[發(fā)明專利]一種降低重金屬離子廢水污染物排放的處理裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910351655.6 | 申請日: | 2019-04-28 |
| 公開(公告)號: | CN109879488A | 公開(公告)日: | 2019-06-14 |
| 發(fā)明(設計)人: | 蔣曙;蔣旗;呂國良 | 申請(專利權)人: | 無錫市道格環(huán)保科技有限公司 |
| 主分類號: | C02F9/04 | 分類號: | C02F9/04;C02F101/20;C02F103/16 |
| 代理公司: | 北京棧橋知識產權代理事務所(普通合伙) 11670 | 代理人: | 劉亞娟 |
| 地址: | 214206 江蘇省無錫市*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 重金屬離子廢水 分離組件 過濾組件 沉降 處理罐 污染物排放 重金屬離子 處理裝置 控制裝置 自動排渣 去除 廢水 大顆粒雜質 初級過濾 分離廢水 接頭裝置 金屬離子 內部設置 上端 沉淀腔 過濾腔 排放口 收集箱 濾板 排出 下端 | ||
1.一種降低重金屬離子廢水污染物排放的處理裝置,其特征在于,包括處理罐(1)、過濾組件(2)、沉降組件(3)、分離組件(4)和控制裝置;所述處理罐(1)內部設置有過濾腔(10)、沉淀腔(11)和分離腔(12),處理罐(1)上端設置有接頭裝置(13),處理罐(1)下端設置有收集箱(14);所述過濾腔(10)、沉淀腔(11)和分離腔(12)從上至下依次設置在處理罐(1)內部,過濾腔(10)和沉淀腔(11)上均設置有貫穿處理罐(1)的排放口(15),過濾腔(10)和沉淀腔(11)內部均設置有濾板(16)和自動排渣組件(5),所述自動排渣組件(5)用于排出過濾腔(10)和沉淀腔(11)內部的雜質,所述沉淀腔(11)和分離腔(12)內部均設置有錐形導流濾板(17),所述分離腔(12)下端設置有收集口(120),所述收集口(120)與收集箱(14)貫通;所述過濾組件(2)用于對重金屬離子廢水進行初級過濾,去除廢水中大顆粒雜質;所述沉降組件(3)用于使重金屬離子絮凝成團;所述分離組件(4)用于分離廢水中細小的金屬離子;所述控制裝置用于控制過濾組件(2)、沉降組件(3)和分離組件(4)的運行;
所述沉降組件(3)包括絮凝劑投加箱(30)、投加噴頭(31)和攪拌器(32),所述絮凝劑投加箱(30)設置在沉淀腔(11)內部的錐形導流濾板(17)下端靠近錐頂處,絮凝劑投加箱(30)上設置有連通處理罐(1)外部的投加管,絮凝劑投加箱(30)內部裝有復合絮凝劑,所述投加噴頭(31)與絮凝劑投加箱(30)導通,所述攪拌器(32)設置在沉淀腔(11)內部;
所述分離組件(4)包括轉動電機(40)、磁性轉筒(41)和收集槽(42),所述收集槽(42)設置在分離腔(12)內部,收集槽(42)下端設置有開口,所述開口與收集口(120)連接,所述磁性轉筒(41)設置在收集槽(42)內部,且磁性轉筒(41)緊貼收集槽(42),磁性轉筒(41)和收集槽(42)均設置有相互配合的刮齒(43),所述轉動電機(40)為磁性轉筒(41)提供動力;
所述控制裝置包括控制器、處理器和控制面板,所述控制器與攪拌器(32)和轉動電機(40)連接,所述處理器和控制面板分別與控制器連接。
2.根據權利要求1所述的一種降低重金屬離子廢水污染物排放的處理裝置,其特征在于,所述過濾組件(2)包括壓濾板(20)和壓縮氣缸(21),所述過濾腔(10)內部設置有導向卡槽(22),所述壓濾板(20)活動卡接在所述導向卡槽(22)上,壓濾板(20)中心位置設置有開孔,所述開孔與接頭裝置(13)通過蛇形軟管(23)連接,所述壓縮氣缸(21)設置在過濾腔(10)內部上端,壓縮氣缸(21)為壓濾板(20)提供動力。
3.根據權利要求1所述的一種降低重金屬離子廢水污染物排放的處理裝置,其特征在于,所述自動排渣組件(5)包括壓板(50)、電動伸縮桿(51)、主桿(52)和排渣板(53),所述主桿(52)貫穿接頭裝置(13)后依次貫穿兩個濾板(16)和沉淀腔(11)內部的錐形導流濾板(17),所述壓板(50)設置在主桿(52)上端,所述電動伸縮桿(51)設置在壓板(50)和接頭裝置(13)之間,電動伸縮桿(51)為主桿(52)提供的動力,所述排渣板(53)設置有兩個,兩個排渣板(53)分別固定設置在主桿(52)上,且兩個排渣板(53)分別位于兩個濾板(16)的下方,兩個排渣板(53)上均設置有堵頭(530),兩個濾板(16)上均設置有排渣孔(160),所述堵頭(530)能夠穿過排渣孔(160)。
4.根據權利要求1所述的一種降低重金屬離子廢水污染物排放的處理裝置,其特征在于,所述復合絮凝劑按照質量百分比組成為:烷基苯磺酸鹽18%、鎂鹽29%、鋁鹽26%、硅酸鹽19%和高分子絮凝劑8%。
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