[發明專利]一種雷達波隱身武器裝備維護測試方法

有效

• 申請號: 201910508576.1
• 申請日: 2019-06-13
• 公開（公告）號: CN112083413B
• 公開（公告）日: 2023-09-05
• 發明（設計）人: 張澎;彭剛;田進軍
• 申請（專利權）人: 北京測威科技有限公司
• 主分類號: G01S13/88
• 分類號: G01S13/88
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種雷達波隱身武器裝備維護測試方法，包括如下步驟：

S101、目視檢查：查找被測目標表面可能存在的隱身缺陷或疑似隱身缺陷，確定隱身缺陷所在區域，并對隱身缺陷所在區域進行編號；

S102、局部成像測量：使用測試設備對步驟S101確定的被測目標隱身缺陷所在區域，根據步驟S101標記的序號逐個分別進行現場的近場測量，經處理后得到遠場二維成像結果；

S103、圖像局部替換：利用步驟S102得到的一個或多個被測目標隱身缺陷區域遠場二維成像結果，逐個替換隱身武器裝備整體二維像基準數據庫中目標整體像的對應區域，得到局部替換后的被測目標整體像；

S104、目標RCS反演：對步驟S103得到的、局部替換后的被測目標整體像反演RCS，得到局部替換后的被測目標整體RCS；

S105、反演結果評估：將步驟S104得到的、局部替換后的被測目標整體RCS結果與隱身武器裝備整機RCS基準數據庫中的目標RCS結果比對，評估被測目標隱身缺陷對整體RCS的影響，如果評估結果為合格，則結束本次維護測試；否則，轉入步驟106；

S106、局部RCS反演：對步驟S102得到的一個或多個被測目標隱身缺陷區域成像結果逐個進行RCS反演，得到一個或多個被測目標隱身缺陷所在區域局部RCS；

S107、局部反演結果評估：將步驟S106得到的被測目標隱身缺陷所在區域局部RCS結果，與局部RCS基準數據庫中對應區域局部RCS結果比對，評估隱身缺陷對該區域局部RCS的影響，如果評估結果為合格，則結束本次維護測試；否則，轉入步驟S108；

S108、確定維修優先級。

2.根據權利要求1的所述一種雷達波隱身武器裝備維護測試方法，其特征在于，在步驟S102中，對于所獲得的近場測量的結果，使用近場成像算法得到缺陷區域的近場二維成像，再通過近遠場轉換算法由近場二維成像結果得到遠場二維成像結果。

3.根據權利要求2的所述一種雷達波隱身武器裝備維護測試方法，其特征在于，在步驟S102中，對遠場二維成像結果使用空間濾波器濾除待評估缺陷區域以外的信號，得到經濾波的缺陷區域成像結果并保存。

4.根據權利要求1、2或3的所述一種雷達波隱身武器裝備維護測試方法，所述遠場二維成像結果的數據包含完整的幅度、相位、中心點坐標。

5.根據權利要求1的所述一種雷達波隱身武器裝備維護測試方法，其特征在于，RCS反演是指由目標像獲得目標RCS結果，通過每個散射源形成的散射場矢量疊加，獲得目標總體的散射場結果。

6.根據權利要求1的所述一種雷達波隱身武器裝備維護測試方法，其特征在于，在步驟S105中，所述評估結果為合格是指，被測目標隱身缺陷對整體RCS的影響小于最大允許規定值。

7.根據權利要求1的所述一種雷達波隱身武器裝備維護測試方法，其特征在于，在步驟S107中，所述評估結果為合格是指，被測目標隱身缺陷所在區域局部RCS結果與局部RCS基準數據庫中相對應區域局部RCS結果偏離小于最大允許規定值。

8.根據權利要求1的所述一種雷達波隱身武器裝備維護測試方法，其特征在于，在步驟S108中，根據被測目標隱身缺陷所在區域局部RCS結果與局部RCS基準數據庫中對應區域的局部RCS結果偏離程度大小，確定該隱身缺陷維護修理優先級別。