[發(fā)明專(zhuān)利]一種像素界定層、制作方法和顯示面板

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910509611.1
• 申請(qǐng)日: 2019-06-13
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN110164948B
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-12-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 侯文軍
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): H01L27/32
• 分類(lèi)號(hào): H01L27/32;H01L51/56
• 代理公司: 北京正理專(zhuān)利代理有限公司 11257
• 代理人: 付生輝

本發(fā)明公開(kāi)了一種像素界定層、制作方法和顯示面板，所述像素界定層包括設(shè)置在基板上的第一像素界定層和位于所述第一像素界定層遠(yuǎn)離所述基板一側(cè)的第二像素界定區(qū)，其中，第二像素界定區(qū)靠近基板的表面與第一像素界定層遠(yuǎn)離基板的表面存在環(huán)狀的非重疊區(qū)，并且第二像素界定區(qū)靠近基板的表面在基板上的正投影覆蓋第一像素界定層遠(yuǎn)離基板的表面在基板上的正投影；第二像素界定區(qū)包括第二像素界定層和靠近第一像素界定層的環(huán)狀的紫外光吸收層，紫外光吸收層在基板上的正投影覆蓋非重疊區(qū)在基板上的正投影。本發(fā)明提供的實(shí)施例通過(guò)設(shè)置紫外光吸收層能夠解決曝光過(guò)程中因光散射導(dǎo)致的像素界定層的拖尾問(wèn)題。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種像素界定層、制作方法和顯示面板。

背景技術(shù)

有機(jī)電致發(fā)光器件(Organic Light-Emitting Diode；OLED)相對(duì)于LCD具有自發(fā)光、反應(yīng)快、視角廣、亮度高、色彩艷、輕薄等優(yōu)點(diǎn)，被認(rèn)為是下一代顯示技術(shù)。

有機(jī)電致發(fā)光器件的有機(jī)材料膜層的薄膜沉積方法主要有真空蒸鍍和溶液制程兩種：一、真空蒸鍍適用于有機(jī)小分子，其成膜均勻好、技術(shù)相對(duì)成熟、但是設(shè)備投資大、材料利用率低、大尺寸產(chǎn)品Mask對(duì)位精度低；二、溶液制程，包括旋涂、噴墨打印、噴嘴涂覆法等，適用于聚合物材料和可溶性小分子，其特點(diǎn)設(shè)備成本低，在大規(guī)模、大尺寸生產(chǎn)上優(yōu)勢(shì)突出。

現(xiàn)有技術(shù)中，像素界定層在有機(jī)電致發(fā)光器件中的作用是限定像素大小，在噴墨打印工藝中的作用還有就是限定墨水的流動(dòng)，控制墨水在像素內(nèi)成膜。目前，在使用負(fù)性光刻膠制備像素界定層的過(guò)程中，由于光學(xué)散射作用，光刻膠在邊緣會(huì)有很長(zhǎng)的拖尾，會(huì)影響像素實(shí)際開(kāi)口大小。

發(fā)明內(nèi)容

為解決上述問(wèn)題至少之一，本發(fā)明第一方面提供一種像素界定層，包括設(shè)置在基板上的第一像素界定層和位于所述第一像素界定層遠(yuǎn)離所述基板一側(cè)的第二像素界定區(qū)，其中，

所述第二像素界定區(qū)靠近所述基板一側(cè)的表面與所述第一像素界定層遠(yuǎn)離所述基板一側(cè)的表面存在環(huán)狀的非重疊區(qū)，并且所述第二像素界定區(qū)靠近所述基板一側(cè)的表面在所述基板上的正投影覆蓋所述第一像素界定層遠(yuǎn)離所述基板一側(cè)的表面在所述基板上的正投影；

所述第二像素界定區(qū)包括第二像素界定層和靠近所述第一像素界定層一側(cè)的環(huán)狀的紫外光吸收層，所述紫外光吸收層在所述基板上的正投影覆蓋所述非重疊區(qū)在所述基板上的正投影。

進(jìn)一步的，

所述第一像素界定層在第一方向上的尺寸為0.2-1μm；

所述第二像素界定層在第一方向上的尺寸為0.5-3μm；

所述紫外光吸收層在第二方向上的尺寸為1-5μm。

進(jìn)一步的，所述紫外光吸收層的材料為水楊酸酯類(lèi)、苯酮類(lèi)、苯并三唑類(lèi)、取代丙烯腈類(lèi)、三嗪類(lèi)和受阻胺類(lèi)中的一種。

進(jìn)一步的，所述第一像素界定層和/或所述第二像素界定層的材料為聚酰亞胺、聚甲基丙烯酸甲酯、氟化聚酰亞胺、氟化聚甲基丙烯酸甲酯中的一種。

進(jìn)一步的，所述第一像素界定層和所述第二像素界定層的材料相同。

本發(fā)明第二方面提供一種像素界定層的制作方法，包括：

在基板上形成第一材料層；

在所述第一材料層上形成環(huán)狀的紫外光吸收層；

在所述紫外光吸收層和第一材料層上形成第二材料層；

對(duì)所述第一材料層和第二材料層進(jìn)行曝光顯影形成像素界定層。

進(jìn)一步的，

所述第一像素界定層在第一方向上的尺寸為0.2-1μm；