[發明專利]含兩性離子基團和氧化還原基團的聚合物電解質及其制備方法

有效

• 申請號: 201910486519.8
• 申請日: 2019-06-05
• 公開（公告）號: CN112048036B
• 公開（公告）日: 2022-09-13
• 發明（設計）人: 朱波;朋海羅;張楹川;徐玉娟
• 申請（專利權）人: 上海大學
• 主分類號: C08F230/02
• 分類號: C08F230/02;C08F220/34;C08F220/38;C08F220/60;H01G11/56
• 代理公司: 上海宏京知識產權代理事務所(普通合伙) 31297
• 代理人: 何艷娥

1.一種含兩性離子基團和氧化還原基團的聚合物電解質，其特征在于，該聚合物電解質的結構通式如下：

其中，

m、n為正整數，10≤m≤5000，10≤n≤5000，且m:n為1:99～99:1；

R₁、R₂相互獨立地為-H、-(CH₂)_dCH₃中的任意一種，其中d為正整數，且0≤d≤8；

R₃選自如下結構中的任意一種：

R₄選自如下結構中的任意一種：

L₁、L₂相互獨立地為-CO-O-(CH₂)_a-、-O-CO-(CH₂)_a-、-CO-NH-(CH₂)_a-、-NH-CO-(CH₂)_a-、-CO-NH-(CH₂)_a-NH-CO-、-NH-CO-(CH₂)_a-CO-NH-中的任意一種，其中a為正整數，且0≤a≤8。

2.如權利要求1所述的含兩性離子基團和氧化還原基團的聚合物電解質，其特征在于，結構通式(I)中m和n的比例為1:99～40:60。

3.如權利要求1所述的含兩性離子基團和氧化還原基團的聚合物電解質，其特征在于，R₁、R₂相互獨立地為-H或-CH₃。

4.如權利要求1所述的含兩性離子基團和氧化還原基團的聚合物電解質，其特征在于，L₁、L₂相互獨立為-CO-O-CH₂-CH₂-、-O-CO-CH₂-CH₂-、-CO-NH-CH₂-CH₂-NH-CO-、-NH-CO-CH₂-CH₂-CO-NH-中任意一種。

5.如權利要求1-4任一項所述含兩性離子基團和氧化還原基團的聚合物電解質的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：

將含氧化還原基團的烯烴單體II和含兩性離子基團的烯烴單體III溶于有機溶劑中，在引發劑的作用下，自由基聚合獲得聚合物電解質I，其中I、II、III的結構通式分別為：

其中，

m、n為正整數，10≤m≤5000，10≤n≤5000，且m:n為1:99～99:1；

R₁、R₂相互獨立地為-H、-(CH₂)_dCH₃中的任意一種，其中d為正整數，且0≤d≤8；

R₃選自如下結構中的任意一種：

R₄選自如下結構中的任意一種：

L₁、L₂相互獨立地為-CO-O-(CH₂)_a-、-O-CO-(CH₂)_a-、-CO-NH-(CH₂)_a-、-NH-CO-(CH₂)_a-、-CO-NH-(CG₂)_a-NH-CO-、-NH-CO-(CH₂)_a-CO-NH-中的任意一種，其中a為正整數，且0≤a≤8。

6.如權利要求5所述的聚合物電解質的制備方法，其特征在于，所述II與III的摩爾濃度比為1:99～40:60。