[發明專利]一種用于電化學識別色氨酸對映體的殼聚糖/脫氧核糖核酸修飾電極的制備方法

在審

• 申請號: 201910361752.3
• 申請日: 2019-04-30
• 公開（公告）號: CN109975379A
• 公開（公告）日: 2019-07-05
• 發明（設計）人: 孫一新;何家輝;張嶸;盛揚
• 申請（專利權）人: 常州大學
• 主分類號: G01N27/327
• 分類號: G01N27/327;G01N27/30
• 代理公司: 常州市英諾創信專利代理事務所(普通合伙) 32258
• 代理人: 朱麗莎

1.一種用于電化學識別色氨酸對映體的殼聚糖/脫氧核糖核酸修飾電極的制備方法，其特征在于，步驟如下：

a、制備殼聚糖修飾電極：配制殼聚糖溶液，將玻碳電極浸入殼聚糖溶液中，浸泡一定時間，得到殼聚糖修飾電極；

b、制備殼聚糖/脫氧核糖核酸修飾電極：配制脫氧核糖核酸溶液，將步驟a制備的殼聚糖修飾電極用水清洗后浸泡在脫氧核糖核酸溶液中一定時間，取出室溫晾干，得到殼聚糖/脫氧核糖核酸修飾電極；

c、電化學識別色氨酸對映體：以殼聚糖/脫氧核糖核酸修飾電極為工作電極，Ag/AgCl電極為參比電極，鉑絲電極為對電極，將該三電極體系浸入配制的L-/D-色氨酸溶液中，孵育一定時間后，使用脈沖伏安法進行測試。

2.根據權利要求1所述用于電化學識別色氨酸對映體的殼聚糖/脫氧核糖核酸修飾電極的制備方法，其特征在于：所述步驟a中殼聚糖溶液的濃度為1～3mg/mL，浸泡時間為20～60min。

3.根據權利要求1所述用于電化學識別色氨酸對映體的殼聚糖/脫氧核糖核酸修飾電極的制備方法，其特征在于：所述步驟b中脫氧核糖核酸溶液濃度為1～3mg/mL，浸泡時間為10～30min。

4.根據權利要求1所述用于電化學識別色氨酸對映體的殼聚糖/脫氧核糖核酸修飾電極的制備方法，其特征在于：所述步驟c中L-/D-色氨酸的濃度均為0.05～0.8mM。

5.根據權利要求1所述用于電化學識別色氨酸對映體的殼聚糖/脫氧核糖核酸修飾電極的制備方法，其特征在于：所述步驟c中掃描電位為0.4～1.0V，孵育時間為1～15min。