[發明專利]電子照相用構件、處理盒和電子照相設備有效
| 申請號： | 201910317697.8 | 申請日： | 2019-04-19 |
| 公開（公告）號： | CN110389502B | 公開（公告）日： | 2023-10-03 |
| 發明（設計）人： | 有村秀哉;小松宏彰;山田真樹 | 申請（專利權）人： | 佳能株式會社 |
| 主分類號： | G03G5/06 | 分類號： | G03G5/06;G03G5/09 |
| 代理公司： | 北京魏啟學律師事務所 11398 | 代理人： | 魏啟學 |
| 地址： | 日本東京都大*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 電子 照相 構件 處理 設備 | ||
1.一種電子照相用構件，其包括：導電性基體；和作為最外層的導電層，其特征在于，所述導電層含有A、B和C：
A具有含氮雜環陽離子結構的樹脂；
B陰離子；和
C DBP吸收量為45ml/100g以上且90ml/100g以下和CTAB吸附比表面積為50m2/g以上且100m2/g以下的炭黑。
2.根據權利要求1所述的電子照相用構件，其中在所述導電層中，X、Y和Z滿足下式(1)：
其中X表示所述B的陰離子的質量，以g為單位，Y表示所述C的炭黑的CTAB吸附比表面積，以m2/g為單位，且Z表示所述C的炭黑的質量，以g為單位。
3.根據權利要求1所述的電子照相用構件，其中所述B的陰離子為選自雙(三氟甲磺酰基)酰亞胺陰離子、雙(五氟乙磺酰基)酰亞胺陰離子、雙(九氟丁磺酰基)酰亞胺陰離子和N,N-六氟丙烷-1,3-二磺酰基酰亞胺陰離子中的任一者。
4.根據權利要求1所述的電子照相用構件，其中所述炭黑的揮發物含量為1.5％以上。
5.根據權利要求1所述的電子照相用構件，其中所述A的結構具有由結構式(1)和(2)表示的結構的任一者或二者：
其中R11～R15和R21～R26各自獨立地選自以下a～c，且R11～R15中的至少之一為c和R21～R26中的至少之一為c，其中a為氫原子，b為具有1～6個碳原子的飽和烴基，且c為含有鍵合至樹脂的部分的結構。
6.根據權利要求1所述的電子照相用構件，其中所述A的結構具有由結構式(3)和(4)表示的結構的任一者或二者：
其中R31～R35和R41～R46各自獨立地選自以下a～c，且R31～R35中的兩個為c和R41～R46中的兩個為c，其中a為氫原子，b為具有1～6個碳原子的飽和烴基，且c為含有鍵合至樹脂的部分的結構。
7.一種電子照相用構件，其包括：導電性基體；和作為最外層的導電層，其特征在于，
所述導電層含有A、B和C：
A具有陽離子結構的樹脂；
B陰離子；和
C DBP吸收量為45ml/100g以上且90ml/100g以下和CTAB吸附比表面積為50m2/g以上且100m2/g以下的炭黑。
8.一種處理盒，將其構造為可拆卸地安裝至電子照相設備的主體且具有選自由充電構件、顯影構件和清潔構件組成的組中的至少之一，其特征在于，
所述充電構件、所述顯影構件和所述清潔構件中的至少之一為根據權利要求1～7任一項所述的電子照相用構件。
9.一種電子照相設備，其包括選自由充電構件、顯影構件和清潔構件組成的組中的至少之一，其特征在于，
所述充電構件、所述顯影構件和所述清潔構件中的至少之一為根據權利要求1～7任一項所述的電子照相用構件。
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