[發(fā)明專利]液晶顯示裝置及其制造方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910284363.5 | 申請日: | 2019-04-10 |
| 公開(公告)號: | CN110361879A | 公開(公告)日: | 2019-10-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 永田尚志;海瀨泰佳;中村仁 | 申請(專利權(quán))人: | 夏普株式會社 |
| 主分類號: | G02F1/1333 | 分類號: | G02F1/1333 |
| 代理公司: | 深圳市賽恩倍吉知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44334 | 代理人: | 汪飛亞;習(xí)冬梅 |
| 地址: | 日本國大*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 相機 液晶顯示裝置 光透過區(qū)域 液晶層 液晶面板 光透過 折射率各向異性 相機圖像 雙折射 折射率 偏光 入射 制造 外部 | ||
本發(fā)明提供當(dāng)來自外部的偏光經(jīng)由液晶層入射到相機時可防止光的雙折射對相機圖像造成不良影響的液晶顯示裝置及其制造方法。液晶顯示裝置(1A)的液晶面板(10A)的一部分供相機(3)的光透過。液晶面板(10A)中,供相機(3)的光透過的相機光透過區(qū)域(S1)中的液晶層(14)為折射率各向同性,并且,除相機光透過區(qū)域(S1)外的非相機光透過區(qū)域(S2)中的液晶層(14)為折射率各向異性。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種顯示部的一部分供入射至相機的光透過的液晶顯示裝置及其制造方法。
背景技術(shù)
以前,如下的液晶顯示裝置已為人所知,即,在顯示面板內(nèi)的無像素或彩色濾光片的部分設(shè)置相機用透過部。
例如專利文獻1公開的顯示器裝置中,在黑色矩陣形成供光透過的透過孔,并且使來自外部的光穿過透過孔及液晶層而入射到相機的內(nèi)部。
所述專利文獻1公開的顯示器裝置中,例如,通過向透過孔填充具有與基板相同折射率的填充材料,而防止因所述透過孔產(chǎn)生衍射現(xiàn)象。
現(xiàn)有技術(shù)文獻
專利文獻
[專利文獻1]:日本公開專利公報“日本專利特開2013-205840號公報(2013年10月7日公開)”
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題
順便提及,光經(jīng)由液晶層入射的內(nèi)置相機的顯示面板中,當(dāng)入射到相機的光具有偏光成分(例如來自水面的反射等)時,存在因相機用透過部的液晶層的雙折射而引起著色或遮光的問題。
其原因在于,由于對相機用透過部的液晶層也以與有源區(qū)域所具有的像素的部分相同的方式實施取向處理,而成為液晶分子在同一方向上排列的狀態(tài)。其結(jié)果,當(dāng)具有偏光成分的光穿過進行了取向處理而具有偏光成分液晶分子時,具有不必要的雙折射效應(yīng)。
然而,所述專利文獻1公開的顯示器裝置中,并沒有公開由于來自外部的具有偏光成分的光的雙折射而對相機圖像造成的不良影響。
本發(fā)明的一形態(tài)是鑒于所述現(xiàn)有問題而完成的,提供當(dāng)來自外部的偏光經(jīng)由液晶層入射到相機時可防止光的雙折射對相機圖像造成不良影響的液晶顯示裝置及其制造方法。
解決問題的方法
為了解決所述問題,本發(fā)明的一形態(tài)的液晶顯示裝置是顯示部的一部分供入射至相機的光透過的液晶顯示裝置,其特征在于,所述顯示部中,供所述入射至相機的光透過的相機光透過區(qū)域中的液晶層為折射率各向同性,并且,除所述相機光透過區(qū)域外的非相機光透過區(qū)域中的液晶層為折射率各向異性。
本發(fā)明的一形態(tài)的液晶顯示裝置的制造方法是顯示部的一部分供入射至相機的光透過的液晶顯示裝置的制造方法,其特征在于,使所述顯示部中的供所述入射至相機的光透過的相機光透過區(qū)域的液晶層具有折射率各向同性,并且,使所述顯示部中的除所述相機光透過區(qū)域外的非相機光透過區(qū)域的液晶層具有折射率各向異性。
發(fā)明效果
根據(jù)本發(fā)明的一形態(tài),實現(xiàn)如下效果:提供當(dāng)來自外部的偏光經(jīng)由液晶層入射到相機時可防止光的雙折射對相機圖像造成不良影響的液晶顯示裝置及其制造方法。
附圖說明
圖1是表示本發(fā)明的實施方式1中的液晶顯示裝置的構(gòu)成的剖視圖。
圖2(a)是表示所述液晶顯示裝置中的液晶面板的構(gòu)成的前視圖,圖2(b)是表示所述液晶顯示裝置中的液晶面板的變形例的構(gòu)成的前視圖。
圖3是表示用于使所述液晶顯示裝置中的未賦予取向功能的取向膜成為賦予取向功能的取向膜的通過光取向進行的取向功能賦予處理的剖視圖。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





