[發(fā)明專利]一種底盤同心旋轉(zhuǎn)式微波高通量材料處理裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201910274579.3
• 申請(qǐng)日: 2019-04-08
• 公開（公告）號(hào): CN109922555B
• 公開（公告）日: 2020-12-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 許磊;王澤民;郭勝惠;張利波;彭金輝;夏仡;鄭善舉;韓朝輝;巨少華;李世偉;徐彰
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 昆明理工大學(xué)
• 主分類號(hào): H05B6/80
• 分類號(hào): H05B6/80;G01J5/00
• 代理公司: 北京高沃律師事務(wù)所 11569
• 代理人: 杜陽陽

1.一種底盤同心旋轉(zhuǎn)式微波高通量材料處理裝置，其特征在于，包括微波源發(fā)生器(101)、微波反應(yīng)腔(102)和溫度采集設(shè)備(107)；

所述微波源發(fā)生器(101)用于產(chǎn)生微波，并將所述微波通過波導(dǎo)管(113)傳輸?shù)剿鑫⒉ǚ磻?yīng)腔(102)內(nèi)；

所述微波反應(yīng)腔(102)內(nèi)設(shè)置有旋轉(zhuǎn)臺(tái)(105)、保溫桶(103)和坩堝模具(104)；所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)(105)設(shè)置于所述微波反應(yīng)腔(102)底部，所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)(105)上設(shè)置有所述保溫桶(103)，所述保溫桶(103)內(nèi)設(shè)置有所述坩堝模具(104)，所述坩堝模具(104)設(shè)置于所述保溫桶(103)底部，且所述坩堝模具(104)用于盛放坩堝(106)；

所述坩堝模具(104)上設(shè)置有多個(gè)第一凹槽，所述第一凹槽用于放置坩堝(106)，各所述第一凹槽均勻分布于第一圓周上；所述保溫桶(103)頂部設(shè)置有多個(gè)第一固定孔，所述第一固定孔與所述第一凹槽對(duì)應(yīng)設(shè)置；所述微波反應(yīng)腔(102)頂部設(shè)置有第一采集孔，所述第一采集孔位于所述第一圓周的正上方；

所述保溫桶(103)隨所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)(105)旋轉(zhuǎn)時(shí)，所述溫度采集設(shè)備(107)通過所述第一采集孔和所述第一固定孔對(duì)所述坩堝(106)內(nèi)的物料進(jìn)行溫度的采集；

所述坩堝模具(104)上還設(shè)置有多個(gè)第二凹槽，所述第二凹槽用于放置坩堝(106)，各所述第二凹槽均勻分布于第二圓周上；所述第一圓周和所述第二圓周為同心圓，所述保溫桶(103)頂部設(shè)置有多個(gè)第二固定孔，所述第二固定孔與所述第二凹槽對(duì)應(yīng)設(shè)置；所述微波反應(yīng)腔(102)頂部設(shè)置有第二采集孔，所述第二采集孔位于所述第二圓周的正上方；所述保溫桶(103)隨所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)(105)旋轉(zhuǎn)時(shí)，所述溫度采集設(shè)備(107)通過所述第二采集孔和所述第二固定孔對(duì)所述坩堝(106)內(nèi)的物料進(jìn)行溫度的采集；

所述坩堝(106)為碳化硅坩堝，通過調(diào)控所述坩堝(106)的碳化硅含量進(jìn)行升溫控制，在相同加熱條件下能同步升溫或異步升溫；

所述溫度采集設(shè)備(107)為紅外測(cè)溫儀，所述紅外測(cè)溫儀的測(cè)溫范圍為350～1600℃，當(dāng)所述保溫桶(103)隨所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)(105)旋轉(zhuǎn)時(shí)，通過爐蓋(114)頂部的所述紅外測(cè)溫儀對(duì)各所述坩堝(106)內(nèi)的物料進(jìn)行測(cè)溫，測(cè)溫間隔時(shí)間通過控制所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)(105)的轉(zhuǎn)速進(jìn)行調(diào)控；所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)(105)由鈦板制成；所述旋轉(zhuǎn)臺(tái)(105)上放置有支撐板(115)，所述支撐板(115)的材質(zhì)為金屬鈦或鈦合金；

所述裝置還包括循環(huán)水冷機(jī)(109)，所述循環(huán)水冷機(jī)(109)與所述微波源發(fā)生器(101)上的水冷套連通，用于冷卻所述微波源發(fā)生器(101)；

所述裝置還包括報(bào)警設(shè)備，所述報(bào)警設(shè)備用于在未通入循環(huán)水啟動(dòng)報(bào)警或爐門未密閉條件下進(jìn)行斷電保護(hù)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的底盤同心旋轉(zhuǎn)式微波高通量材料處理裝置，其特征在于，所述裝置還包括控制系統(tǒng)，所述控制系統(tǒng)分別與所述溫度采集設(shè)備(107)和所述微波源發(fā)生器(101)連接，所述控制系統(tǒng)根據(jù)所述溫度采集設(shè)備(107)采集到的溫度數(shù)據(jù)對(duì)所述微波源發(fā)生器(101)的功率進(jìn)行調(diào)節(jié)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的底盤同心旋轉(zhuǎn)式微波高通量材料處理裝置，其特征在于，所述裝置還包括氣壓測(cè)量設(shè)備，用于測(cè)量所述微波反應(yīng)腔(102)內(nèi)的壓力；所述微波反應(yīng)腔(102)上設(shè)置有進(jìn)氣管和排氣管，所述進(jìn)氣管上設(shè)置有進(jìn)氣閥(111)，所述排氣管上設(shè)置有排氣閥(112)；所述控制系統(tǒng)分別與所述氣壓測(cè)量設(shè)備、所述進(jìn)氣閥(111)和所述排氣閥(112)連接，所述控制系統(tǒng)根據(jù)壓力數(shù)據(jù)控制所述進(jìn)氣閥(111)或所述排氣閥(112)的開閉。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的底盤同心旋轉(zhuǎn)式微波高通量材料處理裝置，其特征在于，所述裝置還包括真空泵(110)，所述真空泵(110)和所述微波反應(yīng)腔(102)連通，所述真空泵(110)用于對(duì)所述微波反應(yīng)腔(102)內(nèi)的氣體進(jìn)行抽真空。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的底盤同心旋轉(zhuǎn)式微波高通量材料處理裝置，其特征在于，所述坩堝(106)為摻雜氧化鋁、氧化硅或氧化鐵的碳化硅坩堝。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的底盤同心旋轉(zhuǎn)式微波高通量材料處理裝置，其特征在于，所述保溫桶(103)由莫來石材料制成。