[發明專利]一種光刻設備及其控制方法、裝置和存儲介質

有效

• 申請號: 201910526117.6
• 申請日: 2019-06-18
• 公開（公告）號: CN112099317B
• 公開（公告）日: 2022-03-11
• 發明（設計）人: 崔佳明;朱岳彬;廖飛紅
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備(集團)股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 孟金喆

1.一種光刻設備的控制方法，其特征在于，所述光刻設備包括兩運動臺，所述運動臺的工作區包括曝光區和非曝光區；所述光刻設備的控制方法包括：

位于所述曝光區的一運動臺在曝光工序中勻速運動時，所述運動臺的勻速速度為第一速度，控制另一運動臺在所述非曝光區運動的速度等于第一預設速度，所述第一預設速度小于所述第一速度；

位于所述曝光區的一運動臺在曝光工序中加速或減速運動時，控制另一運動臺從所述非曝光區向所述曝光區運動以進行物料對準，且另一運動臺從所述非曝光區向所述曝光區運動的速度大于所述第一預設速度；

所述第一預設速度等于0。

2.根據權利要求1所述的光刻設備的控制方法，其特征在于，所述位于所述曝光區的一運動臺在曝光工序勻速運動，包括：

在曝光工序，控制所述運動臺在同一曝光場內勻速運動；

在曝光工序，還包括：

控制所述運動臺在不同曝光場之間加速或減速運動。

3.根據權利要求1所述的光刻設備的控制方法，其特征在于，在所述曝光區進行的工序包括掩模對準工序和曝光工序，在所述非曝光區進行的工序包括運動臺歸位工序、交接物料工序、預對準工序、物料對準工序；

所述光刻設備的控制方法包括：

控制所述運動臺在所述曝光區進行曝光工序之前，控制所述運動臺運動至所述曝光區進行所述掩模對準工序。

4.根據權利要求3所述的光刻設備的控制方法，其特征在于，所述控制所述運動臺運動至所述曝光區進行所述掩模對準工序包括：

控制一所述運動臺進行掩模對準工序，控制另一所述運動臺依次進行運動臺歸位工序、交接物料工序和預對準工序。

5.根據權利要求3所述的光刻設備的控制方法，其特征在于，控制所述運動臺在所述曝光區進行曝光工序，包括：

控制一所述運動臺進行曝光工序，控制另一所述運動臺進行物料對準工序。

6.根據權利要求5所述的光刻設備的控制方法，其特征在于，一所述運動臺在所述曝光區進行曝光工序的時間等于另一運動臺在所述非曝光區進行物料對準工序的時間。

7.根據權利要求6所述的光刻設備的控制方法，其特征在于，所述控制一所述運動臺進行曝光工序，控制另一所述運動臺進行物料對準工序，包括：

一運動臺的所述曝光工序和另一運動臺的所述物料對準工序同時完成時，控制完成所述物料對準工序的所述運動臺處于所述曝光區和所述非曝光區的交界處。

8.根據權利要求3所述的光刻設備的控制方法，其特征在于，在所述控制所述運動臺運動至所述曝光區進行所述掩模對準工序之前，還包括初始化工序，所述初始化工序包括：

控制物料傳輸裝置對兩所述運動臺進行上料；

控制上料預對準裝置對兩所述運動臺進行預對準；

控制物料對準裝置對兩所述運動臺進行物料對準；

控制兩所述運動臺之中的任一運動臺運動至所述曝光區。

9.一種光刻設備的控制裝置，其特征在于，所述光刻設備包括兩運動臺，所述運動臺的工作區包括曝光區和非曝光區；所述光刻設備的控制裝置包括：

控制模塊，所述控制模塊用于位于所述曝光區的一運動臺在曝光工序中勻速運動時，所述運動臺的勻速速度為第一速度，控制另一運動臺在所述非曝光區運動的速度等于第一預設速度，所述第一預設速度小于所述第一速度；

位于所述曝光區的一運動臺在曝光工序中加速或減速運動時，控制另一運動臺從所述非曝光區向所述曝光區運動以進行物料對準，且另一運動臺從所述非曝光區向所述曝光區運動的速度大于所述第一預設速度；所述第一預設速度等于0。

10.一種計算機可讀存儲介質，其上存儲有計算機程序，其特征在于，該程序被處理器執行時實現如權利要求1-8任一所述的光刻設備的控制方法。

11.一種光刻設備，其特征在于，包括權利要求9所述的光刻設備的控制裝置，還包括兩運動臺，所述運動臺的工作區包括曝光區和非曝光區。