[發(fā)明專利]巡檢機(jī)器人軌跡跟蹤控制方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910253727.3 | 申請(qǐng)日: | 2019-03-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN109960150B | 公開(公告)日: | 2022-06-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 郭健;王天野;李勝;袁佳泉;薛舒嚴(yán);黃迪;錢抒婷 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 南京理工大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G05B13/04 | 分類號(hào): | G05B13/04;G05D1/02 |
| 代理公司: | 南京理工大學(xué)專利中心 32203 | 代理人: | 馬魯晉 |
| 地址: | 210094 江*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 巡檢 機(jī)器人 軌跡 跟蹤 控制 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種巡檢機(jī)器人軌跡跟蹤控制方法,具體步驟為:建立車輪軸中心與機(jī)器人參考位置不重合時(shí)的機(jī)器人前輪轉(zhuǎn)向后輪驅(qū)動(dòng)的運(yùn)動(dòng)學(xué)模型;根據(jù)機(jī)器人前輪轉(zhuǎn)向后輪驅(qū)動(dòng)的運(yùn)動(dòng)學(xué)模型建立機(jī)器人的原地轉(zhuǎn)向模型;確定軌跡跟蹤控制率,完成巡檢機(jī)器人軌跡跟蹤控制。本發(fā)明控制精確度高,魯棒性好。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于軌跡跟蹤技術(shù),具體為一種巡檢機(jī)器人軌跡跟蹤控制方法。
背景技術(shù)
軌跡跟蹤控制是電力巡檢機(jī)器人的重要核心技術(shù)之一。控制巡檢機(jī)器人按既定的巡檢路線到達(dá)巡檢目標(biāo)點(diǎn)是安全完成巡檢任務(wù)的關(guān)鍵。變電站巡檢由于其場(chǎng)所的特殊性,機(jī)器人必須與電力設(shè)備保持一定的安全距離,并且有些情況下必須在高于地面10-20cm的蓋板上運(yùn)動(dòng),這就要求機(jī)器人能夠完全按照設(shè)定路線移動(dòng)。設(shè)計(jì)合理的運(yùn)動(dòng)控制律是保障機(jī)器人安全巡檢的有效手段。
目前常見的巡檢機(jī)器人軌跡跟蹤控制方法有:模糊自適應(yīng)PID控制算法:用模糊推理在線得到PID控制其參數(shù);反步法:針對(duì)方向角誤差設(shè)計(jì)了具有全局漸近穩(wěn)定的跟蹤控制律;以機(jī)器人的力矩為控制輸入,根據(jù)動(dòng)力學(xué)模型設(shè)計(jì)的自適應(yīng)滑膜控制器,用來(lái)消除機(jī)器人系統(tǒng)的參數(shù)不確定性;根據(jù)側(cè)向誤差和角度誤差設(shè)計(jì)引導(dǎo)角,并將該引導(dǎo)角作為虛擬輸入,設(shè)計(jì)控制律等。以上控制方法均考慮機(jī)器人的運(yùn)動(dòng)中心和幾何中心一致,實(shí)際上很多情況下并不一定重合,控制精度不夠。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提出了一種巡檢機(jī)器人軌跡跟蹤控制方法。
實(shí)現(xiàn)本發(fā)明的技術(shù)解決方案為:一種巡檢機(jī)器人軌跡跟蹤控制方法,具體步驟為:
步驟1、建立車輪軸中心與機(jī)器人參考位置不重合時(shí)的機(jī)器人前輪轉(zhuǎn)向后輪驅(qū)動(dòng)的運(yùn)動(dòng)學(xué)模型;
步驟2、根據(jù)機(jī)器人前輪轉(zhuǎn)向后輪驅(qū)動(dòng)的運(yùn)動(dòng)學(xué)模型建立機(jī)器人的原地轉(zhuǎn)向模型;
步驟3、確定軌跡跟蹤控制率,完成巡檢機(jī)器人軌跡跟蹤控制。
優(yōu)選地,步驟1中建立機(jī)器人前輪轉(zhuǎn)向后輪驅(qū)動(dòng)的運(yùn)動(dòng)學(xué)模型的具體步驟為:
步驟1-1、建立機(jī)器人與世界坐標(biāo)系的關(guān)系,即:
步驟1-2、根據(jù)機(jī)器人與世界坐標(biāo)系的關(guān)系求得旋轉(zhuǎn)中心坐標(biāo):
式中,L表示機(jī)器人前后兩輪的輪距,l表示機(jī)器人的幾何中心與機(jī)器人后輪軸中心之間的距離,θ為機(jī)器人的航向角,α阿爾法為前輪的轉(zhuǎn)角,d為采樣時(shí)間內(nèi)兩驅(qū)動(dòng)輪編碼器值的平均值,k-1時(shí)刻機(jī)器人在全局坐標(biāo)系中的位姿為Ok-1(xk-1,yk-1,θk-1),k時(shí)刻的位姿為Ok(xk,yk,θk)。
優(yōu)選地,步驟2建立的原地轉(zhuǎn)向模型為:
V1=-V2=V3=-V4
式中,V1,V2,V3,V4分別是左前輪、右前輪、左后輪、右后輪的線速度。
本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比,其顯著優(yōu)點(diǎn)為:本發(fā)明建立的運(yùn)動(dòng)學(xué)模型,以及原地轉(zhuǎn)向模型,更加貼合實(shí)際情況,使得控制精確度高,魯棒性好。
下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步詳細(xì)的描述。
附圖說(shuō)明
圖1為機(jī)器人坐標(biāo)系示意圖。
圖2為前輪轉(zhuǎn)向后輪驅(qū)動(dòng)模型示意圖。
圖3為機(jī)器人原地旋轉(zhuǎn)模型示意圖。
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