[發明專利]將含銻材料儲存和輸送到離子注入機

有效

• 申請號: 201910307927.2
• 申請日: 2019-04-17
• 公開（公告）號: CN111613505B
• 公開（公告）日: 2023-06-30
• 發明（設計）人: A·雷伊尼克爾;A·K·辛哈;D·C·黑德曼
• 申請（專利權）人: 普萊克斯技術有限公司
• 主分類號: H01J37/08
• 分類號: H01J37/08;H01J37/317
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 張萍;林毅斌

1.一種低于大氣壓的儲存和輸送器皿，所述低于大氣壓的儲存和輸送器皿被配置用于在環境條件下從其中輸送含銻材料的高純度蒸氣相的穩定、持續和充足的流，包括：

儲存和輸送器皿，所述儲存和輸送器皿被配置用于在低于大氣壓的條件下將所述含銻材料保持在液相中，由此所述液相與占據所述儲存和輸送器皿中預定體積的頂部空間的所述高純度蒸氣相基本平衡，并且所述高純度蒸氣相施加小于大氣壓力的蒸氣壓，所述高純度蒸氣相基于所述預定體積等于95體積％或更大；

所述預定體積的所述頂部空間的尺寸被設定成接收所述含銻材料的足夠量的所述高純度蒸氣相；

所述儲存和輸送器皿包括具有足夠表面積與所述液相接觸的多個壁，并且進一步地，其中所述多個壁表現出熱導率以增強在所述環境條件下進入所述液相的熱傳導；

所述儲存和輸送器皿的特征在于在分配所述高純度蒸氣相含銻材料期間不存在外部加熱并且不存在載氣。

2.根據權利要求1所述的低于大氣壓的儲存和輸送器皿，其中所述預定體積為1升或更大。

3.根據權利要求1所述的低于大氣壓的儲存和輸送器皿，其中將所述高純度蒸氣相含銻材料輸送到下游離子源，并且進一步地，其中所述含銻材料由含非碳的化學式表示，以減少或消除在離子注入機的電弧室中和所述離子源的整個其他區域中形成碳基沉積物。

4.根據權利要求1所述的低于大氣壓的儲存和輸送器皿，其中所述低于大氣壓的儲存和輸送器皿能夠以介于0.3sccm至10sccm的流速提供所述含銻材料的所述高純度蒸氣相的所述持續和充足的流。

5.根據權利要求1所述的低于大氣壓的儲存和輸送器皿，其中所述頂部空間的所述預定體積為1.5升或更大。

6.根據權利要求3所述的低于大氣壓的儲存和輸送器皿，其中所述頂部空間的所述預定體積大于1.5升，所述多個壁的所述熱導率的范圍是從5W/m-K到425W/m-K，所述含銻材料由含非碳的化學式表示，以減少或消除在所述電弧室中和所述離子源的整個其他區域中形成碳基沉積物，所述低于大氣壓的儲存和輸送器皿能夠以介于1sccm至5sccm的流速將所述持續和充足的所述高純度蒸氣相含銻材料流提供給離子注入工具。

7.根據權利要求1所述的低于大氣壓的儲存和輸送器皿，還包括雙端口閥，所述雙端口閥包括填充端口閥和排放端口閥，其中所述填充端口閥與所述器皿的內部流體連通，以將所述含銻材料引入其中，并且排放端口閥與從氣缸的內部延伸到外部的流動排放路徑流體連通，以從其中排放所述高純度蒸氣相含銻材料。

8.根據權利要求1所述的低于大氣壓的儲存和輸送器皿，還包括位于所述器皿內部的填料材料，其中所述填料材料至少部分地浸入所述含銻材料的所述液相中，以增強通過所述多個壁并進入所述液相的熱傳導，并且增強所述含銻材料的所述液相蒸發到所述預定體積的所述頂部空間中。

9.根據權利要求1所述的低于大氣壓的儲存和輸送器皿，其中暴露于所述高純度蒸氣相的所述液相的表面積為至少50cm2。

10.根據權利要求1所述的低于大氣壓的儲存和輸送器皿，其中所述器皿被配置為操作使得所述液相中的所述含銻材料在不存在外部加熱的情況下在所述預定體積的所述頂部空間中形成所述相應的高純度蒸氣相的蒸發的速率等于或大于在不存在載氣的情況下在分配所述高純度蒸氣相期間所述相應的蒸氣相從所述預定體積的所述頂部空間排出的速率。