[發明專利]脫氣系統和執行液體的脫氣工藝的方法以及飲料處理機有效
| 申請號: | 201910331844.7 | 申請日: | 2019-04-24 |
| 公開(公告)號: | CN110393951B | 公開(公告)日: | 2022-03-15 |
| 發明(設計)人: | J·賈思特 | 申請(專利權)人: | 克朗斯股份公司 |
| 主分類號: | B01D19/00 | 分類號: | B01D19/00;A23L2/76;A23L2/54 |
| 代理公司: | 北京博思佳知識產權代理有限公司 11415 | 代理人: | 林祥 |
| 地址: | 德國新*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 脫氣 系統 執行 液體 工藝 方法 以及 飲料 處理機 | ||
本發明涉及脫氣系統(1、23),其具有控制裝置(17、36)、脫氣罐(2、24),脫氣罐具有構造成將液體引入其中的第一空間區域(3、25)和構造成將來自第一空間區域(3、25)的液體引入其中的第二空間區域(4、26)。第一和第二空間區域通過分隔元件(5、27)部分彼此分隔。提供可控泵(15、34),當運行泵時,可控泵將液體從第一空間區域泵送至第二空間區域以用于兩級真空脫氣工藝。控制裝置控制泵使得該泵對于單級真空脫氣工藝不運行,而對于兩級真空脫氣工藝運行。此外,本發明涉及利用根據本發明的脫氣系統執行液體的脫氣工藝的方法。此外,本發明涉及包括脫氣系統和設置在脫氣系統下游的灌裝設備的飲料處理機。
技術領域
本發明涉及一種脫氣系統、一種執行液體的脫氣工藝的方法以及一種飲料處理機。
背景技術
專利申請DE2020871公開了用于在至少兩個階段中真空脫氣液體的方法和設備。第一脫氣階段中,液體可以以已知的方式預脫氣。隨后,預脫氣的液體被加熱,并在加熱后轉移至第二脫氣階段。在第二脫氣階段中,從液體中溢出的氣體和蒸汽組分被再循環至第一脫氣階段,并且兩個脫氣階段都通過共同的真空泵單元被排空。
S〃Blüml等人著的《灌裝技術手冊-液體產品的灌裝基礎》(Behr's Verlag出版社,漢堡,2004年,ISBN 3-89947-089-3)公開了在飲料生產中所需的用于水的脫氣的最重要的技術是物理過程,包括壓力脫氣、真空脫氣以及組合的壓力和真空脫氣。壓力脫氣的原理是基于通過添加二氧化碳(CO2)而將氧氣和氮氣組分從水中去除。真空脫氣是基于脫氣罐中的真空環境。待脫氣的水通過噴嘴被注入脫氣罐中,并且由于負壓,水中的氧氣和氮氣組分從罐中被去除和提取。
DE102009031106A1公開了用于使液體脫氣的方法和裝置。在真空殼體中,液體可以通過噴射脫氣單元噴射和脫氣。然后,通過傳感器可在真空殼體內檢測液體,從而確定其中仍然存在哪種氣體組分。根據傳感器測得的氣體含量值,控制單元確保已經去除全部氣體或部分氣體的全部或部分液體通過回流管線供給而循環至第二噴射脫氣單元并被再次脫氣。然而,作為另一種選擇,通過排放單元將容納在真空殼體中的部分或全部液體排放并且然后提供它以供進一步使用也是可能的。
發明內容
本發明的目的是提供一種能夠降低介質的消耗并延長循環泵的使用壽命的脫氣系統,以及利用這種脫氣系統工作的相應的有效方法。
根據本發明的脫氣系統包括控制裝置、脫氣罐,所述脫氣罐具有第一空間區域和第二空間區域,所述第一空間區域構造成例如通過一個或多個噴嘴將液體引入其中,所述第二空間區域構造成例如通過一個或多個噴嘴將來自所述第一空間區域的所述液體引入其中,在所述第一空間區域和所述第二空間區域之間設置有管線,并且所述第一空間區域和所述第二空間區域通過至少一個分隔元件部分地彼此分隔。提供一種可控泵,其構造成在運行所述泵時將液體從所述第一空間區域通過所述管線泵送至所述第二空間區域以用于兩級真空脫氣工藝(two-stage vacuum degassing process)。所述控制裝置配置成控制泵,使得所述泵對單級真空脫氣工藝(single-stage vacuum degassing process)不運行,而對兩級真空脫氣工藝運行。
由于可控泵,可以在單級和兩級真空脫氣工藝之間很容易地改變脫氣系統的使用。這還可以導致泵的更長的使用壽命,并且可以例如根據液體或通過利用將要使用該液體生產的產品執行控制。
為了將所述液體分別引入所述第一空間區域和所述第二空間區域,不僅可以使用一個或多個噴嘴,還可以使用能夠精細地分配液體的任何種類的已知現有技術的裝置,使得該液體將具有最大可能的表面。同樣地,將所述液體引入所述第一空間區域或所述第二空間區域中使得形成液態膜是可以想到的。
所述至少一個分隔元件可以構造成:使得在所述單級真空脫氣工藝中,來自所述第一空間區域的液體能夠溢出所述至少一個分隔元件而進入所述第二空間區域中,并且在所述兩級脫氣工藝中,所述液體通過所述至少一個分隔元件被保留在所述第一空間區域中。
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