[發明專利]一種高厚寬比微納結構的制造方法及裝置

有效

• 申請號: 201910261085.1
• 申請日: 2019-04-02
• 公開（公告）號: CN110127594B
• 公開（公告）日: 2022-03-29
• 發明（設計）人: 徐洲龍;劉振東;陳建魁;吳學洲;王培琳
• 申請（專利權）人: 華中科技大學
• 主分類號: B81C1/00
• 分類號: B81C1/00
• 代理公司: 華中科技大學專利中心 42201
• 代理人: 李智;曹葆青

1.一種高厚寬比微納結構制造裝置，其特征在于，包括上電極板、下電極板和外置高壓放大器系統，上電極板、下電極板的導線連接端分別連接外置高壓直流放大器系統的接口端，工作中已噴印微納液滴圖案的基板放置于下電極板上，外置高壓放大器系統啟動在上、下電極板之間形成電場，誘導微納液滴圖案邊緣橫向收縮并縱向拉伸，形成高厚寬比微納結構，所述上電極板包括多個子電極板，多個子電極板分別連接外置高壓放大器系統的多個通道，外置高壓放大器系統通過多個通道分別向多個子電極板輸出不同大小的電壓，還包括立柱和安裝于立柱上的Z軸電機，Z軸電機連接上電極板，Z軸電機帶動上電極板上下移動以調整上、下電極板的間距。

2.根據權利要求1所述的高厚寬比微納結構制造裝置，其特征在于，所述上電極板整體為硬質塑料制成框架，各子電極板安置在框架之中，子電極板之間通過絕緣體阻隔。

3.根據權利要求2所述的高厚寬比微納結構制造裝置，其特征在于，所述下電極板上刻有用于標定的兩條十字交叉的刻度線，下電極板的十字交叉點與上電極板的中心點對齊。

4.根據權利要求1所述的高厚寬比微納結構制造裝置，其特征在于，還包括內置于所述下電極板的加熱器和真空吸附裝置，以及與上電極板成包圍式設計的紫外燈罩，燈罩內部內置紫外燈。

5.一種權利要求1～4任意一項所述的高厚寬比微納結構制造裝置的應用方法，其特征在于，該方法具體為：向基板上已噴印的微納液滴圖案施加電場，誘導微納液滴圖案的邊緣橫向收縮且縱向拉伸，形成高厚寬比微納結構。

6.根據權利要求5所述的應用方法，其特征在于，通過在300V～20kV范圍調節電壓、在0.1mm～100mm范圍調節兩電極間距的方式施加電場。

7.根據權利要求5所述的應用方法，其特征在于，還對高厚寬比微納結構進行紫外固化或者熱固化。