[發明專利]一種先進陶瓷層的制備方法

在審

• 申請號: 201910453200.5
• 申請日: 2019-05-28
• 公開（公告）號: CN110218965A
• 公開（公告）日: 2019-09-10
• 發明（設計）人: 徐俊陽;李加
• 申請（專利權）人: 沈陽富創精密設備有限公司
• 主分類號: C23C4/134
• 分類號: C23C4/134;C23C4/02;C23C4/11
• 代理公司: 沈陽優普達知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 21234
• 代理人: 俞魯江

1.一種先進陶瓷層的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：

(1)噴涂前，將不需要噴涂的地方進行遮蔽保護，將需要噴涂的地方進行增加粗糙度的預處理工作；

(2)將細小顆粒甚至是納米級顆粒溶于液體中，并添加防凝固劑，防止顆粒團聚；

(3)再用大氣等離子噴涂技術將懸浮液中的顆粒噴涂到零件表面，形成一層致密的先進陶瓷層；

(4)噴涂后，測量陶瓷層厚度，將遮蔽保護去掉。

2.根據權利要求1所述的一種先進陶瓷層的制備方法，其特征在于，所述步驟(1)遮擋保護的方法可以采用軟遮擋方法，具體采用遮蔽膠水；或者硬遮擋方法，具體采用遮蔽模塊；增加噴涂區域粗糙度的方法可以采用噴砂、激光紋理的方法。

3.根據權利要求1所述的一種先進陶瓷層的制備方法，其特征在于，所述步驟(2)中，細小顆粒是指10μm以下，常規熱噴涂技術無法實現的顆粒大小，以及納米級的顆粒；溶于的液體可以是水、甲醇或乙醇；根據不同的顆粒類型，可以添加不同的防凝固劑。

4.根據權利要求1所述的一種先進陶瓷層的制備方法，其特征在于，所述步驟(3)中的大氣等離子噴涂技術將懸浮液送漿器連接，實現噴涂細小甚至納米級顆粒的方法，在噴涂過程中，送漿器內將有攪拌棒不斷地攪拌溶液，防止細小顆粒沉入溶液底部；該陶瓷層可以是氧化鋁陶瓷層或以釔為基的陶瓷層，如氧化釔涂層。

5.根據權利要求1所述的一種先進陶瓷層的制備方法，其特征在于，所述步驟(4)中，噴涂后，要測量陶瓷層厚度，若其厚度能夠達到要求，則可以去除遮蔽保護。

6.根據權利要求1所述的一種先進陶瓷層的制備方法，其特征在于，該陶瓷層具有細小甚至納米顆粒的優良性能，其致密性極高，導致陶瓷層的耐腐蝕性、硬度很高。應用于半導體設備內的具有耐腐蝕性要求的零部件上，可以提高零部件的使用壽命。