[發(fā)明專利]無有機(jī)沉積相3D打印氮氧化硅墨水的制備方法及其應(yīng)用有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201910202328.4 | 申請日: | 2019-03-15 |
| 公開(公告)號: | CN109761623B | 公開(公告)日: | 2021-07-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊治華;金海澤;賈德昌;鐘晶;蔡德龍;李海亮 | 申請(專利權(quán))人: | 哈爾濱工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號: | C04B35/597 | 分類號: | C04B35/597;C04B35/622;C04B35/626;B33Y70/10;B33Y10/00 |
| 代理公司: | 哈爾濱市松花江專利商標(biāo)事務(wù)所 23109 | 代理人: | 岳泉清 |
| 地址: | 150001 黑龍*** | 國省代碼: | 黑龍江;23 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 有機(jī) 沉積相 打印 氧化 墨水 制備 方法 及其 應(yīng)用 | ||
1.一種無有機(jī)沉積相3D打印氮氧化硅墨水的制備方法,其特征在于:該方法按照以下步驟進(jìn)行:
一、將氮化硅、二氧化硅和燒結(jié)助劑混合后得到混合原料,然后對混合原料進(jìn)行球磨,球磨后干燥,最后篩選后得到混合粉體;
步驟一所述混合原料中氮化硅的含量為64.4~66.5wt%,二氧化硅的含量為27.6~28.5wt%,燒結(jié)助劑為余量;
步驟一所述燒結(jié)助劑為氧化釔和氧化鋁的混合物;氧化釔和氧化鋁的質(zhì)量比為(1.5~2):1;
步驟一所述氮化硅的粒徑不大于0.7μm;二氧化硅的粒徑為45~55nm;燒結(jié)助劑的粒徑不大于2μm;
二、向步驟一的混合粉體中加入四乙二醇二甲醚和正己醇并混合,得到固液混合物;
步驟二所述固液混合物中混合粉體的體積分?jǐn)?shù)為21.50~21.80vol%,四乙二醇二甲醚的體積分?jǐn)?shù)為69.15~69.35vol%,正己醇為余量;
三、對步驟二得到的固液混合物進(jìn)行機(jī)械攪拌0.5~1h,得到混合均勻的墨水,即完成。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無有機(jī)沉積相3D打印氮氧化硅墨水的制備方法,其特征在于:步驟一所述球磨工藝為:剛玉球與混合原料按照球料質(zhì)量比為(4~8):1裝入球磨罐中,向球磨罐中加入無水乙醇作為介質(zhì),然后在混料機(jī)轉(zhuǎn)速為100~300rpm條件下球磨不低于12h。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無有機(jī)沉積相3D打印氮氧化硅墨水的制備方法,其特征在于:步驟一所述干燥工藝為:在80~90℃的水浴中攪拌蒸干。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的無有機(jī)沉積相3D打印氮氧化硅墨水的制備方法,其特征在于:步驟一所述篩選時(shí)采用不高于200目篩,保留篩下物。
5.如權(quán)利要求1所述方法制備的無有機(jī)沉積相3D打印氮氧化硅墨水在3D打印制備陶瓷構(gòu)件中的應(yīng)用。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的應(yīng)用,其特征在于:所述無有機(jī)沉積相3D打印氮氧化硅墨水在3D打印制備陶瓷構(gòu)件中的應(yīng)用按照以下步驟進(jìn)行:將無有機(jī)沉積相3D打印氮氧化硅墨水填裝在3D打印機(jī)內(nèi),進(jìn)行打印得到3D陶瓷濕坯,將3D陶瓷濕坯干燥,最后進(jìn)行燒結(jié),得到氮氧化硅陶瓷構(gòu)件,即完成。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的應(yīng)用,其特征在于:所述干燥工藝為:首先將3D陶瓷濕坯置于烘箱中,在50~60℃恒溫干燥120~140h;然后將3D陶瓷濕坯置于馬弗爐中,以1~2℃/min的升溫速率升溫至550~650℃并保溫2~3h。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的應(yīng)用,其特征在于:所述燒結(jié)工藝為:在惰性氣氛、氣壓為0.1~0.2MPa和溫度為1600~1700℃條件下,加熱2~3h。
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