[發明專利]基板支承單元和具有該基板支承單元的基板處理裝置有效
| 申請號: | 201910277790.0 | 申請日: | 2019-04-08 |
| 公開(公告)號: | CN110349885B | 公開(公告)日: | 2023-08-08 |
| 發明(設計)人: | 金賢秀 | 申請(專利權)人: | 細美事有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
| 地址: | 韓國忠淸南道天安*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 支承 單元 具有 處理 裝置 | ||
1.一種用于支承基板的裝置,所述裝置包括:
卡盤臺,所述卡盤臺具有由底表面和側壁限定的內部空間;
加熱單元,所述加熱單元設置在所述內部空間中,其中,所述加熱單元包括底板和熱生成部件,所述底板具有在中心有開口的盤形狀,所述熱生成部件安裝在所述底板上、且具有配置成發射光能的加熱光源;
石英窗,所述石英窗配置成覆蓋所述內部空間,所述石英窗具有其上放置所述基板的上表面;以及
反射構件,所述反射構件配置成將在所述卡盤臺的橫向方向損失的光能向所述基板反射。
2.根據權利要求1所述的裝置,其中,所述反射構件設置在圍繞所述熱生成部件的所述石英窗的邊緣的內表面上。
3.根據權利要求2所述的裝置,其中,所述石英窗的邊緣的內表面是傾斜的從而從頂部到底部更靠近所述石英窗的中心。
4.根據權利要求2所述的裝置,其中,所述石英窗的邊緣的內表面形成為凹向所述基板的邊緣。
5.根據權利要求1所述的裝置,其中,所述反射構件由反射板或反射涂膜形成。
6.根據權利要求1所述的裝置,所述裝置還包括:
旋轉部件,所述旋轉部件與所述卡盤臺結合以旋轉所述卡盤臺,所述旋轉部件具有中空形狀;和
后噴嘴,所述后噴嘴插入穿過所述旋轉部件并位于所述卡盤臺的上部的中心,所述后噴嘴被配置成將處理液噴射到所述基板的后表面上。
7.根據權利要求2所述的裝置,其中,所述加熱光源由在相對于所述底板的中心以不同半徑同心地設置的環形燈具形成。
8.根據權利要求7所述的裝置,其中,所述底板由配置成將所述燈具的光能向上反射的反射器形成。
9.根據權利要求8所述的裝置,其中,所述底板包括反射突起,所述反射突起位于所述燈具下方,且以突起形狀突出以發散從所述燈具發射的光能。
10.根據權利要求9所述的裝置,其中,各所述反射突起具有三角形橫截面,所述三角形橫截面遠離相應的所述燈具逐漸變寬。
11.根據權利要求1或8所述的裝置,其中,所述底板還包括設置在所述底板的中心部位的傾斜反射表面,以增加所述基板的中心區域的光的集中度。
12.根據權利要求1或8所述的裝置,其中,所述底板還包括設置在所述底板的中心部位的凸形反射表面,以增加所述基板的中心區域上的光的集中度。
13.根據權利要求1所述的裝置,其中,所述反射構件設置在圍繞所述熱生成部件的所述石英窗的邊緣的內表面上,并且所述反射構件包括彎曲反射表面,以將所述加熱光源的光能聚集在所述基板的邊緣區域中的預定位置處的靶位上。
14.根據權利要求13所述的裝置,其中,所述彎曲反射表面的縱向截面具有部分橢圓的形狀。
15.根據權利要求13所述的裝置,其中,所述彎曲反射表面的縱向截面是具有以所述加熱光源的發光點和所述靶位作為橢圓的兩個焦點的部分橢圓形截面。
16.根據權利要求13所述的裝置,其中,所述靶位位于所述基板的邊緣區域中的圖案化部分的中心附近,而不是其邊緣區域中的未圖案化部分。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





