[發明專利]一種基于超滑結構形成的接觸式磁頭滑塊

有效

• 申請號: 201910233600.5
• 申請日: 2019-03-26
• 公開（公告）號: CN109949832B
• 公開（公告）日: 2021-06-04
• 發明（設計）人: 楊德智;張清卿
• 申請（專利權）人: 北京清正泰科技術有限公司
• 主分類號: G11B5/187
• 分類號: G11B5/187
• 代理公司: 北京中政聯科專利代理事務所(普通合伙) 11489
• 代理人: 陳超

1.一種接觸式硬盤的磁頭，包括磁頭滑塊和極尖，其特征在于：所述磁頭滑塊包括：滑塊基底和至少一個超滑結構，其中所述超滑結構包括：超滑結構基底和多個超滑片，所述多個超滑片設置在所述超滑結構基底上，所述超滑片的底面處于基本相同的平面上，多個所述超滑片以超滑面距離超滑結構基底表面的高度可進行調節的方式設置在超滑結構基底上。

2.如權利要求1所述的磁頭，其特征在于：所述超滑結構包括超滑面。

3.如權利要求2所述的磁頭，其特征在于：所述超滑面是原子級光滑的二維材料。

4.如權利要求2所述的磁頭，其特征在于：所述超滑結構包含超滑基本結構且由超滑基本結構再次排列組合形成的更大尺度的超滑結構。

5.如權利要求2所述的磁頭，其特征在于：超滑片的尺寸為1μm～100μm。

6.如權利要求5所述的磁頭，其特征在于：每個所述超滑片的厚度為100nm～10μm。

7.如權利要求1所述的磁頭，其特征在于：相鄰所述超滑片之間的平均間隔為1μm～100μm。

8.如權利要求1所述的磁頭，其特征在于：所述可進行調節的方式為將所述超滑片通過點膠技術粘結于所述超滑結構基底的凹槽中，通過適當的壓力使膠滴固化并使超滑片底部處于同一高度。

9.如權利要求1所述的磁頭，其特征在于：所述磁頭滑塊包括凹槽，所述凹槽用于容納所述超滑結構。

10.如權利要求9所述的磁頭，其特征在于：所述凹槽的數量可以為一個或多個。

11.如權利要求10所述的磁頭，其特征在于：所述超滑片的材料包括具有結構超滑性質的材料。

12.如權利要求11所述的磁頭，其特征在于：所述具有結構超滑性質的材料為石墨。

13.如權利要求12所述的磁頭，其特征在于：石墨可以為高定向熱解石墨(HOPG)、天然石墨。

14.如權利要求9所述的磁頭，其特征在于：所述滑塊基底包括多個凹槽，所述超滑結構粘結于所述滑塊基底的所述凹槽中，且一個超滑結構粘結于一個凹槽中。

15.如權利要求1所述的磁頭，其特征在于：通過彈性材料將所述超滑片設置在超滑結構基底上。

16.如權利要求15所述的磁頭，其特征在于：所述彈性材料可以為環氧樹脂膠、聚丙酯膠、丙烯酸酯膠。

17.一種硬盤設備，包括接觸式硬盤磁頭和盤體，其特征在于：所述接觸式硬盤磁頭為根據權利要求1-16所述的磁頭，所述盤體具有原子級光滑表面。

18.如權利要求17所述的硬盤設備，其特征在于：磁頭滑塊與盤體可以是平行的或者形成一定夾角。

19.一種接觸式硬盤磁頭的制備方法，其特征在于：所述方法包括：

步驟1，提供超滑結構基底；

步驟2，制備多個超滑片；

步驟3，將所述多個超滑片轉移并設置在所述超滑結構基底上，所述超滑片的底面處于基本相同的平面上，使得多個所述超滑片以超滑面距離超滑結構基底表面的高度可進行調節的方式設置在超滑結構基底上。