[發(fā)明專利]一種掃頻RCS測試中抑制射頻干擾的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201910266783.0
• 申請日: 2019-04-03
• 公開（公告）號: CN110061790B
• 公開（公告）日: 2021-07-09
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 呂鳴;高超;候浩浩;劉芳
• 申請（專利權(quán)）人: 北京環(huán)境特性研究所
• 主分類號: H04B17/20
• 分類號: H04B17/20;H04B1/10
• 代理公司: 北京格允知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11609
• 代理人: 張沫;譚輝

本發(fā)明涉及一種掃頻RCS測試中抑制射頻干擾的方法，方法包括步驟：S1，打開測量系統(tǒng)接收機(jī)，在測試頻率范圍內(nèi)觀測并記錄射頻干擾頻譜位置；S2，在測試頻率范圍內(nèi)對目標(biāo)進(jìn)行掃頻RCS測試；S3，從掃頻測試RCS數(shù)據(jù)中剔除射頻干擾所在頻率處的測試數(shù)據(jù)；S4，利用篩選后數(shù)據(jù)計算目標(biāo)的一維散射中心；S5，利用目標(biāo)的一維散射中心在測試頻率范圍內(nèi)重構(gòu)目標(biāo)掃頻RCS。由此方法，利用目標(biāo)特征重構(gòu)被干擾頻段的目標(biāo)回波，可有效抑制RCS測試中射頻干擾。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及RCS測試技術(shù)，尤其涉及一種掃頻RCS測試中抑制射頻干擾的方法。

背景技術(shù)

在未經(jīng)電磁屏蔽處理的環(huán)境中進(jìn)行RCS測試，測試結(jié)果容易受到環(huán)境中其它射頻信號的干擾從而降低測試精度。RCS測試中常見的射頻干擾包括廣播電視信號、移動通信信號、衛(wèi)星導(dǎo)航信號等。這些干擾的特點(diǎn)是在一定時間內(nèi)穩(wěn)定出現(xiàn)、頻譜較窄且相對固定，而干擾信號的幅度、相位隨時間變化表現(xiàn)出一定的隨機(jī)性。

目前RCS測試中常用的雜波抑制方法包括矢量背景對消、空間域?yàn)V波等方法。然而上述方法處理射頻干擾時往往難以奏效。其原因在于：一、射頻干擾的幅相時變特性導(dǎo)致目標(biāo)測試時場地背景與空場地測試背景不同，從而無法通過矢量對消對射頻干擾進(jìn)行抑制；二、射頻干擾的幅相隨機(jī)特性使其難以通過成像等手段進(jìn)行積累，因此無法通過距離門濾波等空間域?yàn)V波方法將其消除。

發(fā)明內(nèi)容

針對現(xiàn)有技術(shù)中在非電磁屏蔽環(huán)境中RCS測試易受外部射頻雜波干擾影響的缺陷，提供了一種掃頻RCS測試中抑制射頻干擾的方法。

本發(fā)明的技術(shù)方案如下。

一種掃頻RCS測試中抑制射頻干擾的方法，方法包括以下步驟：

S1，打開測量系統(tǒng)接收機(jī)，在測試頻率范圍內(nèi)觀測并記錄射頻干擾頻譜位置；

S2，在測試頻率范圍內(nèi)對目標(biāo)進(jìn)行掃頻RCS測試；

S3，從掃頻測試RCS數(shù)據(jù)中剔除射頻干擾所在頻率處的測試數(shù)據(jù)；

S4，利用篩選后數(shù)據(jù)計算目標(biāo)的一維散射中心；

S5，利用目標(biāo)的一維散射中心在測試頻率范圍內(nèi)重構(gòu)目標(biāo)掃頻 RCS。

優(yōu)選的，在S3中，通過帶阻數(shù)字濾波器對掃頻測試RCS數(shù)據(jù)進(jìn)行濾波。

優(yōu)選的，在S4中，一維散射中心的計算方法包括：

首先，需要構(gòu)造與散射中心空間位置r相關(guān)的一組正交基函數(shù)組Φ(r)；

第二步，計算測量數(shù)據(jù)E(f)在Φ(r)上的投影A(r)，并將A(r)最大值記作Amax(r)，將與Amax(r)對應(yīng)的正交基函數(shù)記作

第三步，令進(jìn)行迭代計算，并重復(fù)第二步過程，直至|E(f)|ξ，退出迭代，每次迭代得到的Amax(r)即為所求的目標(biāo)散射中心。

實(shí)施本發(fā)明的，具有以下有益效果：通過分離未受射頻雜波干擾的測試數(shù)據(jù)，反演目標(biāo)沿距離分布的一維散射特征分布函數(shù)，利用目標(biāo)特征重構(gòu)被干擾頻段的目標(biāo)回波，從而實(shí)現(xiàn)抑制RCS測試中射頻干擾的目的。

附圖說明

圖1是本發(fā)明一種掃頻RCS測試中抑制射頻干擾方法的總體流程圖；

圖2是目標(biāo)一維散射中心的提取方法；

圖3是直徑為300mm的標(biāo)準(zhǔn)金屬球掃頻測量RCS(已定標(biāo))與其理論值比對；

圖4是提取的目標(biāo)一維散射中心與目標(biāo)一維距離像對比；

圖5是300mm標(biāo)準(zhǔn)金屬球RCS實(shí)測值在經(jīng)過射頻干擾抑制后與原始測量值及理論值的對比。

具體實(shí)施方式