[發明專利]一種光刻設備及其控制方法、裝置和存儲介質

有效

• 申請號: 201910526117.6
• 申請日: 2019-06-18
• 公開（公告）號: CN112099317B
• 公開（公告）日: 2022-03-11
• 發明（設計）人: 崔佳明;朱岳彬;廖飛紅
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備(集團)股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 孟金喆

本發明實施例公開了一種光刻設備及其控制方法、裝置和存儲介質，其中光刻設備的控制方法包括：位于曝光區的一運動臺在曝光工序中勻速運動時，運動臺的勻速速度為第一速度，控制另一運動臺在非曝光區運動的速度小于或等于第一預設速度，第一預設速度小于第一速度，使得導軌的振動較小，進而保證在曝光區進行曝光工序的運動臺受到的擾動盡可能小，使兩個運動臺之間的串擾盡可能被消除，保證運動臺的曝光精度。

技術領域

本發明實施例涉及光刻技術領域，尤其涉及一種光刻設備及其控制方法、裝置和存儲介質。

背景技術

隨著光刻技術的發展，大世代雙運動臺的光刻機得到越來越廣泛的應用。

大世代的光刻機可用于尺寸較大的基板的曝光，但是基板尺寸較大造成運動臺承載基板運動時慣性較大，運動臺運動時也會帶來光刻機設備的振動，使得兩個運動臺已發生串擾，影響曝光精度。

發明內容

本發明提供一種光刻設備及其控制方法、裝置和存儲介質，以實現降低光刻機兩個運動臺之間的串擾，提高曝光精度。

第一方面，本發明實施例提供了一種光刻設備的控制方法，光刻設備包括兩運動臺，運動臺的工作區包括曝光區和非曝光區；光刻設備的控制方法包括：

位于曝光區的一運動臺在曝光工序中勻速運動時，運動臺的勻速速度為第一速度，控制另一運動臺在非曝光區運動的速度小于或等于第一預設速度，第一預設速度小于第一速度。

其中，第一預設速度等于0。

其中，位于曝光區的一運動臺在曝光工序勻速運動，包括：

在曝光工序，控制運動臺在同一曝光場內勻速運動；

在曝光工序，還包括：

控制運動臺在不同曝光場之間加速或減速運動。

其中，光刻設備的控制方法還包括：

位于曝光區的一運動臺在曝光工序中加速或減速運動時，控制另一運動臺從非曝光區向曝光區運動以進行物料對準，且另一運動臺從非曝光區向曝光區運動的速度大于第一預設速度。

其中，在曝光區進行的工序包括掩模對準工序和曝光工序，在非曝光區進行的工序包括運動臺歸位工序、交接物料工序、預對準工序、物料對準工序；

光刻設備的控制方法包括：

控制運動臺在曝光區進行曝光工序之前，控制運動臺運動至曝光區進行掩模對準工序。

其中，控制運動臺運動至曝光區進行掩模對準工序包括：

控制一運動臺進行掩模對準工序，控制另一運動臺依次進行運動臺歸位工序、交接物料工序和預對準工序。

其中，控制運動臺在曝光區進行曝光工序，包括：

控制一運動臺進行曝光工序，控制另一運動臺進行物料對準工序。

其中，一運動臺在曝光區進行曝光工序的時間等于另一運動臺在非曝光區進行物料對準工序的時間。

其中，控制一運動臺進行曝光工序，控制另一運動臺進行物料對準工序，包括：

一運動臺的曝光工序和另一運動臺的物料對準工序同時完成時，控制完成物料對準工序的運動臺處于曝光區和非曝光區的交界處。

其中，在控制運動臺運動至曝光區進行掩模對準工序之前，還包括初始化工序，初始化工序包括：

控制物料傳輸裝置對兩運動臺進行上料；

控制上料預對準裝置對兩運動臺進行預對準；

控制物料對準裝置對兩運動臺進行物料對準；