[發明專利]以雷射開窗形成光學擋墻的方法及光學擋墻結構

在審

• 申請號: 201910547355.5
• 申請日: 2019-06-24
• 公開（公告）號: CN112133807A
• 公開（公告）日: 2020-12-25
• 發明（設計）人: 李蕙如
• 申請（專利權）人: 培英半導體有限公司
• 主分類號: H01L33/48
• 分類號: H01L33/48;H01L33/44;H01L33/58;H01L31/0232;H01L31/0216;H01L31/0203
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 郭化雨

本發明提供一種光學擋墻結構，其包括一基板、一第一擋墻層、一雷射遮蔽銅層及一第二擋墻層，基板具有一工作面，第一擋墻層形成于工作面上，且第一擋墻層圍構一裸露工作面的第一開窗；雷射遮蔽銅層形成于第一擋墻層的一上表面但不形成于圍構第一開窗的側壁；第二擋墻層形成于雷射遮蔽銅層上，且第二擋墻層圍構一第二開窗，第二擋墻層的橫截面積小于第一擋墻層，第二開窗的輪廓大于第一開窗，且第二開窗裸露雷射遮蔽銅層的一部分。本發明還提供一種以雷射開窗形成光學擋墻的方法。

技術領域

本發明是有關于一種光電機構的制作方法及結構，特別是關于一種在光電機構上形成擋墻的制作方法及其結構。

背景技術

現有的光傳感器包括一發光單元及一感光單元，發光單元所發射的光線被偵測物反射后，可由感光單元接收并輸出一感測信號。為了避免發光單元所發出的光線直接傳遞到感光單元，現有的光傳感器會在發光單元與感光單元之間設置擋墻，讓發光單元只在預定的方向發出光線，并讓感光單元只感測來自預定方向的光線，因此增加光傳感器的可靠度。

現有光傳感器的擋墻多是通過射出成型(injection molding)等模塑方式來形成，但此制程有其不足在于：(1)易有溢膠問題，因而降低良率；(2)易因模塑偏移(moldshift)而影響精度，且不利小型化；(3)需針對不同擋墻造型分別制作模具，因而增加成本。

發明內容

有鑒于此，本發明的主要目的在于提供一種可提高精度并降低成本的光電機構制程。

為了達成上述及其他目的，本發明提供一種以雷射開窗形成光學擋墻的方法，包括：

提供一基板，該基板具有一工作面；

將一第一擋墻膜形成于該工作面，該第一擋墻膜具有一第一擋墻區及一第一非擋墻區；

在該第一擋墻膜進行雷射雕刻前，將一第二擋墻膜形成于該第一擋墻膜上，該第二擋墻膜具有一第二擋墻區及一第二非擋墻區，該第二擋墻區位于該第一擋墻區上，且該第二擋墻區的橫截面積不大于該第一擋墻區；

利用激光束將該第一、第二非擋墻區移除，保留該第一、第二擋墻區，其中該第一、第二擋墻區圍構一裸露該工作面的開窗。

為了達成上述及其他目的，本發明還提供一種光學擋墻結構，其包括一基板、一第一擋墻層、一雷射遮蔽銅層及一第二擋墻層，基板具有一工作面，第一擋墻層形成于工作面上，且第一擋墻層圍構一裸露工作面的第一開窗；雷射遮蔽銅層形成于第一擋墻層的一上表面但不形成于圍構第一開窗的側壁；第二擋墻層形成于雷射遮蔽銅層上，且第二擋墻層圍構一第二開窗，第二擋墻層的橫截面積小于第一擋墻層，第二開窗的輪廓大于第一開窗，且第二開窗裸露雷射遮蔽銅層的一部分。

經由上述方法所形成的擋墻精度高，加工成本得以下降，且光電機構的電路設計自由度得以提高，即便修改開窗位置或形狀，也不須如先前技術般重新制作或修改模具。并且，通過在擋墻層之間形成雷射遮蔽銅層的方法，能夠在一次雷射雕刻作業中使多層擋墻層具有不同的輪廓，因此大幅提高設計自由度。

有關本發明的其它功效及實施例的詳細內容，配合附圖說明如下。

附圖說明

為了更清楚地說明本申請實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本申請中記載的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其它的附圖。

圖1至圖12為本發明第一實施例的制作方法示意圖；

圖13為本發明光學擋墻結構的另一實施例。

符號說明

10 基板 11 工作面