[發明專利]一種X光散射線擬合校正方法及裝置

有效

• 申請號: 201910461574.1
• 申請日: 2019-05-30
• 公開（公告）號: CN110246096B
• 公開（公告）日: 2023-03-10
• 發明（設計）人: 劉德健;葉超;孫凱
• 申請（專利權）人: 深圳市安健科技股份有限公司
• 主分類號: G06T5/00
• 分類號: G06T5/00;G06T7/60
• 代理公司: 深圳市恒申知識產權事務所(普通合伙) 44312
• 代理人: 袁文英

1.一種X光散射線擬合校正方法，其特征在于，所述校正方法包括以下步驟：

采集X光的原始圖像，基于金字塔分層模型從所述原始圖像中提取第N層的低分辨率圖像；

根據所述低分辨率圖像中各個點光源的亮度值確定所述各個點光源對應的照射范圍，利用所述照射范圍得到對應的所述點光源的照射強度，根據所述照射強度確定對應的所述點光源照射對應的照射范圍內的各像素點的亮度值，將不同點光源對同一像素點的亮度值疊加，以得到所述各個點光源照射對應的照射范圍內的各像素點的總亮度值，將所述各像素點的總亮度值作為初始散射線圖的總亮度值，對所述初始散射線圖的所有像素點的所述總亮度值進行亮度調整，得到包含所有點光源的照射范圍的像素點的第一散射線圖；

對所述第一散射線圖進行非線性處理，以獲取優化后的第二散射線圖；

對所述第二散射線圖進行插值處理，得到與所述原始圖像具有相同分辨率的第三散射線圖，將所述原始圖像與所述第三散射線圖的各個像素點進行差值運算，得到校正后的圖像。

2.如權利要求1所述一種X光散射線擬合校正方法，其特征在于，所述根據所述低分辨率圖像中各個點光源的亮度值確定所述各個點光源對應的照射范圍的步驟包括：

根據所述低分辨率圖像中各個點光源的亮度值確定所述各個點光源的最大照射半徑和最小照射半徑；

利用所述各個點光源的亮度值、所述最大照射半徑和所述最小照射半徑計算所述各個點光源的總照射半徑，以獲得所述照射范圍；

其中，所述總照射半徑的計算公式如下：

R＝R_min+(R_max-R_min)/I_Detect_D6(i,j)

當R_min＝0時，R＝R_max/I_Detect_D6(i,j)

其中，R表示所述總照射半徑，R_min表示所述最小照射半徑，R_max表示所述最大照射半徑，(i,j)表示所述點光源的坐標位置，I_Detect_D6(i,j)表示所述點光源的亮度值。

3.如權利要求1所述一種X光散射線擬合校正方法，其特征在于，所述利用所述照射范圍得到對應的所述點光源的照射強度的步驟包括：

利用點光源的照射范圍的總照射半徑獲取尺度參數，所述尺度參數如下：

其中，σ表示所述尺度參數，R表示所述總照射半徑，n表示預設常數；

利用所述尺度參數得到所述點光源的照射強度，公式如下：

其中，f(x)表示所述點光源的照射強度，μ表示所述點光源的位置，所述點光源的坐標為(i,j)，x表示所述照射范圍內的任一像素點的橫坐標位置，所述任一像素點的坐標為(x,y)。

4.如權利要求1所述一種X光散射線擬合校正方法，其特征在于，所述對所述初始散射線圖的所有像素點的所述總亮度值進行亮度調整，得到包含所有點光源的照射范圍的像素點的第一散射線圖的步驟包括：

對所述初始散射線圖進行平滑濾波后，進行值閾歸一化處理，統計所述初始散射線圖的亮度值的直方圖和預設光源的亮度值的直方圖，并根據所述直方圖得到亮度系數，根據所述亮度系數對所述初始散射線圖的所有像素點的所述總亮度值進行亮度調整，得到包含所有點光源的照射范圍的像素點的第一散射線圖。

5.如權利要求1所述一種X光散射線擬合校正方法，其特征在于，所述對所述第一散射線圖進行非線性處理，以獲取優化后的第二散射線圖的步驟包括：

對所述第一散射線圖進行非線性處理，得到所述第二散射線圖；公式如下：

I_scatter_2＝a+b·log_c(I_scatter_D6)

I_scatter_2表示所述第二散射線圖，I_scatter_D6表示所述第一散射線圖，a、b、c表示預設參數；

利用所述低分辨率圖像和所述第二散射線圖得到候選真實圖像，根據所述候選真實圖像的對比度進行排選，得到優化后的第二散射線圖。