[發明專利]一種提高三維NAND閃存存儲器耐久性的方法在審
| 申請號: | 201910293996.2 | 申請日: | 2019-04-12 |
| 公開(公告)號: | CN110112135A | 公開(公告)日: | 2019-08-09 |
| 發明(設計)人: | 陳杰智;曹芮;楊文靜 | 申請(專利權)人: | 山東大學 |
| 主分類號: | H01L27/1157 | 分類號: | H01L27/1157;H01L21/324 |
| 代理公司: | 濟南金迪知識產權代理有限公司 37219 | 代理人: | 陳桂玲 |
| 地址: | 250199 山*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 三維 編程操作 擦除狀態 高溫退火 擦除 退火 修復 存儲單元 數據損壞 用戶設定 存儲器 錯誤率 減小 寫入 架構 | ||
1.一種提高三維NAND閃存存儲器耐久性的方法,其特征是:
基于三維架構NAND閃存存儲器,對于進行多次擦除和編程操作的器件,當BER到達用戶設定的閾值后,將存儲器最后保持為擦除狀態,再對器件進行退火。
2.根據權利要求1所述提高三維NAND閃存存儲器耐久性的方法,其特征是:所述BER的檢測是對NAND矩陣中的單個NAND器件進行檢測,或者是對單個器件中的一個Block進行檢測。
3.根據權利要求1所述提高三維NAND閃存存儲器耐久性的方法,其特征是:所述退火是在150℃-250℃的溫度下保持1-72小時,之后在常溫下冷卻。
4.根據權利要求1所述提高三維NAND閃存存儲器耐久性的方法,其特征是:所述退火是在180-220度保持2小時-20小時,之后在常溫下冷卻。
5.根據權利要求1所述提高三維NAND閃存存儲器耐久性的方法,其特征是:所述退火條件是在200度保持3個小時,之后在常溫下冷卻。
6.根據權利要求1所述提高三維NAND閃存存儲器耐久性的方法,其特征是:所述退火通過以下途徑實現:通過芯片下方的電路對檢測后的Block所在的芯片進行退火,或者是將檢測后的Block所在的芯片從NAND矩陣中取出進行退火。
7.根據權利要求1所述提高三維NAND閃存存儲器耐久性的方法,其特征是:將存儲器最后保持為擦除狀態時,如果在擦除之前要對之前存儲的信息進行保存,將信息先復制到相鄰的NAND閃存存儲器或相鄰的Block中。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





