[發(fā)明專利]復(fù)合型錳氧化合物薄膜及其制備方法與應(yīng)用

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910408052.5
• 申請(qǐng)日: 2019-05-15
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN110224118A
• 公開(kāi)（公告）日: 2019-09-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 俞兆喆;魏堃;程燕;楊道國(guó);徐華蕊;蔡苗;朱歸勝;顏東亮
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 桂林電子科技大學(xué)
• 主分類號(hào): H01M4/36
• 分類號(hào): H01M4/36;H01M4/50;H01M4/505;H01M10/0525;H01M4/131;C23C14/08;C23C14/34;H01G11/30;H01G11/46;H01G11/86
• 代理公司: 深圳盛德大業(yè)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44333
• 代理人: 左光明

1.一種復(fù)合型錳氧化合物薄膜的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：

將錳氧化合物靶材和能量密度貢獻(xiàn)主體元素靶材在惰性氣氛下進(jìn)行共濺射處理，在基體上生長(zhǎng)復(fù)合型錳氧化合物薄膜。

2.如權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于：所述能量密度貢獻(xiàn)主體元素靶材包括硅、錫、鈦、釩、鋁、金、銀、銅、鉬、鈷中的至少一種單質(zhì)靶或合金靶或硅、錫、鈦、釩、鋁、金、銀、銅、鉬、鈷中的至少一種化合物靶；和/或

所述共濺射處理的濺射功率滿足：濺射所述錳氧化合物靶材功率與濺射能量密度貢獻(xiàn)主體元素靶材的功率比為4:1～1:4。

3.如權(quán)利要求1所述的制備方法，其特征在于：在所述共濺射處理過(guò)程中，所述基體的溫度控制為200℃-700℃；和/或

所述濺射氣氛為氮?dú)狻鍤狻睔庵械闹辽僖环N與氧氣的混合氣體氣氛。

4.如權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的制備方法，其特征在于：所述錳氧化合物靶材是按照如下方法制備：

將錳氧化合物于有機(jī)粘結(jié)劑按比例混合處理，再于40-60MPa/min的升壓速度下將壓力升到設(shè)計(jì)壓力進(jìn)行模壓處理，后按照10-30MPa/min的速度泄壓，得到素坯；將所述素坯先按照1-5℃/min的條件下升到600-800℃，保溫3-6h；再按照1-5℃/min的條件升至800-1200℃進(jìn)行燒結(jié)處理；

和/或

將錳氧化合物粉體鋪設(shè)在基板表面上，然后對(duì)所述錳氧化合物粉體進(jìn)行干壓處理；

和/或

所述錳氧化合物靶材為一氧化錳、二氧化錳、三氧化二錳、錳酸鋰、高錳酸鋰、富鋰錳酸鋰中的至少一種。

5.如權(quán)利要求4所述的制備方法，其特征在于：所述干壓處理為采用5噸單向壓力對(duì)所述錳氧化合物粉體進(jìn)行直接施壓處理。

6.如權(quán)利要求1-3、5任一項(xiàng)所述的制備方法，其特征在于：所述基體為化學(xué)電源負(fù)極集流體。

7.一種復(fù)合型錳氧化合物薄膜，其特征在于：所述復(fù)合型錳氧化合物薄膜是按照權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的制備方法生長(zhǎng)形成。

8.一種電極片，包括集流體，其特征在于：在所述集流體表面上還結(jié)合有復(fù)合型錳氧化合物薄膜，所述復(fù)合型錳氧化合物薄膜是按照權(quán)利要求1-5任一項(xiàng)所述的制備方法在所述集流體上生長(zhǎng)形成。

9.如權(quán)利要求8所述的電極片，其特征在于：所述復(fù)合型錳氧化合物薄膜的厚度為0.1-10μm。

10.如權(quán)利要求8或9所述的電極片在鋰離子電池或超級(jí)電容器中的應(yīng)用。