[發(fā)明專利]一種觀察透明晶片指定區(qū)域微觀形貌的快速定位方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201910168455.7 | 申請(qǐng)日: | 2019-03-06 |
| 公開(公告)號(hào): | CN109799242A | 公開(公告)日: | 2019-05-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊丹丹;李暉;張弛;高飛;孫雪蓮;程紅娟;郝建民;賴占平;李寶珠 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第四十六研究所 |
| 主分類號(hào): | G01N21/88 | 分類號(hào): | G01N21/88;G01N21/95;G01N21/958;G01N21/84 |
| 代理公司: | 天津中環(huán)專利商標(biāo)代理有限公司 12105 | 代理人: | 王鳳英 |
| 地址: | 300220*** | 國(guó)省代碼: | 天津;12 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 透明晶片 微觀形貌 快速定位 觀察 顯微鏡 方格 顯微鏡觀察 定位坐標(biāo) 方格邊長(zhǎng) 非標(biāo)產(chǎn)品 觀察區(qū)域 幾何坐標(biāo) 精準(zhǔn)定位 區(qū)域設(shè)定 填寫位置 位置通過 樣品表面 橫線 承載物 打印紙 刻錄 豎線 研發(fā) 沾污 定型 工作量 損傷 加工 科研 研究 | ||
本發(fā)明公開了一種觀察透明晶片指定區(qū)域微觀形貌的快速定位方法。該方法分兩種:1、對(duì)已知微觀形貌的透明晶片特定區(qū)域進(jìn)行定位,并對(duì)該位置進(jìn)行其他研究;2、已知定位坐標(biāo),觀察透明晶片指定區(qū)域微觀形貌。該方法所設(shè)計(jì)的坐標(biāo)物是由橫線、豎線交叉構(gòu)成的方格,在方格里填寫位置編碼,方格邊長(zhǎng)尺寸根據(jù)所需觀察區(qū)域或顯微鏡觀察區(qū)域設(shè)定;坐標(biāo)物材質(zhì)采用打印紙或采用能夠定型加工、刻錄標(biāo)識(shí)的其它材料制作的承載物。該方法具有通用性,新研發(fā)的坐標(biāo)物可在顯微鏡下使用,顯微鏡下觀察的位置通過坐標(biāo)物計(jì)算出幾何坐標(biāo)來實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)定位,減少了工作時(shí)間和不必要的工作量,避免了在樣品表面標(biāo)記帶來?yè)p傷和沾污,對(duì)于科研的非標(biāo)產(chǎn)品更具顯著的實(shí)用性。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體材料檢測(cè)分析領(lǐng)域,尤其是涉及一種觀察透明晶片指定區(qū)域微觀形貌的快速定位方法。
背景技術(shù)
在半導(dǎo)體材料領(lǐng)域,半導(dǎo)體晶片無論是襯底還是外延層在產(chǎn)品交付前或是用戶使用前或者科研研究過程中均離不開顯微鏡檢測(cè)表征。顯微鏡下觀察晶片表面狀態(tài),檢驗(yàn)晶片的表面潔凈度、損傷情況以及微觀缺陷等等。通常情況下的商業(yè)顯微鏡樣品承載平臺(tái)自帶的機(jī)械移動(dòng)裝置均有與標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)品最大尺寸匹配的限位功能(X軸移動(dòng)最大距離,Y軸移動(dòng)的最大距離),且移動(dòng)最小精度均在毫米量級(jí)。但對(duì)于處于科研狀態(tài)的產(chǎn)品均為不規(guī)則形狀產(chǎn)品,很難通過已購(gòu)買的商用標(biāo)準(zhǔn)化顯微鏡實(shí)現(xiàn)快速精準(zhǔn)的定位去觀察樣品指定區(qū)域的微觀形貌。
發(fā)明內(nèi)容
隨著現(xiàn)代科學(xué)技術(shù)不斷發(fā)展,顯微鏡的使用是每個(gè)科學(xué)工作者基礎(chǔ)工作的一部分,坐標(biāo)物是一種很常見坐標(biāo)工具,但是可以顯微鏡下使用且具有坐標(biāo)功能的是沒有標(biāo)準(zhǔn)產(chǎn)品的,但卻又是不可或缺的。采用常用Auto CAD、Pro E、Office等常用作圖軟件、辦公軟件繪制出滿足科研人員自己所需的坐標(biāo)紙是非常必要且有意義的。因此,本發(fā)明的目的是提供一種觀察透明晶片指定區(qū)域微觀形貌的快速定位方法,尤其研發(fā)了一種具有可顯微鏡下使用的帶有坐標(biāo)的坐標(biāo)物以實(shí)現(xiàn)該方法。
本發(fā)明為實(shí)現(xiàn)上述目的所采取的技術(shù)方案是:該方法包括兩種情況,第一種情況:對(duì)已知微觀形貌的透明晶片特定區(qū)域進(jìn)行定位,并對(duì)該位置進(jìn)行其他研究;第二種情況:已知定位坐標(biāo),觀察透明晶片指定區(qū)域微觀形貌;
第一種情況有以下步驟:
步驟一,根據(jù)被測(cè)樣品區(qū)域大小選取適合的坐標(biāo)物。
步驟二,制作坐標(biāo)物。
步驟三,將樣品放置在坐標(biāo)物上。
步驟四,將承載樣品的坐標(biāo)物放置在顯微鏡載物臺(tái)上。
步驟五,顯微鏡下觀察被測(cè)區(qū)域。
步驟六,確定被測(cè)區(qū)域?qū)?yīng)坐標(biāo)物上的位置,并記錄位置編碼。
步驟七,根據(jù)位置編碼計(jì)算微觀觀察區(qū)域定位坐標(biāo)。
步驟八,選擇其它性能測(cè)試儀器對(duì)該坐標(biāo)進(jìn)行測(cè)試表征。
第二種情況有以下步驟:
步驟一,根據(jù)被測(cè)樣品區(qū)域大小選取適合的坐標(biāo)物。
步驟二,制作坐標(biāo)物。
步驟三,將樣品放置在坐標(biāo)物上。
步驟四,將承載樣品的坐標(biāo)物放置在顯微鏡載物臺(tái)上。
步驟五,根據(jù)定位坐標(biāo)確定被測(cè)區(qū)域?qū)?yīng)坐標(biāo)物上的位置編碼。
步驟六,顯微鏡下按已確認(rèn)的位置編碼定位觀察被測(cè)區(qū)域。
步驟七,采集微觀形貌圖片信息。
本發(fā)明所述的坐標(biāo)物是由橫線a、豎線b交叉構(gòu)成的方格,在方格里填寫位置編碼d,方格邊長(zhǎng)為c,方格邊長(zhǎng)c尺寸根據(jù)所需觀察區(qū)域或顯微鏡觀察區(qū)域設(shè)定。
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- 專利分類
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





