[發(fā)明專(zhuān)利]陽(yáng)極膜修復(fù)方法、陽(yáng)極結(jié)構(gòu)及化學(xué)氣相沉淀設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910543647.1
• 申請(qǐng)日: 2019-06-21
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN110218990B
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-05-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王明一
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: TCL華星光電技術(shù)有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): C23C16/50
• 分類(lèi)號(hào): C23C16/50
• 代理公司: 深圳翼盛智成知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 44300
• 代理人: 黃威

本發(fā)明提供了一種陽(yáng)極膜修復(fù)方法、陽(yáng)極結(jié)構(gòu)及化學(xué)氣相沉淀設(shè)備。該陽(yáng)極膜修復(fù)方法，包括以下步驟：S1、標(biāo)記出陽(yáng)極膜上產(chǎn)生電弧的待修補(bǔ)區(qū)域；S2、對(duì)所述待修補(bǔ)區(qū)域進(jìn)行清洗；S3、對(duì)清洗后的所述待修補(bǔ)區(qū)域涂布后補(bǔ)保護(hù)膜層以形成優(yōu)化區(qū)域；S4、對(duì)所述優(yōu)化區(qū)域進(jìn)行表面處理，以使得該優(yōu)化區(qū)域平整；S5、對(duì)表面處理后的優(yōu)化區(qū)域進(jìn)行阻抗檢測(cè)；S6、若阻抗檢測(cè)不通過(guò)，則轉(zhuǎn)至步驟S3；S7、若阻抗檢測(cè)通過(guò)，則修復(fù)結(jié)束。本發(fā)明通過(guò)采用后補(bǔ)保護(hù)膜層涂布到電弧產(chǎn)生的區(qū)域可以對(duì)陽(yáng)極結(jié)構(gòu)進(jìn)行修復(fù)，并且可以降低成本。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及化學(xué)氣相沉淀領(lǐng)域，具體涉及一種陽(yáng)極膜修復(fù)方法、陽(yáng)極結(jié)構(gòu)及化學(xué)氣相沉淀設(shè)備。

背景技術(shù)

在化學(xué)氣相沉淀工藝過(guò)程中，化學(xué)氣相沉淀設(shè)備的下電極在生產(chǎn)中，因膜邊異常或產(chǎn)品缺陷導(dǎo)致下電極表面發(fā)生電弧反應(yīng)，視情況需進(jìn)行陽(yáng)極膜再生；每次進(jìn)行陽(yáng)極膜再生的維修的費(fèi)用均是較大的支出。

因此，現(xiàn)有技術(shù)存在缺陷，急需改進(jìn)。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明提供一種陽(yáng)極膜修復(fù)方法、陽(yáng)極結(jié)構(gòu)及化學(xué)氣相沉淀設(shè)備，可以節(jié)約成本。

本發(fā)明提供了一種陽(yáng)極膜修復(fù)方法，包括以下步驟：

S1、標(biāo)記出陽(yáng)極膜上產(chǎn)生電弧的待修補(bǔ)區(qū)域；

S2、對(duì)所述待修補(bǔ)區(qū)域進(jìn)行清洗；

S3、對(duì)清洗后的所述待修補(bǔ)區(qū)域涂布后補(bǔ)保護(hù)膜層以形成優(yōu)化區(qū)域；

S4、對(duì)所述優(yōu)化區(qū)域進(jìn)行表面處理，以使得該優(yōu)化區(qū)域平整；

S5、對(duì)表面處理后的優(yōu)化區(qū)域進(jìn)行阻抗檢測(cè)；

S6、若阻抗檢測(cè)不通過(guò)，則轉(zhuǎn)至步驟S3；

S7、若阻抗檢測(cè)通過(guò)，則修復(fù)結(jié)束。

在本發(fā)明所述的陽(yáng)極膜修復(fù)方法中，所述步驟S3包括：

對(duì)清洗后的所述待修補(bǔ)區(qū)域涂布陶瓷膠層以形成優(yōu)化區(qū)域。

在本發(fā)明所述的陽(yáng)極膜修復(fù)方法中，所述步驟S4包括：

對(duì)所述優(yōu)化后的區(qū)域進(jìn)行打磨處理，以使得該優(yōu)化區(qū)域平整且與和所述優(yōu)化區(qū)域相連的區(qū)域持平。

在本發(fā)明所述的陽(yáng)極膜修復(fù)方法中，所述步驟S5包括：

采用萬(wàn)用表檢測(cè)所述表面處理后的優(yōu)化區(qū)域的阻抗值；

若阻抗值大于閾值則表明阻抗檢測(cè)通過(guò)；

若阻抗值小于閾值則表面阻抗檢測(cè)不通過(guò)。

在本發(fā)明所述的陽(yáng)極膜修復(fù)方法中，所述步驟S2包括：

采用堿性溶液對(duì)所述待修補(bǔ)區(qū)域進(jìn)行清洗。

一種陽(yáng)極結(jié)構(gòu)，應(yīng)用于化學(xué)氣相沉淀設(shè)備中，所述陽(yáng)極結(jié)構(gòu)包括：

一陽(yáng)極金屬層，所述陽(yáng)極金屬層包括第一區(qū)域以及第二區(qū)域；

一陽(yáng)極膜層，其設(shè)置于所述陽(yáng)極金屬層上的第一區(qū)域；

一后補(bǔ)保護(hù)膜層，其設(shè)置于所述陽(yáng)極金屬層上的第二區(qū)域。

在本發(fā)明所述的陽(yáng)極結(jié)構(gòu)中，所述后補(bǔ)保護(hù)膜層為陶瓷膠涂布層。

在本發(fā)明所述的陽(yáng)極結(jié)構(gòu)中，所述后補(bǔ)保護(hù)膜層表面平整且與所述陽(yáng)極膜層齊平。

在本發(fā)明所述的陽(yáng)極結(jié)構(gòu)中，所述陽(yáng)極膜層為致密金屬氧化膜。

一種化學(xué)氣相沉淀設(shè)備，其包括上述任一項(xiàng)所述的陽(yáng)極結(jié)構(gòu)。