螺紋連接。

10.一種硅片清洗機(jī)，其特征在于，包括清洗槽以及權(quán)利要求1至9任一項所述的慢提拉裝置。