[發明專利]掩膜框架組件在審
| 申請號: | 201910546872.0 | 申請日: | 2019-06-24 |
| 公開(公告)號: | CN110894587A | 公開(公告)日: | 2020-03-20 |
| 發明(設計)人: | 河在秀;李秀奐;徐成昊;柳光泰 | 申請(專利權)人: | 三星顯示有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/04 | 分類號: | C23C14/04;C23C14/12;C23C16/04;H01L51/56;H01L27/32 |
| 代理公司: | 北京銘碩知識產權代理有限公司 11286 | 代理人: | 李盛泉;孫昌浩 |
| 地址: | 韓國京畿*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 框架 組件 | ||
本發明公開了一種掩膜框架組件。本發明可包括:掩膜框架;以及掩膜條,配備有沿第一方向延伸的第一掩膜條、沿與第一方向交叉的第二方向延伸的第二掩膜條、與第一掩膜條及第二掩膜條連接而定義多個沉積區域的多個第三掩膜條,其中,所述第一掩膜條的厚度與第二掩膜條的厚度不同,并且在所述第一掩膜條與第二掩膜條相互連接的部分可布置有部分蝕刻部。
技術領域
本發明涉及一種掩膜框架組件。
背景技術
通常,顯示裝置可利用于諸如智能手機、膝上型計算機、數碼相機、攝像機、便攜式信息終端、筆記本電腦、平板個人電腦等移動裝置,或諸如臺式計算機、電視、室外廣告板、展示用顯示裝置、汽車儀表盤、平視顯示器(head up display,HUD)等電子裝置。
為了在基板上形成薄膜,顯示裝置使用多種方法。其中,沉積法為利用掩膜將沉積物質沉積于基板上的方法。掩膜包括布置有用于沉積發光層的多個圖案孔的圖形掩膜以及無需圖案孔的開口掩膜。開口掩膜包括用于沉積通用層的開口。
為了便于制造,開口掩膜使用大型掩膜以同時制造多種尺寸的顯示裝置。開口掩膜被施加預定的拉力而焊接于掩膜框架。
發明內容
然而,在使用配備有多個分離的掩膜條的大型掩膜的情況下,在多個掩膜條相互連接的部分可能發生掩膜條的變形。
本發明的實施例的目的在于提供一種能夠防止在多個掩膜條相互連接的部分的變形的混合型掩膜條以及應用其的掩膜框架組件。
根據本發明的一側面的掩膜框架組件可包括:掩膜框架,具有開口;以及掩膜條,布置于所述掩膜框架上,并且配備有至少一個沿第一方向延伸的第一掩膜條、至少一個沿與第一方向交叉的第二方向延伸的第二掩膜條、與所述第一掩膜條及第二掩膜條的各個端部連接而定義多個沉積區域的多個第三掩膜條,其中,所述第一掩膜條的厚度與所述第二掩膜條的厚度不同,并且在所述第一掩膜條與所述第二掩膜條相互連接的部分可布置有部分蝕刻部。
作為一實施例,所述部分蝕刻部可布置于安裝第二掩膜條的所述第一掩膜條,并且對應于厚度比所述第一掩膜條的其他部分的厚度薄的部分。
作為一實施例,所述部分蝕刻部的深度可以與所述第二掩膜條的厚度相同。
作為一實施例,所述部分蝕刻部的間距可以在第二方向上比所述第一掩膜條的寬度窄。
作為一實施例,所述第一掩膜條的厚度可以比所述第二掩膜條的厚度厚。
作為一實施例,所述第二掩膜條的寬度可以整體上相同。
作為一實施例,安裝于所述部分蝕刻部的所述第二掩膜條的端部寬度可以比所述第二掩膜條的其他部分的寬度寬。
作為一實施例,所述第二掩膜條可以焊接于所述第一掩膜條,焊接點可以沿所述第二掩膜條的邊緣布置。
作為一實施例,所述第一掩膜條可以包括:第一條部;以及第二條部,布置于所述第一條部上,并層疊于所述第一條部;其中,所述部分蝕刻部可布置于所述第二條部與所述第二掩膜條相互連接的部分。
作為一實施例,所述第一條部是連接于所述第二掩膜條的條,所述第二條部是定義多個沉積區域的條,所述第一條部的厚度可以比所述第二條部的厚度厚。
作為一實施例,所述部分蝕刻部可以包括:第一部分蝕刻部,布置于所述第二條部,并具有比所述第二條部的其他部分的厚度薄的厚度;及第二部分蝕刻部,布置于所述第二掩膜條,并具有比所述第二掩膜條的其他部分的厚度薄的厚度,其中,所述第一部分蝕刻部和第二部分蝕刻部具有相互對應的形狀,并可在與第一方向及第二方向交叉的第三方向上相互結合。
作為一實施例,所述第一部分蝕刻部與第二部分蝕刻部相互連接的部分的厚度可以和所述第二條部的其他部分的厚度相同。
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