[發(fā)明專利]石墨基座

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910307319.1
• 申請(qǐng)日: 2019-04-17
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN110079790B
• 公開(kāi)（公告）日: 2020-12-22
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 胡任浩;丁杰;周飚;胡加輝;李鵬
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 華燦光電（浙江）有限公司
• 主分類號(hào): C23C16/458
• 分類號(hào): C23C16/458
• 代理公司: 北京三高永信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11138
• 代理人: 徐立

1.一種石墨基座，所述石墨基座(100)為圓盤形結(jié)構(gòu)，所述石墨基座(100)的第一圓形端面(110)設(shè)有多個(gè)用于容納外延片的圓形槽(10)，所述第一圓形端面(110)上的所有所述圓形槽(10)的圓心位于至少兩個(gè)同心圓(A)上，其特征在于，所述石墨基座(100)的第一圓形端面(110)還設(shè)有至少一個(gè)第一環(huán)形槽(20)，所述石墨基座(100)的第二圓形端面(120)設(shè)有至少一個(gè)第二環(huán)形槽(30)；所述至少兩個(gè)同心圓(A)的圓心、所述至少一個(gè)第一環(huán)形槽(20)的圓心與所述第一圓形端面(110)的圓心重合，所述至少一個(gè)第二環(huán)形槽(30)的圓心與所述第二圓形端面(120)的圓心重合，所述至少一個(gè)第二環(huán)形槽(30)的總體積大于所述至少一個(gè)第一環(huán)形槽(20)的總體積。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的石墨基座，其特征在于，每個(gè)所述圓形槽(10)在所述第二圓形端面(120)上的投影與各個(gè)所述第二環(huán)形槽(30)在所述第二圓形端面(120)上的投影不重合。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的石墨基座，其特征在于，所述至少一個(gè)第二環(huán)形槽(30)與所述至少一個(gè)第一環(huán)形槽(20)一一對(duì)應(yīng)，每個(gè)所述第一環(huán)形槽(20)在所述第二圓形端面(120)上的投影位于對(duì)應(yīng)的所述第二環(huán)形槽(30)在所述第二圓形端面(120)上的投影內(nèi)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的石墨基座，其特征在于，所述第二環(huán)形槽(30)的寬度與所述第一環(huán)形槽(20)的寬度相同。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的石墨基座，其特征在于，所述第一環(huán)形槽(20)的邊緣與所述圓形槽(10)的邊緣之間的最小距離為3mm～10mm。

6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的石墨基座，其特征在于，所述第二環(huán)形槽(30)的寬度小于對(duì)應(yīng)的所述第一環(huán)形槽(20)的寬度的3倍。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的石墨基座，其特征在于，所述第二環(huán)形槽(30)的寬度等于對(duì)應(yīng)的所述第一環(huán)形槽(20)相鄰的兩個(gè)所述同心圓(A)上所述圓形槽(10)的邊緣之間的最小距離。

8.根據(jù)權(quán)利要求1～7任一項(xiàng)所述的石墨基座，其特征在于，所述至少兩個(gè)同心圓(A)中，相鄰兩個(gè)所述同心圓(A)之間均設(shè)有一個(gè)所述第一環(huán)形槽(20)。

9.根據(jù)權(quán)利要求1～7任一項(xiàng)所述的石墨基座，其特征在于，所述第二環(huán)形槽(30)的寬度沿從所述第二圓形端面(120)的圓心向所述第二圓形端面(120)的邊緣的方向逐漸減小。

10.根據(jù)權(quán)利要求1～7任一項(xiàng)所述的石墨基座，其特征在于，所述第二環(huán)形槽(30)的深度沿從所述第二圓形端面(120)的圓心向所述第二圓形端面(120)的邊緣的方向逐漸減小。