[發(fā)明專利]一種鎢和氮化鈦金屬薄膜的蝕刻液及其使用方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910544828.6
• 申請日: 2019-06-21
• 公開（公告）號: CN110195229B
• 公開（公告）日: 2021-05-14
• 發(fā)明（設計）人: 李少平;張庭;賀兆波;王書萍;馮凱;尹印
• 申請（專利權）人: 湖北興福電子材料有限公司
• 主分類號: C23F1/26
• 分類號: C23F1/26;C09K13/08
• 代理公司: 宜昌市三峽專利事務所 42103
• 代理人: 成鋼

1.一種鎢和氮化鈦金屬薄膜的蝕刻液，其特征在于，所述的蝕刻液成分包括占蝕刻液總重量50-80%的磷酸、0.1-5%的硝酸、5-15%的醋酸、0.01-3%的氟化合物、0.01-1%的多元羧酸以及1-40%的水，所述的多元羧酸為檸檬酸，所述的氟化合物為氫氟酸或氟化銨。

2.根據權利要求1所述的鎢和氮化鈦金屬薄膜的蝕刻液，其特征在于，所述的蝕刻液主要成分包括占蝕刻液總重量65-75%的磷酸、0.5-3%的硝酸、8-12%的醋酸、0.01-1%的氟化合物、0.01-0.5%的多元羧酸以及10-20%的水。

3.根據權利要求1所述的鎢和氮化鈦金屬薄膜的蝕刻液，其特征在于，所述的磷酸濃度為≥85%。

4.根據權利要求1-3任一項所述的鎢和氮化鈦金屬薄膜的蝕刻液的使用方法，其特征在于，該蝕刻液的配制方法為，在PFA瓶中分別按順序添加磷酸、多元羧酸、醋酸、硝酸、氟化合物，最后加入水將蝕刻液調至配制總量，采用攪拌或超聲分散得到蝕刻液；將鎢和氮化鈦金屬薄膜浸泡于蝕刻液中，在50-80℃下蝕刻30-100min即可完成蝕刻。