[發明專利]用于監視二次電力設備的方法、裝置以及電子系統

在審

• 申請號: 201910329968.1
• 申請日: 2019-04-23
• 公開（公告）號: CN110858495A
• 公開（公告）日: 2020-03-03
• 發明（設計）人: 南錫鉉;吉珉成;林亨澤;金相勛
• 申請（專利權）人: 三星電子株式會社
• 主分類號: G11C5/14
• 分類號: G11C5/14;G01R31/382
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 邵亞麗

1.一種監視二次電力設備的方法，該方法包括：

通過將電力從充電單元供應到包括至少一個電容器的所述二次電力設備，由從所述充電單元對所述二次電力設備進行充電；

通過使用所述至少一個電容器的電壓，由校準單元在第一校準間隔中設置第一參考參數；

通過使用所述至少一個電容器的電壓和所述第一參考參數，由所述校準單元在第二校準間隔中設置第二參考參數；

通過使用所述第二參考參數，由電平設置單元設置用于檢查所述二次電力設備的狀態的參考電平；以及

通過使用所述參考電平，由監視單元來監視所述二次電力設備的狀態。

2.如權利要求1所述的方法，其中所述至少一個電容器的電壓經由所述充電單元的充電操作在局部最大值和局部最小值之間波動，

其中設置所述第一參考參數包括：

檢測所述第一校準間隔中所述至少一個電容器的電壓的最大值；

檢測所述第一校準間隔中所述至少一個電容器的電壓的最小值；以及

將所述最大值和所述最小值的平均值設置為所述第一參考參數。

3.如權利要求2所述的方法，其中設置所述第二參考參數包括：

通過使用所述第一參考參數，在所述第二校準間隔中，將所述至少一個電容器的電壓分類為高狀態間隔和低狀態間隔；

在所述第二校準間隔中，檢測所述高狀態間隔中的第一局部最大值，并計算作為所述第一局部最大值的平均值的第一平均值；

在所述第二校準間隔中，檢測所述低狀態間隔中的第一局部最小值，并計算作為所述第一局部最小值的平均值的第二平均值；以及

將所述第一平均值和所述第二平均值的平均值設置為所述第二參考參數。

4.如權利要求3所述的方法，其中設置所述參考電平包括，將關于被設置為所述第二參考參數的中心值的±△的范圍設置為所述參考電平。

5.如權利要求4所述的方法，其中△被設置為固定值或者相對于所述第一平均值與所述第二平均值之間的差的百分比(％)。

6.如權利要求1所述的方法，還包括：

通過使用所述參考電平，測量所述至少一個電容器的放電時間；以及

將所述放電時間與設定的參考時間進行比較，以確定所述二次電力設備是否正在異常操作。

7.如權利要求6所述的方法，還包括：

通過測量所述至少一個電容器的多個放電時間并將其求平均，獲得平均放電時間；以及

將所述平均放電時間與所述參考時間進行比較，以確定所述二次電力設備是否正在異常操作。

8.如權利要求1所述的方法，其中通過在設定的時段重復執行從設置所述第一參考參數到設置所述參考電平的操作，校準所述參考電平，或者

在重置所述第二參考參數和重置所述參考電平時，通過使用在設置所述第二參考參數之后檢測到的所述至少一個電容器的電壓，實時地校準所述參考電平。

9.一種監視二次電力設備的方法，該方法包括：

通過將電力從充電單元供應到所述二次電力設備，由從所述充電單元對包括至少一個電容器的所述二次電力設備進行充電；

通過使用所述至少一個電容器的電壓，由校準單元在第一校準間隔中設置第一參考參數，其中所述電壓在局部最大值和局部最小值之間波動；

通過使用所述至少一個電容器的電壓和所述第一參考參數，由所述校準單元在第二校準間隔中設置第二參考參數；

由電平設置單元將參考電平設置為關于被設置為所述第二參考參數的中心值的±△的范圍；以及

通過使用所述參考電平，由監視單元來監視所述二次電力設備的狀態，

其中從設置所述第一參考參數到設置所述參考電平的操作在設定的時段進行重復。