[發(fā)明專利]一種新型PoP封裝結(jié)構(gòu)及其制作方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910567098.1 | 申請(qǐng)日: | 2019-06-27 |
| 公開(公告)號(hào): | CN110349861A | 公開(公告)日: | 2019-10-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李俊;葉懷宇;劉旭;裴明月;張國旗 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 深圳第三代半導(dǎo)體研究院 |
| 主分類號(hào): | H01L21/48 | 分類號(hào): | H01L21/48;H01L21/56;H01L23/31;H01L23/498;H01L25/065 |
| 代理公司: | 北京中知法苑知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11226 | 代理人: | 李明 |
| 地址: | 518051 廣東省深圳市*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基板 芯片本體 塑封體 焊接 電鍍金屬 金屬柱 錫球 半導(dǎo)體封裝技術(shù) 焊點(diǎn) 連接可靠性 位置選擇性 傳統(tǒng)工藝 傳統(tǒng)錫球 倒裝芯片 封裝方式 高度集成 互聯(lián)結(jié)構(gòu) 開路缺陷 上表面 電鍍 頂層 貼合 制備 制作 | ||
1.一種新型PoP封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,包括:表面處理的塑封體(8),所述表面處理的塑封體(8)包括基板(1)、電鍍?cè)诨?1)上的n個(gè)金屬柱(3)、貼合在所述基板(1)上的芯片本體(4)、從芯片本體(4)頂部引出的若干與所述基板(1)鍵合的引線(7)及焊接在所述基板(1)上的倒裝芯片本體(5),其中n≥1,所述n個(gè)金屬柱(3)頂部與所述塑封體(8)同高;
焊接在所述表面處理的塑封體(8)上表面和m個(gè)金屬柱(3)頂部的錫球(9)和焊接在所述錫球(9)頂部的頂層芯片本體(10),其中m≤n。
2.一種如權(quán)利要求1所述的新型PoP封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,所述基板(1)為圖案化基板;所述表面處理的塑封體(8)為表面圖案化塑封體。
3.一種如權(quán)利要求1-3所述的新型PoP封裝結(jié)構(gòu),其特征在于,所述n個(gè)金屬柱(3)的材料為銅、鎳、銀及其合金任一種。
4.一種如權(quán)利要求1所述的新型PoP封裝結(jié)構(gòu)及其制備方法,其特征在于,包括以下步驟:
S101、提供圖案化基板(1);
S102、在所述圖案化基板(1)上制作干膜(2);
S103、對(duì)所述干膜(2)進(jìn)行圖案化和顯影,形成與干膜(2)同高的n個(gè)通孔,所述n個(gè)通孔制作到所述圖案化基板(1)的上表面;對(duì)所述n個(gè)通孔進(jìn)行電鍍,形成n個(gè)金屬柱(3),其中n≥1;
S104、去除所述干膜(2),使所述n個(gè)金屬柱(3)突出設(shè)置在所述圖案化基板(1)上;
S105、將芯片本體(4)貼合在所述圖形化基板(1)上,并從芯片頂部引出若干引線(7)與所述圖案化基板(1)進(jìn)行鍵合;
S106、將倒裝芯片本體(5)焊接在所述圖案化基板(1)上;
S107、使用塑封料(6)對(duì)所述圖案化基板(1)和所述n個(gè)金屬柱(3)進(jìn)行塑封,形成塑封體(8);
S108、對(duì)所述塑封體(8)上表面進(jìn)行研磨,露出所述n個(gè)金屬柱(3)頂部;
S109、所述塑封體(8)上表面進(jìn)行圖案化,并進(jìn)行表面處理;
S110、在露出的m個(gè)金屬柱(3)頂部和表面處理的塑封體(8)上表面焊接n個(gè)錫球(9),其中m≤n;
S111、在所述n個(gè)錫球(9)頂部焊接頂層芯片本體(10)。
5.一種如權(quán)利要求4所述的新型PoP封裝結(jié)構(gòu)制備方法,其特征在于,其中所述S108露出所述n個(gè)金屬柱(3)頂部方式為激光鉆孔。
6.一種如權(quán)利要求4所述的新型PoP封裝結(jié)構(gòu)制備方法,其特征在于,其中所述S103形成的所述n個(gè)金屬柱(3)與所述干膜(2)高度相同。
7.一種如權(quán)利要求4所述的新型PoP封裝結(jié)構(gòu)制備方法,其特征在于,其中所述S101、S103或S109中所述圖案化通過化學(xué)刻蝕方法完成。
8.一種如權(quán)利要求4-6中任一項(xiàng)所述的新型PoP封裝結(jié)構(gòu)制備方法,其特征在于,所述n個(gè)金屬柱(3)的材料為銅、鎳、銀及其合金任一種。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





